材料科學(xué)基礎(chǔ)3-1點(diǎn)缺陷3-2課件_第1頁(yè)
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概述晶體缺陷點(diǎn)缺陷線缺陷:位錯(cuò)面缺陷間隙原子與雜質(zhì)原子刃型:螺型:混合型:界面表面堆垛層錯(cuò)晶界亞晶界孿晶界bt^btt返回下頁(yè)∧b前邊討論的大都是理想的晶體結(jié)構(gòu),在理想的晶體結(jié)構(gòu)中,所有的原子都處于規(guī)則的晶體學(xué)位置上,也就是平衡位置上。但人們很早就發(fā)現(xiàn)在實(shí)際晶體中,并不是那麼完整無(wú)缺的,原子的排列不可能絕對(duì)規(guī)則和完整,總是存在著偏離完整性的區(qū)域,對(duì)此稱為晶體缺陷。根據(jù)晶體缺陷的幾何形態(tài)特征,一般將它分為三類:點(diǎn)缺陷、線缺陷和面缺陷。后退下頁(yè)(1)點(diǎn)缺陷它在三維空間各方向上尺寸都很小,亦稱為零維缺陷,如空位間隙原子和異類原子等。(2)線缺陷亦稱一維缺陷,在兩個(gè)方向上尺寸很小,主要是位錯(cuò)。(3)面缺陷在空間一個(gè)方向上尺寸很小,另外兩個(gè)方向上尺寸較大的缺陷,如晶界、相界等。后退下頁(yè)返回點(diǎn)缺陷的類型其中Ce為某一種類型點(diǎn)缺陷的平衡濃度,N為晶體的原子總數(shù),A為材料常數(shù),T-熱力學(xué)溫度,k-玻爾茲蔓常數(shù),u-該類型缺陷的形成能。

熵值的增加隨缺陷數(shù)量的變化是非線性的,(如圖4-3)所示少量點(diǎn)缺陷的存在使熵增快速增加,繼續(xù)增加點(diǎn)缺陷使熵增變化逐漸變緩。ΔU和ΔS這兩項(xiàng)相反作用的結(jié)果使自由能變化ΔA下頁(yè)上頁(yè)的走向如圖4-3的中間曲線所示,先隨晶體中缺陷數(shù)目的增多,自由能逐漸降低,然后又逐漸增高,這樣體系中在一定溫度下存在著一個(gè)平衡的點(diǎn)缺陷濃度,在該濃度下體系的自由能最低。也就是說由熱振動(dòng)產(chǎn)生的點(diǎn)缺陷屬于熱力學(xué)平衡缺陷,晶體中存在這些缺陷使自由能是降低的;相反,如果沒有這些卻陷,自由能反而升高。下頁(yè)上頁(yè)Cu晶體的空位形成能uv=0.9ev/atom或1.44*10-19J/atom材料常數(shù)A取作1,k=1.38*10-23.計(jì)算:1)在500℃下,每立方米中的空位數(shù)目;2)500℃下的平衡空位濃度。例題解:首先確定1m3體積內(nèi)原子Cu原子總數(shù)(已知Cu的摩爾質(zhì)量MCu=63.54g/mol,500℃下Cu的密度為8.96*106g/m3).

下頁(yè)上頁(yè)1)將N代入,計(jì)算空位數(shù)目ne下頁(yè)上頁(yè)2)計(jì)算空位濃度即在500°C時(shí),每106個(gè)原子中才有1.4個(gè)空位。下頁(yè)上頁(yè)下頁(yè)上頁(yè)成分的化學(xué)熱處理、成分均勻化處理,退火與正火、時(shí)效硬化處理、表面氧化及燒結(jié)等過程無(wú)一不與原子的擴(kuò)散相聯(lián)系,如果晶體中沒有缺陷,這些工藝將無(wú)法進(jìn)行。點(diǎn)缺陷還可以造成金屬物理性能與力學(xué)性能的變化。①引起電阻的增加,晶體中存在點(diǎn)缺陷。時(shí)破壞了原子排列的規(guī)律性,使電子在傳導(dǎo)時(shí)的散射增加,從而增加了電阻。②空位的存在使晶體的密度下降,體積膨脹。③空位的存在及其運(yùn)動(dòng)是晶體高溫下發(fā)生蠕變的重要原因之一。④高溫快速冷卻時(shí)保留的空位,或經(jīng)輻照處理后空位,這些過量空位往往沿一些晶面聚集,形成空位片,或它們與其他晶體缺陷發(fā)生交互作用,因而使材料強(qiáng)度有所提高,但同時(shí)也引起顯著的脆性。下頁(yè)上頁(yè)返回第二節(jié)位錯(cuò)的基本概念一.位錯(cuò)概念的引入

