標準解讀
GB/T 25186-2010《表面化學分析 二次離子質譜 由離子注入?yún)⒖嘉镔|確定相對靈敏度因子》是一項國家標準,旨在為使用二次離子質譜(SIMS)技術進行材料表層成分分析時提供一種方法來確定相對靈敏度因子。該標準適用于需要通過SIMS定量分析樣品中特定元素濃度的情況。
根據(jù)此標準,相對靈敏度因子是指在相同實驗條件下,目標元素與參考元素之間信號強度比值與其實際濃度比值之間的關系。通過已知組成的標準物質(通常是經(jīng)過精確控制劑量的離子注入材料),可以校準和計算出待測樣品中未知元素含量所對應的相對靈敏度因子。
具體實施過程中,首先選擇適合于研究目的且具有代表性的一系列已知組成的參考物質;接著,在相同的實驗參數(shù)下對這些參考物質進行SIMS測試,記錄下目標元素和參考元素各自的信號強度;然后基于所得數(shù)據(jù)計算每個參考物質的相對靈敏度因子,并繪制其隨深度變化曲線或查找最佳平均值作為最終使用的相對靈敏度因子;最后,利用這個相對靈敏度因子去估算未知樣品中相應元素的實際濃度。
整個過程強調(diào)了實驗條件一致性的重要性,包括但不限于加速電壓、初級束流密度、分析區(qū)域大小等因素都需保持一致,以確保結果準確可靠。此外,還特別指出了對于不同類型的樣品可能需要采用不同的參考物質及相應的調(diào)整措施來獲得更精確的結果。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權發(fā)布的權威標準文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2010-09-26 頒布
- 2011-08-01 實施




文檔簡介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國國家標準
GB/T25186—2010/ISO181142003
:
表面化學分析二次離子質譜
由離子注入?yún)⒖嘉镔|確定
相對靈敏度因子
Surfacechemicalanalysis—Secondary-ionmassspectrometry—
Determinationofrelativesensitivityfactorsfrom
ion-implantedreferencematerials
(ISO18114:2003,IDT)
2010-09-26發(fā)布2011-08-01實施
中華人民共和國國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
GB/T25186—2010/ISO181142003
:
前言
本標準等同采用表面化學分析二次離子質譜由離子注入?yún)⒖嘉镔|確定相對
ISO18114:2003《
靈敏度因子
》。
為了方便使用本標準做了下列編輯性修改
,:
用本標準代替本國際標準
———“”“”。
本標準由全國微束分析標準化技術委員會提出并歸口
。
本標準起草單位信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質量監(jiān)督檢驗中心
:。
本標準主要起草人馬農(nóng)農(nóng)何友琴何秀坤
:、、。
Ⅰ
GB/T25186—2010/ISO181142003
:
引言
在二次離子質譜分析中常使用離子注入物質校準儀器
,。
本標準將提供一種統(tǒng)一的方法由離子注入?yún)⒖嘉镔|來確定某種元素在特定基體中的相對靈敏度
:
因子并說明如何確定具有相同基體材料的不同樣品中該元素的濃度
,。
Ⅱ
GB/T25186—2010/ISO181142003
:
表面化學分析二次離子質譜
由離子注入?yún)⒖嘉镔|確定
相對靈敏度因子
1范圍
本標準指定了一種由離子注入?yún)⒖嘉镔|確定二次離子質譜分析中相對靈敏度因子的方法
。
本標準適用于基體化學成分單一的樣品其中注入物質的峰值原子濃度不超過
,1%。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
表面化學分析詞匯
GB/T22461—2008(ISO18115:2001,IDT)
3術語和定義
界定的術語和定義適用于本文件
GB/T22461—2008。
4符號及縮略語
AM
Ci,深度剖析的第i個周期時被分析元素A在基體M中的原子濃度用單位體積原子個數(shù)
,,
表示
;
d深度剖析中求積分用的深度用長度單位表示
,;
Aj
Ii在測試的第i周期時同位素Aj的被分析離子檢測計數(shù)率用計數(shù)表示
,,/s;
Mk
Ii在測試的第i周期時參考同位素Mk的檢測計數(shù)率用計數(shù)表示
,,/s;
IAj的被分析離子的平均本底計數(shù)率用計數(shù)表示
BG,/s;
NAj未知樣品中被分析同位素Aj的豐度值
,;
n深度剖析中求積分用的深度所包含的周期數(shù)
;
?同位素Aj的注入劑量用單位面積原子個數(shù)表示
,;
相對靈敏度因子用單位體積原子個數(shù)表示
RSF,;
二次離子質譜
SIMS。
5原理
可以從離子注入外標準物質的深度剖析中得出特定的元素基體組合中某一同位素的相對
SIMS,-
靈敏度因子該可以用來定量給出基體材料相同的不同樣品中同一特定元素濃度隨深度
(RSF)。RSF
的變化公式如下
,:
AMkA
j,j
AMi
,
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