標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 41805-2022 光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法 顯微散射暗場(chǎng)成像法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),主要規(guī)定了使用顯微散射暗場(chǎng)成像技術(shù)對(duì)光學(xué)元件表面缺陷進(jìn)行定量分析的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各類透明或半透明光學(xué)材料制成的平面或曲面元件,包括但不限于透鏡、棱鏡等。

根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容,首先明確了術(shù)語和定義部分,如“表面疵病”指的是光學(xué)元件表面上存在的任何非設(shè)計(jì)特征,可能影響其性能?!帮@微散射暗場(chǎng)成像法”則是指通過特定角度照明,在暗背景下觀察并記錄樣品表面散射光強(qiáng)度分布的技術(shù)手段。

接著,標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)描述了實(shí)驗(yàn)裝置的要求,包括光源的選擇、濾光片的應(yīng)用以及探測(cè)器配置等方面,并強(qiáng)調(diào)了如何正確設(shè)置這些參數(shù)以確保獲得準(zhǔn)確可靠的測(cè)試結(jié)果。此外,還提供了關(guān)于樣品準(zhǔn)備的具體指導(dǎo),比如清潔度要求及固定方式建議。

在測(cè)量過程方面,《GB/T 41805-2022》給出了詳細(xì)的步驟說明,從初步定位到精細(xì)調(diào)整直至最終數(shù)據(jù)采集均有涉及。特別地,對(duì)于不同類型或尺寸的疵?。ㄈ鐒澓邸唿c(diǎn)),標(biāo)準(zhǔn)也制定了相應(yīng)的評(píng)估指標(biāo)與分級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。

最后,該文件還包含了數(shù)據(jù)分析章節(jié),介紹了如何基于所獲取圖像計(jì)算出疵病大小、深度等關(guān)鍵參數(shù),并據(jù)此判斷是否符合既定的質(zhì)量控制標(biāo)準(zhǔn)。同時(shí),也提到了質(zhì)量保證措施的重要性,鼓勵(lì)實(shí)驗(yàn)室建立內(nèi)部校準(zhǔn)程序來定期檢查設(shè)備性能,確保長(zhǎng)期穩(wěn)定性和一致性。


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....

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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2022-10-12 頒布
  • 2023-05-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法顯微散射暗場(chǎng)成像法_第1頁
GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法顯微散射暗場(chǎng)成像法_第2頁
GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法顯微散射暗場(chǎng)成像法_第3頁
GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法顯微散射暗場(chǎng)成像法_第4頁
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GB/T 41805-2022光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法顯微散射暗場(chǎng)成像法-免費(fèi)下載試讀頁

文檔簡(jiǎn)介

ICS8104001

CCSN.05.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T41805—2022

光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法

顯微散射暗場(chǎng)成像法

Methodologyforthequantitativeinspectionofthedefectonoptics

surface—Microscopicscatteringdark-fieldimaging

2022-10-12發(fā)布2023-05-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T41805—2022

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由中國(guó)機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出

。

本文件由全國(guó)光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC103)。

本文件起草單位浙江大學(xué)杭州晶耐科光電技術(shù)有限公司中國(guó)科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所中國(guó)

:、、、

工程物理研究院激光聚變研究中心中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所中國(guó)兵器工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化研究

、、

所江蘇皇冠新材料科技有限公司福建福特科光電股份有限公司

、、。

本文件主要起草人楊甬英曹頻李剛楊李茗劉旭劉世杰胡麗麗徐曉飛李煒娜麥啟波

:、、、、、、、、、、

黃木旺

。

GB/T41805—2022

引言

是光學(xué)元件表面疵病目視法檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)其主要采用在強(qiáng)光或一定的光照條件

GB/T1185—2006,

下利用比較標(biāo)板人眼目視觀察確定疵病尺度的方法目視法的主觀性強(qiáng)且重復(fù)性差落后的檢測(cè)方法

,。,

已經(jīng)嚴(yán)重制約現(xiàn)代科學(xué)研究及工業(yè)化在線檢測(cè)的發(fā)展本文件保留對(duì)光學(xué)元件表

。GB/T1185—2006

面疵病的評(píng)定標(biāo)準(zhǔn)提出顯微散射暗場(chǎng)光學(xué)成像系統(tǒng)及數(shù)字化處理的定量評(píng)價(jià)方法該標(biāo)準(zhǔn)的建立將為

,,

我國(guó)對(duì)各類精密光學(xué)元件在加工工藝光學(xué)鍍膜工業(yè)化在線檢測(cè)等各個(gè)環(huán)節(jié)提供有效的數(shù)字化定量檢

、、

測(cè)方法

。

本文件介紹了光學(xué)元件顯微散射暗場(chǎng)成像中的術(shù)語及定義描述了環(huán)形照明光源及顯微散射暗場(chǎng)

,

成像系統(tǒng)組成的檢測(cè)設(shè)備原理及搭建方法試驗(yàn)條件光學(xué)元件樣品類型圖像采集圖像預(yù)處理圖像

、、、、、

閾值分割圖像形態(tài)學(xué)處理疵病分類數(shù)字化定標(biāo)方法試驗(yàn)數(shù)據(jù)處理和檢測(cè)報(bào)告形式基本可適用于

、、、、,

所有光學(xué)元件表面疵病的定量化檢測(cè)

。

針對(duì)數(shù)字化的定量檢測(cè)方法在附錄中介紹了檢測(cè)重復(fù)性與相對(duì)誤差測(cè)量方法針對(duì)大口徑平

,A。

面光學(xué)元件的檢測(cè)在附錄中介紹了利用顯微散射暗場(chǎng)成像的子孔徑的掃描拼接方法在附錄中

,B。C

介紹了用于疵病尺度評(píng)價(jià)的比較標(biāo)板的制作方法

為避免技術(shù)壁壘本文件中只推薦并介紹平面光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)裝置的布局對(duì)檢測(cè)裝置

,,

如顯微散射暗場(chǎng)光學(xué)成像系統(tǒng)子孔徑掃描所需的機(jī)械移導(dǎo)裝置等具體結(jié)構(gòu)類型不做限制只要能滿足

、,

顯微散射暗場(chǎng)成像環(huán)境即可

。

GB/T41805—2022

光學(xué)元件表面疵病定量檢測(cè)方法

顯微散射暗場(chǎng)成像法

1范圍

本文件描述了采用顯微散射暗場(chǎng)成像法對(duì)光學(xué)元件表面疵病進(jìn)行定量檢測(cè)的檢測(cè)原理試驗(yàn)條件

、、

儀器設(shè)備樣品檢測(cè)步驟試驗(yàn)數(shù)據(jù)處理和檢測(cè)報(bào)告

、、、。

本文件適用于平板類雙面拋光光學(xué)元件表面疵病的長(zhǎng)度寬度擋光面積以及疵病位置檢測(cè)

、、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

光學(xué)零件表面疵病

GB/T1185—2006

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T1185—2006。

31

.

環(huán)形光源ringlighting

由環(huán)狀分布的高亮度或其他高亮度光源構(gòu)成的照明系統(tǒng)以提供均勻的暗場(chǎng)照明

LED,。

32

.

顯微散射暗場(chǎng)成像microscopicscatteringdark-fieldimaging

使用工業(yè)相機(jī)和光學(xué)系統(tǒng)作為成像組件用高亮度光源激發(fā)元件表面疵病的散射光并由成像鏡頭

,,

收集最終在暗背景下形成亮疵病圖像的成像方式

,

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