★1926年Frank計(jì)算了理論剪切強(qiáng)度,與實(shí)際剪切強(qiáng)度相比,相差3~4個(gè)數(shù)量級(jí),當(dāng)時(shí)無(wú)法解釋,此矛盾持續(xù)了很長(zhǎng)時(shí)間?!?934年Taylor在晶體中引入位錯(cuò)概念,將位錯(cuò)與晶體結(jié)構(gòu)、晶體的滑移聯(lián)系起來(lái)解釋了這種差異。下頁(yè)上頁(yè)二.位錯(cuò)類型

刃型位錯(cuò)原子模型刃型位錯(cuò)的局部滑移晶體的局部滑移螺型位錯(cuò)的原子組態(tài)晶體的局部滑移混合型位錯(cuò)的原子組態(tài)b^b刃型位錯(cuò)混合型位錯(cuò):螺型位錯(cuò)下頁(yè)上頁(yè)ττbτ∧螺型位錯(cuò)與刃型位錯(cuò)的區(qū)別(1)螺型位錯(cuò)中不存在多余半原子面,而是垂直于位錯(cuò)線的原子平面發(fā)生了螺旋狀的扭曲。(2)螺位錯(cuò)線的b與其位錯(cuò)線相平行,而刃位錯(cuò)線的b與其位錯(cuò)線相互垂直,這是區(qū)別螺位錯(cuò)與刃位的主要依據(jù)。(3)螺型位錯(cuò)可分為左螺型位錯(cuò)和右螺型位錯(cuò),與正負(fù)刃位錯(cuò)不同,左右螺型位錯(cuò)是不能相互轉(zhuǎn)化的,不管從哪個(gè)。下頁(yè)上頁(yè)(4)螺位錯(cuò)與刃位錯(cuò)的滑移運(yùn)動(dòng)有一個(gè)重要的差別,即刃位錯(cuò)有確定的滑移面(1)它們都是線缺陷;(2)它們都可以在外力的作用下發(fā)生滑移運(yùn)動(dòng),而且運(yùn)動(dòng)的結(jié)果都是在位錯(cuò)線滑移過的區(qū)域之中,造成了上下兩半晶刃型位錯(cuò)、螺型位錯(cuò)和混合位錯(cuò)在本質(zhì)上的共同點(diǎn):方向看,旋轉(zhuǎn)的方向是不會(huì)變的。下頁(yè)上頁(yè)下頁(yè)上頁(yè)位錯(cuò)就是按照這一方式逐漸前進(jìn),最終便離開了晶體,此時(shí)左側(cè)表面形成了一個(gè)原子間距大小的臺(tái)階,同時(shí)在位錯(cuò)移動(dòng)過的區(qū)域內(nèi),晶體的上部相對(duì)于下部也位移了一個(gè)原子間距。當(dāng)很多位錯(cuò)移出晶體時(shí),會(huì)在晶體表面產(chǎn)生宏觀可見的臺(tái)階,使晶體發(fā)生塑性應(yīng)變。顯然按位錯(cuò)滑移的方式塑變要比兩個(gè)相鄰原子面整體相對(duì)運(yùn)動(dòng)容易得多,因此晶體的實(shí)際強(qiáng)度比理論強(qiáng)度低得多。后退下頁(yè)三.柏氏矢量

●位錯(cuò)是b不為零的晶體缺陷,在完全晶體中做與含缺陷的晶體封閉回路相同的回路,終點(diǎn)指向始點(diǎn)的矢量即為b(柏氏回路)。●柏氏矢量確定方法:圖4-14后退下頁(yè)(1)一條位錯(cuò)線可以是彎曲的任意形狀,因?yàn)槲诲e(cuò)線的各個(gè)部分可以是不同性質(zhì)的位錯(cuò),但是它們的柏氏矢量缺頂只有一個(gè),處處相同。(2)如果有幾條位錯(cuò)線相交于一點(diǎn),如果把所有位錯(cuò)線的方向都設(shè)定為指向交點(diǎn)(或相反),則每條位錯(cuò)線的b矢量之和為零。柏氏矢量是一個(gè)十分重要的概念:下頁(yè)上頁(yè)●柏氏矢量表示方法一般表達(dá)式:uvwnab=222wvunab++=模(即位錯(cuò)強(qiáng)度):位錯(cuò)是柏氏矢量不為零的晶體缺陷下頁(yè)上頁(yè)1、位錯(cuò)的滑移

