模擬電子技術(shù)-第1章-常用半導(dǎo)體器件-場效應(yīng)管-劉廣孚_第1頁
模擬電子技術(shù)-第1章-常用半導(dǎo)體器件-場效應(yīng)管-劉廣孚_第2頁
模擬電子技術(shù)-第1章-常用半導(dǎo)體器件-場效應(yīng)管-劉廣孚_第3頁
模擬電子技術(shù)-第1章-常用半導(dǎo)體器件-場效應(yīng)管-劉廣孚_第4頁
模擬電子技術(shù)-第1章-常用半導(dǎo)體器件-場效應(yīng)管-劉廣孚_第5頁
已閱讀5頁,還剩15頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1§1.5場效應(yīng)晶體管絕緣柵場效應(yīng)晶體管(MOSFET)結(jié)型場效應(yīng)晶體管(JFET)場效應(yīng)晶體管的參數(shù)思考的問題:三極管(BJT)工作時,總是從信號源吸取電流,它是一種電流控制型的器件,輸入阻抗較低。那么,場效應(yīng)管(FET)是通過什么方式來控制的?有什么特點?×2場效應(yīng)管晶體管(FieldEffectTransistor,F(xiàn)ET)是利用電場效應(yīng)來控制的有源器件,在集成電路(IC)以及微波電路中得到廣泛應(yīng)用。1.5場效應(yīng)晶體管(FET)半導(dǎo)體管的特點:體積小重量輕耗電省壽命長……FET的特點:輸入電阻高(MOSFET最高可達(dá)1015Ω)噪聲系數(shù)低熱穩(wěn)定性好工作頻率高抗輻射能力強制造工藝簡單……31.5場效應(yīng)晶體管(FET)場效應(yīng)晶體管屬于單極型晶體管。按照結(jié)構(gòu)特點,場效應(yīng)晶體管可分兩大類:

絕緣柵型場效應(yīng)管

(InsulatedGateFieldEffectTransister,IGFET)結(jié)型場效應(yīng)管(JunctionFieldEffectTransister,JFET)√41.5.1絕緣柵場效應(yīng)晶體管N溝道增強型MOSFETN溝道耗盡型MOSFETP溝道增強型MOSFETP溝道耗盡型MOSFET絕緣柵型場效應(yīng)管(InsulatedGateFieldEffectTransister,IGFET),多為金屬-氧化物-半導(dǎo)體場效應(yīng)管,(Metal

Oxide

SemiconductorFieldEffectTransister,MOSFET或MOS管)。√√51N溝道增強型MOSFET的結(jié)構(gòu)

以P型半導(dǎo)體為襯底,用B表示。氧化生成一層SiO2

薄膜絕緣層。用光刻工藝腐蝕出兩個孔。擴散兩個高摻雜的N型區(qū),形成兩個PN結(jié)。從N型區(qū)引出電極,一個是漏極D(Drain,相當(dāng)于C),一個是源極S(Source,相當(dāng)于E)。在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為

柵極G(Grid,相當(dāng)于B)。61N溝道增強型MOSFET的結(jié)構(gòu)柵極G相當(dāng)于B漏極D相當(dāng)于C源極S相當(dāng)于E襯底在內(nèi)部與源極相連襯底未與源極相連,

D與S可互換。72N溝道增強型MOSFET的工作原理柵源電壓UGS對溝道會產(chǎn)生影響漏源電壓UDS對溝道產(chǎn)生影響

1.柵源電壓UGS的控制作用先令漏源電壓UDS=0,加入柵源電壓UGS以后并不斷增加。

UGS帶給柵極正電荷,將正對SiO2層的表面下的襯底中的空穴推走,形成一層負(fù)離子層,即耗盡層,用綠色的區(qū)域表示。同時在柵極下的表層感生電子,當(dāng)電子數(shù)量較多時,在漏源之間可形成導(dǎo)電溝道。溝道中的電子和P型襯底的多子導(dǎo)電性質(zhì)相反,稱為反型層。此時若加上UDS

,就會有漏極電流ID產(chǎn)生。反型層82N溝道增強型MOSFET的工作原理

1.柵源電壓UGS的控制作用

顯然改變UGS就會改變溝道,從而影響ID

,這說明UGS對ID的控制作用。當(dāng)UGS較小時,不能形成有效的溝道,盡管加有UDS

,也不能形成ID

。當(dāng)增加UGS,使ID剛剛出現(xiàn)時,對應(yīng)的UGS稱為開啟電壓,用UGS(th)或UT表示。反型層?xùn)旁措妷篣GS對溝道會產(chǎn)生影響漏源電壓UDS對溝道產(chǎn)生影響9

