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流行飾品材料及工藝教育部職業(yè)教育寶玉石鑒定與加工專業(yè)教學資源庫GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理氣相沉積工藝的分類建設(shè)者姓名:尚穎麗物理氣相沉積工藝物理氣相沉積工藝的分類-磁控濺射鍍磁控濺射鍍在一定的真空條件下,用幾十電子伏特或者更高動能的荷能粒子轟擊材料

的表面,使被轟擊材料的原子獲得足夠的能量,脫離原材料點陣的束縛,進入氣相,這種技術(shù)就是濺射技術(shù)。利用濺射出的氣相元素,進行沉積成膜,這種沉積過程被稱為濺射鍍膜。在沉積硬質(zhì)涂層時,則工件需要接負偏壓電源,稱磁控濺射離子鍍或偏壓濺射。濺射鍍膜是目前

PVD

技術(shù)中應用最廣泛的一種鍍膜技術(shù),具有以下優(yōu)點:

(1)濺射鍍膜膜層質(zhì)量較好,與基體的結(jié)合力非常強。

(2)濺射鍍膜的應用范圍廣泛,適用于各種材料,高熔點材料也易進行濺射。

(3)濺射鍍膜薄膜的厚度分布比較均勻。

(4)濺射鍍膜工藝重復性好,易實現(xiàn)工藝控制自動化,可大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)。謝謝觀看!

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