位錯(cuò)的滑移是在切應(yīng)力下進(jìn)行的,只有當(dāng)滑移面上的切應(yīng)力分量達(dá)到一定值后位錯(cuò)才能滑移。刃、螺位錯(cuò)滑移特征的不同之處在于:(1)開動(dòng)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的切應(yīng)力方向不同,使刃型位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的切應(yīng)力方向必須與位錯(cuò)線垂直;而使螺型位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的切應(yīng)力方向卻是與螺型位錯(cuò)平行的。(2)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)方向與晶體滑移方向之間的關(guān)系不同,不論是刃型后退下頁(yè)或螺型,它們的運(yùn)動(dòng)方向總是與位錯(cuò)線垂直的,而位錯(cuò)通過后,晶體所產(chǎn)生的滑移方向就不同了,對(duì)于刃位錯(cuò),晶體的滑移方向與位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)方向是一致的,而螺位錯(cuò)引起的晶體滑移方向與位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)方向垂直。位錯(cuò)環(huán)的滑移特征,如圖4-20,位錯(cuò)在滑移面上自行封閉形成位錯(cuò)環(huán),位錯(cuò)環(huán)的柏氏矢量正好處于滑移面上,所以可以理解為下頁(yè)上頁(yè)滑移面上圓形區(qū)域內(nèi)沿著柏氏矢量方向局部滑移,位錯(cuò)環(huán)就是滑移區(qū)與未滑移區(qū)的邊界。后退下頁(yè)2、位錯(cuò)的攀移只有刃位錯(cuò)才能發(fā)生攀移運(yùn)動(dòng),螺型位錯(cuò)是不會(huì)攀移的。攀移的本質(zhì)是刃型位錯(cuò)的半原子面向上或向下移動(dòng),于是位錯(cuò)線也就跟著向上或向下運(yùn)動(dòng),因此攀移時(shí)位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方向正好與柏氏矢量垂直。攀移是通過原子的擴(kuò)散來(lái)實(shí)現(xiàn)的。攀移是位錯(cuò)線并不是同步向上或向下運(yùn)下頁(yè)上頁(yè)攀移是位錯(cuò)線并不是同步向上或向下運(yùn)動(dòng),因此攀移時(shí)位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方向正好與柏氏矢量垂直。攀移是通過原子的擴(kuò)散來(lái)實(shí)現(xiàn)的。攀移是位錯(cuò)線并不是同步向上或向下運(yùn)動(dòng),而是原子逐個(gè)的加入,所以攀移時(shí)位錯(cuò)線上帶有很多臺(tái)階稱為割階。下頁(yè)上頁(yè)下頁(yè)上頁(yè)刃型位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)一、滑移運(yùn)動(dòng)(1)使刃位錯(cuò)線產(chǎn)生滑移運(yùn)動(dòng)的力是作用在滑移面上且平行于b的切應(yīng)力,滑移面由位錯(cuò)線和b確定;(2)在上述切應(yīng)力作用下,位錯(cuò)線在滑滑移面上向著垂直于位錯(cuò)線的方向運(yùn)動(dòng),位錯(cuò)線的方向于外切應(yīng)力平行,但在同一切應(yīng)力作用下,正負(fù)刃位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)方向相反;(3)刃位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的結(jié)果使位錯(cuò)線掃過區(qū)上下兩半晶體產(chǎn)生一其值為b的相對(duì)位移,位移的方向完全取決于外切應(yīng)力,位移方向與位錯(cuò)線方向平行,也與b方向平行,但不能單純由位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方下頁(yè)上頁(yè)方向或b的方向來(lái)確定晶體的相對(duì)運(yùn)動(dòng)方向。二、攀移運(yùn)動(dòng)刃型位錯(cuò)線在垂直于滑移面的方向上的運(yùn)動(dòng)稱為攀移運(yùn)動(dòng)。