標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 29557-2013 表面化學(xué)分析 深度剖析 濺射深度測量》這一標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用濺射技術(shù)進(jìn)行材料表面深度剖析時,對濺射速率和濺射深度的測量方法。適用于通過濺射去除材料表面層來獲取其成分信息或結(jié)構(gòu)信息的研究與應(yīng)用領(lǐng)域。
該標(biāo)準(zhǔn)首先明確了術(shù)語定義,如“濺射”是指在高能粒子轟擊下,固體表面原子被移除的過程;“濺射速率”指的是單位時間內(nèi)從樣品表面被移除的質(zhì)量或體積;而“濺射深度”則是指由于濺射作用導(dǎo)致材料表面向內(nèi)凹陷的最大距離。此外,還介紹了不同類型的濺射源(例如Ar+離子束)及其工作原理。
接著,《GB/T 29557-2013》詳細(xì)描述了如何準(zhǔn)備實驗樣品、選擇合適的濺射條件以及進(jìn)行實際測量的具體步驟。其中包括但不限于:確保待測樣品表面清潔平整;根據(jù)樣品性質(zhì)調(diào)整適當(dāng)?shù)臑R射功率密度、角度及時間等參數(shù);采用標(biāo)準(zhǔn)參考物質(zhì)校準(zhǔn)儀器以保證數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性;記錄并分析濺射過程中獲得的數(shù)據(jù)等。
最后,本標(biāo)準(zhǔn)也提出了關(guān)于結(jié)果表示的要求,比如應(yīng)報告所用濺射條件、測定得到的濺射速率值及其不確定度范圍等內(nèi)容,并建議采用圖形化方式直觀展示濺射深度隨時間變化的關(guān)系曲線。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2013-07-19 頒布
- 2014-03-01 實施





文檔簡介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T29557—2013/ISO/TR159692001
:
表面化學(xué)分析深度剖析
濺射深度測量
Surfacechemicalanalysis—DepthProfiling—Measurmentofsputtereddepth
(ISO/TR15969:2001,IDT)
2013-07-19發(fā)布2014-03-01實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
中華人民共和國
國家標(biāo)準(zhǔn)
表面化學(xué)分析深度剖析
濺射深度測量
GB/T29557—2013/ISO/TR15969:2001
*
中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行
北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號
2(100013)
北京市西城區(qū)三里河北街號
16(100045)
網(wǎng)址
:
服務(wù)熱線
/p>
年月第一版
201311
*
書號
:155066·1-47504
版權(quán)專有侵權(quán)必究
GB/T29557—2013/ISO/TR159692001
:
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析深度剖析濺射深度測量
ISO/TR15969:2001《》。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位中山大學(xué)浙江大學(xué)中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所
:、、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人陳建張訓(xùn)生謝方艷龔力張衛(wèi)紅盛世善
:、、、、、。
Ⅰ
GB/T29557—2013/ISO/TR159692001
:
引言
本標(biāo)準(zhǔn)適用于以下三個方面
:
當(dāng)檢測信號強度為濺射時間或離子劑量密度的函數(shù)時確定濺射剖析的深度標(biāo)尺單位時
a)(),。
間的濺射深度為濺射速率通常以為單位
(nm/s)。
增強用不同儀器得到深度剖析數(shù)據(jù)的可比性提高深度剖析的可靠性并促進(jìn)其在工業(yè)中的
b),
應(yīng)用
。
作為濺射深度測量國際標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展的基礎(chǔ)
c)。
Ⅱ
GB/T29557—2013/ISO/TR159692001
:
表面化學(xué)分析深度剖析
濺射深度測量
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了濺射深度剖析中測量濺射深度的準(zhǔn)則
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于結(jié)合離子轟擊剝離部分固體樣品的表面化學(xué)分析技術(shù)通常濺射深度可達(dá)幾微米
,。
2術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件
。
注本標(biāo)準(zhǔn)使用的術(shù)語基本上遵循[1]的定義為了與制定的定義在術(shù)語上一
:ASTME673-95c。ISO/TC201/SC1
致這些定義應(yīng)作一定修改見參考文獻(xiàn)和
,,[2][3]。
21
.
濺射深度sputtereddepth
濺射剖析剝離一定量的物質(zhì)濺射后的樣品表面與樣品原始表面之間的距離z與表面垂
,(m)(
直定義為
),:
m
z=
A…………(1)
·ρ
式中
:
m剝離的樣品量單位為千克
———,(kg);
A濺射面積單位為平方米2
———,(m);
ρ樣品密度單位為千克每立方米3
———,(kg/m)。
22
.
弧坑深度craterdepth
原始表面與產(chǎn)生被測信號的弧坑底部區(qū)域的平均距離垂直于表面
()。
注假定入射離子注入與殘留在垂直于表面方向引起樣品的膨脹隆起可以忽略[5]則弧坑深度等于濺射深度
:(“”),。
如果在分析室外通過測量弧坑深度來測定濺射深度表面反應(yīng)如氧化會增加弧坑底部隆起即通常測量的弧
,(),
坑深度小于濺射深度
。
3縮略語
俄歇電子能譜
AESAugerelectronspectroscopy
原子力顯微術(shù)
AFMAtomicforcemicroscopy
能
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