GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測方法顯微散射暗場成像法

ICS8104001

CCSN.05.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T41805—2022

光學(xué)元件表面疵病定量檢測方法

顯微散射暗場成像法

Methodologyforthequantitativeinspectionofthedefectonoptics

surface—Microscopicscatteringdark-fieldimaging

2022-10-12發(fā)布2023-05-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T41805—2022

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會提出

。

本文件由全國光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC103)。

本文件起草單位浙江大學(xué)杭州晶耐科光電技術(shù)有限公司中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所中國

:、、、

工程物理研究院激光聚變研究中心中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所中國兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究

、、

所江蘇皇冠新材料科技有限公司福建福特科光電股份有限公司

、、。

本文件主要起草人楊甬英曹頻李剛楊李茗劉旭劉世杰胡麗麗徐曉飛李煒娜麥啟波

:、、、、、、、、、、

黃木旺

。

Ⅰ

GB/T41805—2022

引言

是光學(xué)元件表面疵病目視法檢測標(biāo)準(zhǔn)其主要采用在強(qiáng)光或一定的光照條件

GB/T1185—2006,

下利用比較標(biāo)板人眼目視觀察確定疵病尺度的方法目視法的主觀性強(qiáng)且重復(fù)性差落后的檢測方法

,。,

已經(jīng)嚴(yán)重制約現(xiàn)代科學(xué)研究及工業(yè)化在線檢測的發(fā)展本文件保留對光學(xué)元件表

。GB/T1185—2006

面疵病的評定標(biāo)準(zhǔn)提出顯微散射暗場光學(xué)成像系統(tǒng)及數(shù)字化處理的定量評價方法該標(biāo)準(zhǔn)的建立將為

,,

我國對各類精密光學(xué)元件在加工工藝光學(xué)鍍膜工業(yè)化在線檢測等各個環(huán)節(jié)提供有效的數(shù)字化定量檢

、、

測方法

。

本文件介紹了光學(xué)元件顯微散射暗場成像中的術(shù)語及定義描述了環(huán)形照明光源及顯微散射暗場

,

成像系統(tǒng)組成的檢測設(shè)備原理及搭建方法試驗條件光學(xué)元件樣品類型圖像采集圖像預(yù)處理圖像

、、、、、

閾值分割圖像形態(tài)學(xué)處理疵病分類數(shù)字化定標(biāo)方法試驗數(shù)據(jù)處理和檢測報告形式基本可適用于

、、、、,

所有光學(xué)元件表面疵病的定量化檢測

。

針對數(shù)字化的定量檢測方法在附錄中介紹了檢測重復(fù)性與相對誤差測量方法針對大口徑平

,A。

面光學(xué)元件的檢測在附錄中介紹了利用顯微散射暗場成像的子孔徑的掃描拼接方法在附錄中

,B。C

介紹了用于疵病尺度評價的比較標(biāo)板的制作方法

。

為避免技術(shù)壁壘本文件中只推薦并介紹平面光學(xué)元件表面疵病定量檢測裝置的布局對檢測裝置

,,

如顯微散射暗場光學(xué)成像系統(tǒng)子孔徑掃描所需的機(jī)械移導(dǎo)裝置等具體結(jié)構(gòu)類型不做限制只要能滿足

、,

顯微散射暗場成像環(huán)境即可

。

Ⅱ

GB/T41805—2022

光學(xué)元件表面疵病定量檢測方法

顯微散射暗場成像法

1范圍

本文件描述了采用顯微散射暗場成像法對光學(xué)元件表面疵病進(jìn)行定量檢測的檢測原理試驗條件

、、

儀器設(shè)備樣品檢測步驟試驗數(shù)據(jù)處理和檢測報告

、、、。

本文件適用于平板類雙面拋光光學(xué)元件表面疵病的長度寬度擋光面積以及疵病位置檢測

、、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

光學(xué)零件表面疵病

GB/T1185—2006

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T1185—2006。

31

.

環(huán)形光源ringlighting

由環(huán)狀分布的高亮度或其他高亮度光源構(gòu)成的照明系統(tǒng)以提供均勻的暗場照明

LED,。

32

.

顯微散射暗場成像microscopicscatteringdark-fieldimaging

使用工業(yè)相機(jī)和光學(xué)系統(tǒng)作為成像組件用高亮度光源激發(fā)元件表面疵病的散射光并由成像鏡頭

,,

收集最終在暗背景下形成亮疵病圖像的成像方式

,