2.漏源電壓UDS的控制作用

設(shè)UGS>UGS(th),增加UDS,溝道將發(fā)生變化。

顯然漏源電壓會對溝道產(chǎn)生影響,因為源極和襯底相連接,所以加入UDS后,UDS將沿漏到源逐漸降落在溝道內(nèi),漏極和襯底之間反偏最大,PN結(jié)的寬度最大。所以加入UDS后,在漏源之間會形成一個傾斜的PN結(jié)區(qū),從而影響溝道的導(dǎo)電性。

當(dāng)UDS進一步增加,ID不斷增加,同時,漏端的耗盡層上移,在漏端出現(xiàn)夾斷,稱為預(yù)夾斷。預(yù)夾斷

當(dāng)UDS進一步增加時,漏端的耗盡層向源極伸展,此時ID基本不再增加,增加的UDS基本上降落在夾斷區(qū)。此時ID只受UGS控制,進入線性放大區(qū)。10N溝道增強型MOSFET的特性曲線轉(zhuǎn)移特性曲線漏極輸出特性曲線111)

N溝道增強型MOSFET的轉(zhuǎn)移特性曲線N溝道增強型MOSFET的轉(zhuǎn)移特性曲線如左圖所示,它是說明柵源電壓UGS對漏極電流ID的控制關(guān)系,可用這個關(guān)系式來表達(dá),這條特性曲線稱為轉(zhuǎn)移特性曲線。121)

N溝道增強型MOSFET的轉(zhuǎn)移特性曲線

轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率gm反映了柵源電壓對漏極電流的控制作用。

gm稱為跨導(dǎo),是場效應(yīng)三極管的重要參數(shù)。單位mS(mA/V)132)漏極輸出特性曲線

當(dāng)UGS>UGS(th)時,ID=f(UDS)UGS=const稱為漏極輸出特性曲線。FET作為放大元件使用時,工作在恒流區(qū),UDS對ID的影響很小。但是UGS對ID的控制作用很明顯。曲線分五個區(qū)域:(1)可變電阻區(qū)(2)恒流區(qū)(放大區(qū))(3)截止區(qū)(4)擊穿區(qū)(5)過損耗區(qū)可變電阻區(qū)截止區(qū)擊穿區(qū)過損耗區(qū)14從漏極輸出特性曲線可以得到轉(zhuǎn)移特性曲線。154N溝道耗盡型MOSFET在柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了一定量的正離子。當(dāng)UGS=0時,這些正離子已經(jīng)感生出電子形成導(dǎo)電溝道。于是,只要有漏源電壓,就有漏極電流存在。轉(zhuǎn)移特性曲線164N溝道耗盡型MOSFET夾斷電壓IDSS當(dāng)UGS=0時,對應(yīng)的漏極電流用IDSS表示。

當(dāng)UGS>0時,ID進一步增加。

UGS<0時,隨著UGS的減小ID逐漸減小,直至ID=0。

對應(yīng)ID=0的UGS稱為夾斷電壓,用符號UGS(off)或UP表示。轉(zhuǎn)移特性曲線17場效應(yīng)管符號的說明:N溝道增強型MOS管,襯底箭頭向里。

漏、襯底和源、分開,表示零柵壓時溝道不通。表示襯底在內(nèi)部沒有與源極連接。N溝道耗盡型MOS管。

漏、襯底和源不斷開表示零柵壓時溝道已經(jīng)連通。N溝道結(jié)型場效應(yīng)管。沒有絕緣層。如果是P溝道,箭頭則向外。18雙極型晶體管場效應(yīng)晶體管結(jié)構(gòu)NPN型PNP型

C與E一般不可互換使用絕緣柵增強型N溝道P溝道絕緣柵耗盡型N溝道P溝道結(jié)型N溝道P溝道

D與S,有的型號可互換使用載流子多子擴散,少子漂移多子漂移輸入量電流輸入電壓輸入電流控制電流源CCCS(β)電壓控制電流源VCCS(gm)1.5.2雙極型和場效應(yīng)型晶體管的比較19雙極型晶體管場效

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評論

0/150

提交評論