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5場(chǎng)效應(yīng)管放大電路5.1金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)場(chǎng)效應(yīng)管5.3結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)*5.4砷化鎵金屬-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管5.5各種放大器件電路性能比較5.2MOSFET放大電路1、MOSFET、JFET的分類及伏安關(guān)系2、MOSFET放大電路的原理及小信號(hào)分析法3、JFET放大電路的原理及小信號(hào)分析法4、場(chǎng)效應(yīng)管應(yīng)用注意事項(xiàng)重點(diǎn):

場(chǎng)效應(yīng)三極管是僅由一種載流子參與導(dǎo)電的半導(dǎo)體器件,是一種用輸入電壓控制輸出電流的的半導(dǎo)體器件。從參與導(dǎo)電的載流子來劃分,它有電子作為載流子的N溝道器件和空穴作為載流子的P溝道器件。

從場(chǎng)效應(yīng)三極管的結(jié)構(gòu)來劃分,它有兩大類。1.結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)三極管JFET

(JunctiontypeFieldEffectTransistor)2.金屬氧化物半導(dǎo)體三極管MOSFET

(MetalOxideSemiconductorFET)(MOSFET也稱絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)三極管IGFET)(InsulatedGateFieldEffectTransistor)5.1金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)場(chǎng)效應(yīng)管5.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET5.1.5MOSFET的主要參數(shù)5.1.2N溝道耗盡型MOSFET5.1.3P溝道MOSFET5.1.4溝道長(zhǎng)度調(diào)制效應(yīng)5.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET1.結(jié)構(gòu)(N溝道)L:溝道長(zhǎng)度W:溝道寬度tox

:絕緣層厚度通常W>L5.1.1N溝道增強(qiáng)型MOSFET剖面圖1.結(jié)構(gòu)(N溝道)符號(hào)2.工作原理(2)vDS對(duì)溝道的控制作用靠近漏極d處的電位升高電場(chǎng)強(qiáng)度減小溝道變薄當(dāng)vGS一定(vGS>VT)時(shí),vDSID溝道電位梯度整個(gè)溝道呈楔形分布預(yù)夾斷后,vDS夾斷區(qū)延長(zhǎng)溝道電阻ID基本不變2.工作原理(2)vDS對(duì)溝道的控制作用2.工作原理(3)vDS和vGS同時(shí)作用時(shí)

vDS一定,vGS變化時(shí)給定一個(gè)vGS,就有一條不同的iD–vDS曲線。3.

V-I特性曲線及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程②可變電阻區(qū)vDS≤(vGS-VT)由于vDS較小,可近似為rdso是一個(gè)受vGS控制的可變電阻3.

V-I特性曲線及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程②可變電阻區(qū)

n:反型層中電子遷移率Cox:柵極(與襯底間)氧化層單位面積電容本征電導(dǎo)因子其中Kn為電導(dǎo)常數(shù),單位:mA/V23.

V-I特性曲線及大信號(hào)特性方程(1)輸出特性及大信號(hào)特性方程③飽和區(qū)(恒流區(qū)又稱放大區(qū))vGS>VT

,且vDS≥(vGS-VT)是vGS=2VT時(shí)的iDV-I特性:5.1.2N溝道耗盡型MOSFET1.結(jié)構(gòu)和工作原理(N溝道)二氧化硅絕緣層中摻有大量的正離子可以在正或負(fù)的柵源電壓下工作,而且基本上無柵流5.1.2N溝道耗盡型MOSFET2.V-I特性曲線及大信號(hào)特性方程

(N溝道增強(qiáng)型)5.1.3P溝道MOSFET5.1.5MOSFET的主要參數(shù)2.低頻互導(dǎo)gm

二、交流參數(shù)考慮到則其中5.1.5MOSFET的主要參數(shù)三、極限參數(shù)1.最大漏極電流IDM

2.最大耗散功率PDM

3.最大漏源電壓V(BR)DS

4.最大柵源電壓V(BR)GS

(1)、結(jié)型場(chǎng)效管的柵源電壓不能接反,否則PN結(jié)會(huì)因正向偏置而使管子失去放大作用;(2)、結(jié)型場(chǎng)效管的漏極和源極可以互換使用;(3)、在輸入電阻要求較高時(shí),須防潮,以免使輸入電阻減小。

四場(chǎng)效管應(yīng)用時(shí)注意事項(xiàng)

