標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 40300-2021 微束分析 分析電子顯微學(xué) 術(shù)語(yǔ)》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在為微束分析領(lǐng)域中的分析電子顯微學(xué)提供一套統(tǒng)一的術(shù)語(yǔ)定義。該標(biāo)準(zhǔn)涵蓋了與分析電子顯微鏡及其相關(guān)技術(shù)有關(guān)的各種專業(yè)詞匯和技術(shù)概念,適用于科研、教育及工業(yè)應(yīng)用等多個(gè)方面。通過(guò)確立這些術(shù)語(yǔ)的標(biāo)準(zhǔn)定義,有助于促進(jìn)國(guó)內(nèi)外在這一領(lǐng)域的交流與合作,減少因語(yǔ)言或表述差異而產(chǎn)生的誤解。

標(biāo)準(zhǔn)中涉及的內(nèi)容包括但不限于:電子顯微鏡的基本構(gòu)造與工作原理;不同類型電子顯微鏡(如透射電子顯微鏡TEM、掃描電子顯微鏡SEM)的特點(diǎn)及其應(yīng)用場(chǎng)景;樣品制備方法;圖像形成機(jī)制;以及數(shù)據(jù)處理和結(jié)果解釋等方面的專業(yè)術(shù)語(yǔ)。每一條目都給出了明確的定義,并盡可能地附上了英文對(duì)照,以便于國(guó)際間的溝通。


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....

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  • 2021-08-20 頒布
  • 2022-03-01 實(shí)施
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GB/T 40300-2021微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語(yǔ)_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS7104040

CCSG.04.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T40300—2021

微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語(yǔ)

Microbeamanalysis—Analyticalelectronmicroscopy—Vocabulary

ISO159322013MOD

(:,)

2021-08-20發(fā)布2022-03-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T40300—2021

目次

前言

…………………………Ⅰ

引言

…………………………Ⅱ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

縮略語(yǔ)

3……………………1

分析電子顯微學(xué)物理基礎(chǔ)術(shù)語(yǔ)

4…………2

分析電子顯微鏡儀器術(shù)語(yǔ)

5………………5

分析電子顯微術(shù)試樣制備常用術(shù)語(yǔ)

6……………………10

分析電子顯微術(shù)成像和像處理術(shù)語(yǔ)

7……………………11

分析電子顯微術(shù)像詮釋和分析術(shù)語(yǔ)

8……………………13

分析電子顯微術(shù)像放大倍率和分辨率測(cè)量與校準(zhǔn)的術(shù)語(yǔ)

9……………16

分析電子顯微術(shù)電子衍射的術(shù)語(yǔ)

10……………………18

參考文獻(xiàn)

……………………20

索引

…………………………21

GB/T40300—2021

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

本文件修改采用微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語(yǔ)

ISO15932:2013《》。

本文件與相比增加了第章規(guī)范性引用文件

ISO15932:2013,2。

本文件做了以下編輯性修改

:

章編號(hào)改為章編號(hào)分別修改為

———01,1、2、3……83、4、5、6……10;

與重復(fù)本文件刪去了將改為

———9.95.2.1,9.9,9.109.9;

在參考文獻(xiàn)中用與國(guó)際文件有一致性對(duì)應(yīng)關(guān)系的我國(guó)文件代替國(guó)際文件調(diào)整了文獻(xiàn)順序

———,;

增加了索引

———。

本文件對(duì)有誤之處進(jìn)行了更正主要更正如下

ISO15932:2013,:

更正了縮略語(yǔ)和的定義

———“EDS”“EDX”;

縮略語(yǔ)的定義增加了顯微分析儀

———EPMA“”;

縮略語(yǔ)的定義增加了掃描電子顯微鏡

———SEM“”;

刪掉了定義中動(dòng)量守恒的含義

———4.2.1“”;

刪掉了定義中的系統(tǒng)及和或動(dòng)量

———4.2.2“”“/”;

定義中的靜電場(chǎng)更正為電位差

———“”“”;

定義中的理想柱面透鏡更改為理想透鏡

———“”“”;

刪去了定義中的繞光軸的旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性

———5.4.2“”;

定義中的試樣與形成衍射花樣的平面更正為試樣與衍射花樣被觀察平面經(jīng)中間鏡和

———5.7“”“(

投影鏡放大之間

)”;

的定義更改為同時(shí)向試樣雙面或單面噴射

———6.4“……”;

定義中的在觀察中更改為在電子顯微鏡觀察中

———6.10“TEM”““;

定義中的用環(huán)形暗場(chǎng)探測(cè)器接收一支衍射束更正為用環(huán)形暗場(chǎng)探測(cè)器接收一支或多

———7.6“”“

支衍射束

”;