(1)攀移運(yùn)動(dòng)一定伴隨著原子的擴(kuò)散,從位錯(cuò)多余半原子面擴(kuò)散出去的原子,可能成為間隙原子,或躍入空位,因此下頁(yè)上頁(yè)可以說正攀移將使晶體中的空位濃度降低,負(fù)攀移則會(huì)使空位濃度增大。(2)刃位錯(cuò)的攀移運(yùn)動(dòng)是比較難于進(jìn)行的,只有在高溫下,原子擴(kuò)散能力很強(qiáng),或空位濃度很大的情況下,攀移運(yùn)動(dòng)才是可能的。外加應(yīng)力可以促進(jìn)刃位錯(cuò)的攀移運(yùn)動(dòng),壓應(yīng)力有利于正攀移,拉應(yīng)力有利于負(fù)攀移。下頁(yè)上頁(yè)滑移面上向著垂直于位錯(cuò)線的方向運(yùn)動(dòng),位錯(cuò)線的方向于外切應(yīng)力平行,但在同一切應(yīng)力作用下,正負(fù)刃位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)方向相反;(3)刃位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的結(jié)果使位錯(cuò)線掃過區(qū)上下兩半晶體產(chǎn)生一其值為b的相對(duì)位移,位移的方向完全取決于外切應(yīng)力,位移方向與位錯(cuò)線方向平行,也與b方向平行,但不能單純由位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方下頁(yè)上頁(yè)(3)對(duì)攀移運(yùn)動(dòng)起作用的是正應(yīng)力,而且是垂直作用在多余半原面上的正應(yīng)力分量,或著說平行于b的正應(yīng)力分量。(4)刃位錯(cuò)的攀移運(yùn)動(dòng)同樣會(huì)引起晶體的宏觀變形,因?yàn)槲诲e(cuò)線正攀移所經(jīng)過的區(qū)域中,少了一排原子,則整個(gè)晶體將縮短一個(gè)原子層(一個(gè)b),而負(fù)攀移使晶體中多出一排原子,則整個(gè)晶體將伸長(zhǎng)一個(gè)b。下頁(yè)上頁(yè)螺型位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)一、滑移運(yùn)動(dòng)(1)引起螺位錯(cuò)滑移運(yùn)動(dòng)的力是平行于b的切應(yīng)力,位錯(cuò)線的滑移面不能由位錯(cuò)線和b來(lái)確定,因位b和位錯(cuò)線是平行的。(2)位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方向依然是在滑移面上垂直于位錯(cuò)線的方向。下頁(yè)上頁(yè)(3)位錯(cuò)線運(yùn)動(dòng)的結(jié)果使位錯(cuò)線掃過區(qū)上下兩半晶體產(chǎn)生其值為B的相對(duì)位移,位移的方向完全取決于外切應(yīng)力方向,位移方向與位錯(cuò)線的運(yùn)動(dòng)方向垂直,但與b平行。二、交滑移如果由于某種原因,螺位錯(cuò)在某一平面上的滑移運(yùn)動(dòng)受阻,那麼只要應(yīng)力條件下頁(yè)上頁(yè)具備,它可以繞過障礙向另一個(gè)滑移面上繼續(xù)滑移,稱為交滑移。螺位錯(cuò)交滑移時(shí),滑移面改變了,但b矢量不變?;旌衔诲e(cuò)的運(yùn)動(dòng)對(duì)于混合位錯(cuò),在切應(yīng)力作用下,位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的方向也是處垂直于位錯(cuò)線。處下頁(yè)上頁(yè)類型柏氏向量位錯(cuò)線運(yùn)動(dòng)方向晶體滑移方向切應(yīng)力方向滑移面?zhèn)€數(shù)刃型

垂直于位錯(cuò)線

垂直于位錯(cuò)線與b一致與b一致唯一螺型平行于位錯(cuò)線垂直于位錯(cuò)線與b一致與b一致

多個(gè)混合與位錯(cuò)線成一定角度

垂直于位錯(cuò)線與b一致與b一致●位錯(cuò)的滑移特征下頁(yè)上頁(yè)3、作用在位錯(cuò)上的力

F

d=

=τb式中Fd為作用于單位長(zhǎng)度位錯(cuò)線上的力,方向垂直于位錯(cuò)線,即指向位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)方向。對(duì)于攀移

Fd=σb其中σ為使攀移進(jìn)行的正應(yīng)力。Fdl下頁(yè)上頁(yè)下頁(yè)返回刃型位錯(cuò)的形成刃型位錯(cuò)

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