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文檔簡介

硅片的化學腐蝕為什么要進行化學腐蝕？硅片在切片和研磨等機械加工之后，其表面因加工應力形成一層損傷層及污染．對硅片進行化學腐蝕有哪些手段？酸性腐蝕堿性腐蝕酸性腐蝕的原理是什么？常用的酸性腐蝕液，通常由不同比率的硝酸（HNO3）,氫氟酸（HF）及緩沖液等組成，其腐蝕的機理為：1.利用硝酸（HNO3）氧化硅片表面

Si+2HNO3SiO2+2HNO22HNO2NO+NO2+H2O2.利用氫氟酸（HF）與氧化硅生成可溶于水的絡合物．

SiO2+6HFH2SiF6+2H2OHF/HNO3體系腐蝕設計的原則？腐蝕速率的可控性．某種表面結構特殊工藝需求，如多晶絨面制作．尋求添加劑，使腐蝕速率更可控，可滿足高產能的需求．HF/HNO3體系中的添加劑有什么作用？緩沖腐蝕速率改善表面濕化（Wetting）程度加速腐蝕速率目的可采用化學藥品原因緩沖腐蝕速率水（H2O）,醋酸（CH3COOH）,磷酸（H3PO4）濃度稀釋加速腐蝕速率亞硝酸鈉（Na2NO2）,氟硅酸（H2SiF6）反應中間產物HF/HNO3體系的緩沖添加劑選擇條件？在HF/HNO3中化學性質穩(wěn)定在腐蝕過程中，不會與反應產物發(fā)生進一步反應可溶解在HF/HNO3之中可以濕化晶片表面不會產生化學泡沫堿腐蝕速率影響因素？表面懸掛鍵密度，與晶向有關化學濃度溫度表面機械損傷硅片在化學腐蝕后的表面特性？TTV（TotalThicknessVariation）TIR（TotalIndicatorReading）粗糙度（Roughness）反射度（Reflectivity）波度（Waviness）金屬含量太陽能電池中的硅片化學腐蝕硅表面制絨和邊緣刻蝕堿腐蝕在絨面制作上的應用？利用KOH或NaOH在腐蝕單晶硅片時在不同晶向腐蝕速率的差異性不同晶向的刻蝕速率為<110>＞

<100>＞

<111>不同晶向腐蝕速率的差異（各向異性腐蝕）與什么有關？溶液濃度，有關系，但關系不大，因為腐蝕過程受表面過程控制．溫度,溫度越低，腐蝕速率差異越大添加劑，如異丙醇IPA，通常用來減緩刻蝕速率酸腐蝕在絨面制作上的應用？利用HF/HNO3在較高化學濃度比時的缺陷腐蝕特性，使損傷層區(qū)域優(yōu)先腐蝕，形成不同于單晶金字塔結構的坑洞結構．化學腐蝕在表面拋光處理上的應用什么是拋光？拋光指形成完全

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