GB/T 40300-2021微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語

ICS7104040

CCSG.04.

中華人民共和國國家標準

GB/T40300—2021

微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語

Microbeamanalysis—Analyticalelectronmicroscopy—Vocabulary

ISO159322013MOD

(:,)

2021-08-20發(fā)布2022-03-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標準化管理委員會

GB/T40300—2021

目次

前言

…………………………Ⅰ

引言

…………………………Ⅱ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

縮略語

3……………………1

分析電子顯微學(xué)物理基礎(chǔ)術(shù)語

4…………2

分析電子顯微鏡儀器術(shù)語

5………………5

分析電子顯微術(shù)試樣制備常用術(shù)語

6……………………10

分析電子顯微術(shù)成像和像處理術(shù)語

7……………………11

分析電子顯微術(shù)像詮釋和分析術(shù)語

8……………………13

分析電子顯微術(shù)像放大倍率和分辨率測量與校準的術(shù)語

9……………16

分析電子顯微術(shù)電子衍射的術(shù)語

10……………………18

參考文獻

……………………20

索引

…………………………21

GB/T40300—2021

前言

本文件按照標準化工作導(dǎo)則第部分標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

本文件修改采用微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語

ISO15932:2013《》。

本文件與相比增加了第章規(guī)范性引用文件

ISO15932:2013,2。

本文件做了以下編輯性修改

:

章編號改為章編號分別修改為

———01,1、2、3……83、4、5、6……10;

與重復(fù)本文件刪去了將改為

———9.95.2.1,9.9,9.109.9;

在參考文獻中用與國際文件有一致性對應(yīng)關(guān)系的我國文件代替國際文件調(diào)整了文獻順序

———,;

增加了索引

———。

本文件對有誤之處進行了更正主要更正如下

ISO15932:2013,:

更正了縮略語和的定義

———“EDS”“EDX”;

縮略語的定義增加了顯微分析儀

———EPMA“”;

縮略語的定義增加了掃描電子顯微鏡

———SEM“”;

刪掉了定義中動量守恒的含義

———4.2.1“”;

刪掉了定義中的系統(tǒng)及和或動量

———4.2.2“”“/”;

定義中的靜電場更正為電位差

———“”“”;

定義中的理想柱面透鏡更改為理想透鏡

———“”“”;

刪去了定義中的繞光軸的旋轉(zhuǎn)對稱性

———5.4.2“”;

定義中的試樣與形成衍射花樣的平面更正為試樣與衍射花樣被觀察平面經(jīng)中間鏡和

———5.7“”“(

投影鏡放大之間

)”;

的定義更改為同時向試樣雙面或單面噴射

———6.4“……”;

定義中的在觀察中更改為在電子顯微鏡觀察中

———6.10“TEM”““;

定義中的用環(huán)形暗場探測器接收一支衍射束更正為用環(huán)形暗場探測器接收一支或多

———7.6“”“

支衍射束

”;

定義中增加了質(zhì)量厚度加了注

———8.3“”,;

將來源有修改修改為來源有修改

———8.6.5“[:ISO22493,]”“[:ISO23833,]”;

定義中的更正為

———8.6.8EDSEDX;

定義中的更正為

———8.6.9EDSEDX;

增加了注

———8.12.1;

定義中的相機常數(shù)更正為放大倍數(shù)

———9.2.2“”“”;

定義中的探針尺寸更正為點光源像

———9.7“”“”;

定義中的垂直堆垛的兩個晶體中發(fā)生兩次布拉格衍射更正為晶體中的一次衍射

———“”“

束再次發(fā)生布拉格衍射

”;

更正了會聚束的概念

———10.3.6。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔識別專利的責任

。。

本文件由全國微束分析標準化技術(shù)委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本文件起草單位北京科技大學(xué)南昌大學(xué)中國科學(xué)院金屬研究所

:、、。

本文件主要起草人柳得櫓湯斌兵賀連龍

:、、。

Ⅰ

GB/T40300—2021

引言

分析電子顯微學(xué)是應(yīng)用透射電子顯微術(shù)和掃描透射電子顯微術(shù)對固態(tài)物

(AEM)(TEM)(STEM)

質(zhì)微小體積的晶體結(jié)構(gòu)元素組成和電子態(tài)進行定性定量測定的技術(shù)及其相關(guān)理論分析以電

、、。AEM

子激發(fā)射線能譜和電子能量損失譜的物理機制為基礎(chǔ)并通過微衍射提供微區(qū)的結(jié)構(gòu)信息

X(EELS)、,

同時具有高分辨成像能力

。

作為微束分析的一個主要分領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于各行各業(yè)高技術(shù)工業(yè)基礎(chǔ)工業(yè)冶

(MBA),AEM(、、

金地質(zhì)生物和醫(yī)學(xué)環(huán)境保護貿(mào)易等而且具有廣泛的業(yè)務(wù)環(huán)境進行標準化

、、、、),。

一個技術(shù)領(lǐng)域的術(shù)語標準化是制定該領(lǐng)域其他方面標準的先決條件

。

本文件對于需要用詞匯的國際科學(xué)和工程群體具有重要意義這些詞匯包含與

AEM,MBATEM

和相結(jié)合的實踐中所應(yīng)用術(shù)語的統(tǒng)一定義

STEM。

本文件是微束分析研制的一系列標準之一這些標準包含掃描電子顯微術(shù)術(shù)語

ISO/TC202(),

電子探針顯微分析術(shù)語和能譜法定量分析等其中有的已經(jīng)發(fā)

(ISO22493)、(ISO23833)(ISO22309)。

布有的仍在研制中以便完全覆蓋領(lǐng)域

,,MBA。

Ⅱ

GB/T40300—2021

微束分析分析電子顯微學(xué)術(shù)語

1范圍

本文件界定了在實踐中所用的術(shù)語包含一般概念和特定概念的術(shù)語按照系統(tǒng)順序中各

AEM。,

自的層次分類

。

本文件適用于所有和實踐相關(guān)的標準化文件此外本文件的某些部分適用于相關(guān)領(lǐng)域如

AEM。,(

通用術(shù)語的定義

TEM,STEM,SEM,EPMA,EDX)。

注見在線瀏覽平臺

:ISO(OBP):/obp/ui/

2規(guī)范性引用文件

本文件沒有規(guī)范性引用文件

。

3縮略語

分析電子顯微鏡分析電子顯微術(shù)

AEM/(analyticalelectronmicroscope/analyticalelectron

microscopy)

會聚束電子衍射

CBED(convergentbeamelectrondiffraction)

電荷耦合器件

CCD(charge-coupleddevice)

陰極射線管

CRT(cathoderaytube)

射線能譜儀

EDSX(energy-dispersiveX-rayspectrometer)

射線能譜法

EDXX(energy-dispersiveX-rayspectroscopy)

電子能量損失譜儀電子能量損失譜術(shù)

EELS/(electronenergylossspectrometer/electronen-

ergylossspectroscopy)

電子探針顯微分析電子探針顯微分析儀

EPMA/(electronprobemicroanalysis/electronprobe

microanalyser)

快速傅里葉變換

FFT(fastFouriertransform)

聚焦離子束

FIB(focusedionbeam)

譜峰半高寬

FWHM()(fullwidthathalfma