真空熱蒸發(fā)鍍膜的故障原因和處理方法

真空熱蒸發(fā)鍍膜的故障原因和處理方法真空熱蒸發(fā)鍍膜故障的排解

1．鍍鋁層陽極氧化故障的排解

故障名稱

成因及對策

氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡

(1)預(yù)熔時(shí)電流過高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。

(2)蒸發(fā)電流過高。應(yīng)適當(dāng)降低

氧化層表面有流痕印跡

(1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。

(2)擦拭鍍件時(shí)蘸用乙醇過多。應(yīng)削減乙醇的蘸用量。

(3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件表面。

(4)唾液噴濺到鍍件表面，使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操應(yīng)帶上口罩

氧化層表面有灰點(diǎn)

(1)真空室底盤或室壁太臟。應(yīng)使用乙醇擦拭潔凈。

(2)夾具太臟。應(yīng)按工藝規(guī)程定期清洗夾具

氧化層表面發(fā)紅

(1)陽極氧化電壓偏低，氧化層厚度不夠。應(yīng)將電壓提高到120V左右。

(2)氧化時(shí)間太短，導(dǎo)致陽極氧化后表面發(fā)紅。應(yīng)適當(dāng)延長氧化時(shí)間

氧化層表面發(fā)花

(1)氧化電壓太高，氧化層部分發(fā)藍(lán)。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。

(2)各氧化點(diǎn)的電壓或氧化時(shí)間不相同。應(yīng)使各氧化點(diǎn)的電壓和氧化時(shí)間保持全都。

(3)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低

氧化層表面發(fā)黃

(1)氧化電壓太高，氧化層太厚。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。

(2)氧化時(shí)間太長。應(yīng)適當(dāng)縮短。

(3)氧化點(diǎn)太多。應(yīng)適當(dāng)削減

氧化層表面有灰白細(xì)點(diǎn)

(1)溶液中鋁含量增加。應(yīng)更換部分溶液。

(2)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。

(3)鍍件水洗不足，表面殘留電解液，在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細(xì)

點(diǎn)。應(yīng)將氧化后的鍍件表面用蒸餾水洗凈電解液，然后擦干，最好是將氧化后的鍍件擦干后

放人無水乙醇中浸1-2h，然后加溫到12．0~C保溫?cái)?shù)小時(shí)

氧化后鍍層起泡脫落

(1)鍍件表面油a8未除凈。應(yīng)加強(qiáng)脫脂處理。

(2真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。由于鋁是易氧化的金屬，又簡單汲取氧，

在低真空度下蒸發(fā)，會(huì)因汲取剩余氣體而形成茶褐色的氧化膜，導(dǎo)致反射率降低，鍍層易起泡

脫落。通常預(yù)熔的真空度為0．067Pa；蒸鍍裝飾性的鋁膜，蒸發(fā)時(shí)的真空度可適當(dāng)?shù)鸵恍?/p>

般和預(yù)熔的真空度相同；蒸鍍質(zhì)量要求高的鋁膜，真空度應(yīng)當(dāng)高一些，一般為(4—6．7)x10”

h。

(3)鍍件表面有異物附著?？蓪?shí)施離子轟擊。一般蒸鍍鋁膜時(shí)進(jìn)行離子轟擊的工藝條件

為：電壓2—3kV；電流60—140mA；時(shí)間5—30min

氧化后鍍層露底

鍍鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長蒸鍍時(shí)間，增加膜層厚度。通常，鋁膜厚度為(5—20)xlo—3mm，

掌握其厚度主要采納計(jì)時(shí)法，亦可依據(jù)膜層的透光程度來推斷膜厚，這些方法都需要操作人

員具有豐富的實(shí)踐閱歷才能掌握，但對裝飾鍍層用上述方法已足可滿意要求

氧化層厚度不足

(1)電解時(shí)間太短。應(yīng)適當(dāng)延長。

(2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。

(3)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式，陽極(鎳針)與鍍件表面鋁層必需接觸良好。

(4)接觸點(diǎn)的數(shù)量不夠。應(yīng)增加接觸點(diǎn)。對于面積較大的鍍件，應(yīng)在120~的分度線上設(shè)三個(gè)氧化點(diǎn)。

