現(xiàn)代微加工技術(shù)濺射電子束蒸發(fā)

1濺射熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)在襯底表面沉積金屬膜或介質(zhì)膜2磁控濺射鍍膜上世紀(jì)70年代發(fā)展起來的新型濺射技術(shù)。特點(diǎn)：1、成膜速率高，2、襯底溫度低，3、對襯底或沉積的膜的損傷小。磁控濺射靶的結(jié)構(gòu)形式：平面靶、同軸圓柱靶、s槍濺射靶3磁控濺射鍍膜工作原理NSNE濺射靶襯底AreeAr+ArBe3e2e1eAr+e14磁控濺射鍍膜矩形平面磁控靶5磁控濺射鍍膜圓形平面磁控靶6磁控濺射鍍膜同軸圓柱形平面磁控靶7磁控濺射鍍膜S形槍磁控靶8磁控濺射鍍膜磁控濺射設(shè)備9磁控濺射鍍膜磁控濺射設(shè)備10磁控濺射鍍膜磁控濺射設(shè)備11熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)原理

將膜材料置于真空室中，通過電加熱使其蒸發(fā)。空間氣體分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸后，蒸汽的原子或分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少與其他分子或原子碰撞，可直接到達(dá)基片表面，凝結(jié)后形成薄膜。12熱蒸發(fā)鍍膜常用材料的蒸汽壓物質(zhì)符號蒸汽壓，Torr熔點(diǎn)（K）1x10－61x10－51x10－41x10－31x10－21x10－11溫度（K）銀Ag9571024109711871301143616031233.8金Au12261311141315331676184720591336鋁Al1039111412001297142115661745933.1鈮Nb22502400256027502980325035702693氟化鈣CaF2/1268135414521566169918581690氧化鋁Al2O3/1676178619102055222224182313二氧化硅SiO2/1489163518142037232226991983一氧化硅SiO/109611731262136514871633/13熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)方式1、電阻式加熱蒸發(fā)源2、電子束蒸發(fā)源3、空心熱陰極等離子電子束蒸發(fā)源4、感應(yīng)式加熱蒸發(fā)源14熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)方式1、電阻式加熱蒸發(fā)源

絲狀源和箔狀源

鋁蒸發(fā)用坩堝加熱器A）W、Mo、Ta、石墨坩堝加熱器B）氮化硼合成導(dǎo)電陶瓷加熱器15熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)設(shè)備16熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)設(shè)備17熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)方式2、電子束蒸發(fā)源具有很高的能量密度，達(dá)到104～109W/cm2，可以將蒸發(fā)材料加熱到3000～6000℃18熱蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)設(shè)備19熱蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)設(shè)備20熱蒸發(fā)鍍膜電子束蒸發(fā)設(shè)備21熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)方式3、空心熱陰極等離子電子束蒸發(fā)源22熱蒸發(fā)鍍膜23熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)方式4、感應(yīng)式加熱蒸發(fā)源24熱蒸發(fā)鍍膜25真空泵簡介機(jī)械真空泵1、油封旋轉(zhuǎn)泵2、羅茲真空泵3、渦輪分子泵26真空泵簡介機(jī)械真空泵1、油封旋轉(zhuǎn)泵2、羅茲真空泵3、渦輪分子泵27真空泵簡介機(jī)械真空泵1、油封旋轉(zhuǎn)泵2、羅茲真空泵3、渦輪分子泵28真空泵簡介氣體捕集真空泵1、鈦泵2、低溫泵3、分子篩吸附泵4、鋯鋁吸氣泵29真空泵簡介氣體捕集真空泵1、鈦泵2、低溫泵3、分子篩吸附泵4、鋯鋁吸氣泵30真空泵簡介氣體捕集真空