定義中增加了質(zhì)量厚度加了注

———8.3“”,;

將來(lái)源有修改修改為來(lái)源有修改

———8.6.5“[:ISO22493,]”“[:ISO23833,]”;

定義中的更正為

———8.6.8EDSEDX;

定義中的更正為

———8.6.9EDSEDX;

增加了注

———8.12.1;

定義中的相機(jī)常數(shù)更正為放大倍數(shù)

———9.2.2“”“”;

定義中的探針尺寸更正為點(diǎn)光源像

———9.7“”“”;

定義中的垂直堆垛的兩個(gè)晶體中發(fā)生兩次布拉格衍射更正為晶體中的一次衍射

———“”“

束再次發(fā)生布拉格衍射

”;

更正了會(huì)聚束的概念

———10.3.6。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC38)。

本文件起草單位北京科技大學(xué)南昌大學(xué)中國(guó)科學(xué)院金屬研究所

:、、。

本文件主要起草人柳得櫓湯斌兵賀連龍

:、、。

GB/T40300—2021

引言

分析電子顯微學(xué)是應(yīng)用透射電子顯微術(shù)和掃描透射電子顯微術(shù)對(duì)固態(tài)物

(AEM)(TEM)(STEM)

質(zhì)微小體積的晶體結(jié)構(gòu)元素組成和電子態(tài)進(jìn)行定性定量測(cè)定的技術(shù)及其相關(guān)理論分析以電

、、。AEM

子激發(fā)射線能譜和電子能量損失譜的物理機(jī)制為基礎(chǔ)并通過(guò)微衍射提供微區(qū)的結(jié)構(gòu)信息

X(EELS)、,

同時(shí)具有高分辨成像能力

。

作為微束分析的一個(gè)主要分領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于各行各業(yè)高技術(shù)工業(yè)基礎(chǔ)工業(yè)冶

(MBA),AEM(、、

金地質(zhì)生物和醫(yī)學(xué)環(huán)境保護(hù)貿(mào)易等而且具有廣泛的業(yè)務(wù)環(huán)境進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化

、、、、),。

一個(gè)技術(shù)領(lǐng)域的術(shù)語(yǔ)標(biāo)準(zhǔn)化是制定該領(lǐng)域其他方面標(biāo)準(zhǔn)的先決條件

。

本文件對(duì)于需要用詞匯的國(guó)際科學(xué)和工程群體具有重要意義這些詞匯包含與

AEM,MBATEM

和相結(jié)合的實(shí)踐中所應(yīng)用術(shù)語(yǔ)的統(tǒng)一定義

STEM。

本文件是微束分析研制的一系列標(biāo)準(zhǔn)之一這些標(biāo)準(zhǔn)包含掃描電子顯微術(shù)術(shù)語(yǔ)

ISO/TC202(),

電子探針顯微分析術(shù)語(yǔ)和能譜法定量分析等其中有的已經(jīng)發(fā)

(ISO22493)、(ISO23833)(ISO22309)。

布有的仍在研制中以便完全覆蓋領(lǐng)域

,,MBA。

GB/T40300—2021

微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語(yǔ)

1范圍

本文件界定了在實(shí)踐中所用的術(shù)語(yǔ)包含一般概念和特定概念的術(shù)語(yǔ)按照系統(tǒng)順序中各

AEM。,

自的層次分類

。

本文件適用于所有和實(shí)踐相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)化文件此外本文件的某些部分適用于相關(guān)領(lǐng)域如

AEM。,(

通用術(shù)語(yǔ)的定義

TEM,STEM,SEM,EPMA,EDX)。

注見(jiàn)在線瀏覽平臺(tái)

:ISO(OBP):/obp/ui/

2規(guī)范性引用文件

本文件沒(méi)有規(guī)范性引用文件

3縮略語(yǔ)

分析電子顯微鏡分析電子顯微術(shù)

AEM/(analyticalelectronmicroscope/analyticalelectron

microscopy)

會(huì)聚束電子衍射

CBED(convergentbeamelectrondiffraction)

電荷耦合器件

CCD(charge-coupleddevice)

陰極射線管

CRT(cathoderaytube)

射線能譜儀

EDSX(energy-dispersiveX-rayspectrometer)

射線能譜法

EDXX(energy-dispersiveX-rayspectroscopy)

電子能量損失譜儀電子能量損失譜術(shù)

EELS/(electronenergylossspectrometer/electronen-

ergylossspectroscopy)

電子探針顯微分析電子探針顯微分析儀

EPMA/(electronprobemicroanalysis/electronprobe

microanalyser)

快速傅里葉變換

FFT(fastFouriertransform)

聚焦離子束

FIB(focusedionbeam)

譜峰半高寬

FWHM()(fullwidthathalfma

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