B、MOS管應(yīng)用時(shí):(1)、MOS管的輸入電阻很高,致使柵極的感應(yīng)電荷不易泄放,極易造成管子擊穿,所以存放時(shí),將三個(gè)電極引線短接;(2)、MOS管的柵極與襯底間的絕緣層很薄,即使幾伏的感應(yīng)電壓也會(huì)產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度,以致?lián)舸┙^緣層,因此包裝、運(yùn)輸、焊接時(shí)要特別小心,斷電操作。(3)、MOS管的漏極和源極可以互換使用,但當(dāng)管子內(nèi)部將體極與源極連在一起時(shí),則漏源兩極不能對(duì)換使用。A、JFET管應(yīng)用時(shí):5.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算(1)簡(jiǎn)單的共源極放大電路(N溝道)直流通路共源極放大電路5.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算(1)簡(jiǎn)單的共源極放大電路(N溝道)假設(shè)工作在飽和區(qū),即驗(yàn)證是否滿足如果不滿足,則說明假設(shè)錯(cuò)誤須滿足VGS>VT,否則工作在截止區(qū)再假設(shè)工作在可變電阻區(qū)即假設(shè)工作在飽和區(qū)滿足假設(shè)成立,結(jié)果即為所求。解:例:設(shè)Rg1=60k,Rg2=40k,Rd=15k,試計(jì)算電路的靜態(tài)漏極電流IDQ和漏源電壓VDSQ。VDD=5V,VT=1V,5.2.1MOSFET放大電路1.直流偏置及靜態(tài)工作點(diǎn)的計(jì)算靜態(tài)時(shí),vI=0,VG=0,ID=I電流源偏置VS=VG-VGS(飽和區(qū))5.2.1MOSFET放大電路2.圖解分析由于負(fù)載開路,交流負(fù)載線與直流負(fù)載線相同5.2.1MOSFET放大電路3.小信號(hào)模型分析(1)模型靜態(tài)值(直流)動(dòng)態(tài)值(交流)非線性失真項(xiàng)當(dāng),vgs<<2(VGSQ-VT)時(shí),5.2.1MOSFET放大電路3.小信號(hào)模型分析(1)模型0時(shí)高頻小信號(hào)模型解:例5.2.2的直流分析已求得:(2)放大電路分析(共源極)s(A)小信號(hào)模型(2)放大電路分析(共源極)s(B)Av,Ri,Ro計(jì)算(2)放大電路分析(共漏極)共漏(A)小信號(hào)模型及Av計(jì)算(2)放大電路分析(共漏極)(B)Ri及Ro計(jì)算5.3結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管5.3.1JFET的結(jié)構(gòu)和工作原理5.3.2JFET的特性曲線及參數(shù)5.3.3JFET放大電路的小信號(hào)模型分析法5.3.1JFET的結(jié)構(gòu)和工作原理1.結(jié)構(gòu)#

符號(hào)中的箭頭方向表示什么?2.工作原理①vGS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)vGS<0時(shí)(以N溝道JFET為例)當(dāng)溝道夾斷時(shí),對(duì)應(yīng)的柵源電壓vGS稱為夾斷電壓VP(或VGS(off))。對(duì)于N溝道的JFET,VP<0。PN結(jié)反偏耗盡層加厚溝道變窄。

vGS繼續(xù)減小,溝道繼續(xù)變窄。2.工作原理(以N溝道JFET為例)②vDS對(duì)溝道的控制作用當(dāng)vGS=0時(shí),vDSIDG、D間PN結(jié)的反向電壓增加,使靠近漏極處的耗盡層加寬,溝道變窄,從上至下呈楔形分布。當(dāng)vDS增加到使vGD=VP時(shí),在緊靠漏極處出現(xiàn)預(yù)夾斷。此時(shí)vDS夾斷區(qū)延長(zhǎng)溝道電阻ID基本不變2.工作原理(以N溝道JFET為例)③

vGS和vDS同時(shí)作用時(shí)當(dāng)VP<vGS<0時(shí),導(dǎo)電溝道更容易夾斷,對(duì)于同樣的vDS,

ID的值比vGS=0時(shí)的值要小。在預(yù)夾斷處vGD=vGS-vDS=VP綜上分析可知溝道中只有一種類型的多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,

所以場(chǎng)效應(yīng)管也稱為單極型三極管。JFET是電壓控制電流器件,iD受vGS控制。預(yù)夾斷前iD與vDS呈近似線性關(guān)系;預(yù)夾斷后,iD趨于飽和。#

為什么JFET的輸入電阻比BJT高得多?

JFET柵極與溝道間的PN結(jié)是反向偏置的,因

此iG0,輸入電阻很高。5.3.2JFET的特性曲線及參數(shù)2.轉(zhuǎn)移特性1.輸出特性與MOSFET類似3.主要參數(shù)5.3.2JFET的特性曲線及參數(shù)

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