(5)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。

(6)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)

氧化層表面有針孔

(1)鍍鋁層太薄。應(yīng)適當(dāng)延長蒸發(fā)時(shí)間。

(2)靜電除塵不徹底。應(yīng)嚴(yán)格根據(jù)工藝要求進(jìn)行靜電除塵。

(3)離子轟擊電流太大，時(shí)間太長。應(yīng)適當(dāng)減小離子轟擊電流，一般60—140mA。離子轟擊

規(guī)范應(yīng)視鍍件材質(zhì)的耐熱程度來調(diào)整，以防鍍件變形。

(4)真空室和夾具太臟。應(yīng)定期清潔真空室和夾具

氧化層脫邊

(1)鍍件邊緣清潔不良，有拋光粉、汗?jié)n和污物等。應(yīng)加強(qiáng)鍍件邊緣的清潔，擦拭時(shí)應(yīng)帶上

工作手套。

(2)夾具不清潔。應(yīng)徹底清潔夾具，特殊應(yīng)留意清潔夾具與鍍件邊緣接觸的部位

氧化層耐磨和耐蝕性能不良

(1)電解液溫度偏高。應(yīng)適當(dāng)降低。

(2)氧化電壓偏低。應(yīng)適當(dāng)提高。

(3)電解時(shí)間太長。應(yīng)適當(dāng)縮短。

(4)電解液濃度過高。應(yīng)適當(dāng)降低。

(5)鍍鋁層被污染。應(yīng)防止鍍件污染

氧化電壓升不高

(1)接觸點(diǎn)被擊穿。應(yīng)變換接觸點(diǎn)。

(2)電解液濃度不正常。應(yīng)調(diào)整電解液濃度。

(3)接觸點(diǎn)接觸不良。應(yīng)改進(jìn)接觸方式

接觸點(diǎn)燒焦

(1)鍍件與夾具接觸不良。應(yīng)改善接觸條件，使其導(dǎo)電性能良好。

(2)氧化電壓過高。應(yīng)適當(dāng)降低。

(3)電解液濃度不正常。應(yīng)按配方進(jìn)行調(diào)整

2．鍍鋁層表面蒸鍍一氧化硅愛護(hù)膜故障的排解

故障名稱

成因及對策

鍍鋁層表面呈藍(lán)灰色

(1)鍍鋁層偏厚。應(yīng)適當(dāng)縮短蒸鍍時(shí)間。

(2)真空度太低。應(yīng)適當(dāng)提高蒸發(fā)時(shí)的真空度。

(3)蒸發(fā)速度太慢。應(yīng)將蒸發(fā)速度提高至3x10—3mnl~$。

(4)蒸發(fā)源上無鋁，仍連續(xù)加熱。應(yīng)補(bǔ)加鋁絲或鋁箔。

(5)蒸發(fā)源上鋁材的純度太低。應(yīng)使用純度為99．9％—99．99％的鋁絲或鋁箔

膜層表面發(fā)紅

一氧化硅鍍膜太薄。應(yīng)適當(dāng)延長蒸鍍時(shí)間

膜層表面開裂

(1)一氧化硅的蒸發(fā)速度太快。應(yīng)適當(dāng)減慢。

(2)一氧化硅鍍膜太厚。應(yīng)適當(dāng)削減蒸發(fā)時(shí)間。一般鍍膜厚度為波長l的一半為宜。精密

掌握膜層厚度需用光電膜厚掌握儀，簡潔的方法亦可采納目測。目測法是依據(jù)表面的干涉色

隨厚度增厚而變化的規(guī)律米掌握膜厚，其表面顏色的變化規(guī)律為：黃一紅一紫一綠一黃一紅。

在蒸鍍時(shí)，若觀看到其次次干涉色為黃色或紅色時(shí)，馬上