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PN結(jié)二極管的制備主要內(nèi)容：PN結(jié)二極管的制備（0）準(zhǔn)備p-Si1、制備單晶硅片2、硅片表面的化學(xué)清洗PN結(jié)二極管的制備(1)氧化問(wèn)題：

1、為什么要雙面氧化？

2、氧化層的厚度需要大于設(shè)計(jì)的厚度，為什么？PN結(jié)二極管的制備Mask1黑色部分都是不透光的，中間的白色部分是做擴(kuò)散的位置。Mask的剖面圖PN結(jié)二極管的制備（3）曝光問(wèn)題：1、光刻的作用？2、圖中使用的是正膠，如果用負(fù)膠如何修改工藝？PN結(jié)二極管的制備（4）顯影問(wèn)題：

1、什么是顯影工藝？

2、顯影液選擇的注意事項(xiàng)。PN結(jié)二極管的制備（6）去膠1、通常用什么方法去膠？問(wèn)題：PN結(jié)二極管的制備（7）雜質(zhì)擴(kuò)散1、硅片要經(jīng)過(guò)適當(dāng)?shù)那逑春?、應(yīng)該擴(kuò)散什么雜質(zhì)3、雜質(zhì)擴(kuò)散源有哪些4、以液態(tài)擴(kuò)散源簡(jiǎn)要說(shuō)一下擴(kuò)散的化學(xué)原理5、這只是雜質(zhì)的預(yù)淀積。問(wèn)題：PN結(jié)二極管的制備(8)驅(qū)入在未被氧化層保護(hù)的區(qū)域形成了n+-p結(jié)。（n+中的“+”號(hào)表示高摻雜）問(wèn)題：PN結(jié)二極管的制備(10)涂膠目的：通過(guò)光刻去除擴(kuò)散結(jié)區(qū)域之外的多余的金屬薄膜。PN結(jié)二極管的制備Mask2Mask黑色部分都是不透光的，四周的白色部分是刻蝕金屬的位置。Mask的剖面圖問(wèn)題：可不可以用Mask1？PN結(jié)二極管的制備(11)曝光mask2板問(wèn)題：如果采用負(fù)膠，如何修改掩膜板Mask2？PN結(jié)二極管的制備(13)腐蝕1、此次腐蝕的目的？2、腐蝕液的選擇。PN結(jié)二極管

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