2022年全球與拋光墊市場競爭格局分析

拋光墊產業(yè)鏈示意圖2022年全球與拋光墊市場競爭格局分析一、拋光墊行業(yè)發(fā)展概況1、定義及參數(shù)拋光墊又稱拋光皮，拋光布，拋光片，是化學機械拋光中決定表面質量的重要輔料。拋光墊的力學性能，如材質硬度、彈性模量等都起到重要作用，同時，其表面特征，如微孔形狀、孔隙率、溝槽形狀等，可通過影響拋光液流動和分布，來影響拋光效率和平坦性指標。而由于在CMP拋光中發(fā)揮的作用和原理不同，拋光墊更多是機械摩擦作用，同時承載拋光液以便化學反應發(fā)生，因此相對起化學反應作用的拋光液品類要較少，產品的通用性相對更強。CMP拋光墊的參數(shù)指標2、常見結構拋光墊是一種具有一定彈性且疏松多孔的材料，一般由含有填充材料的聚氨酯構成。拋光墊根據溝槽結構形式不同分為四個類別，每種結構的應用領域各有不同。常見拋光墊結構二、拋光墊產業(yè)鏈拋光墊上游主要為聚氨酯、無紡布、拋光墊溝槽加工機等，拋光墊廠商位于產業(yè)鏈中游，通常外購聚氨酯彈性體原材料。拋光墊企業(yè)通常外購聚氨酯彈性體，再經過貼膠、雕槽、切片等工藝制成拋光墊，提供給下游晶圓廠驗證，驗證通過后逐步實現(xiàn)批量供貨。三、全球拋光墊行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀近年來全球拋光墊市場規(guī)模呈現(xiàn)出逐步增長態(tài)勢，2021年全球拋光墊市場規(guī)模約為8.71億美元，同比增長18.34%。2016-2021年全球拋光墊市場規(guī)模及增速四、中國拋光墊行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀CMP拋光材料是半導體制造材料的重要組成部分之一，化學機械拋光(CMP)借助于拋光液中化學試劑的化學腐蝕和納米磨粒的機械磨削雙重耦合作用，可以在原子水平上實現(xiàn)材料的去除，可以在0.35μm及其以下尺寸器件上同時實現(xiàn)局部和全局平坦化，被廣泛應用于光學元件、計算機硬盤、微機電系統(tǒng)、集成電路等領域。2015-2021年，中國CMP拋光材料市場規(guī)模由22.47億元增長至41.97億元，期間年均復合增長率為10.97%。2015-2021年中國CMP拋光材料市場規(guī)模及增速在CMP過程中，拋光墊起到了儲存拋光液、輸送拋光液、排出廢物、傳遞加工載荷、保證拋光過程平穩(wěn)進行等作用，其成本占CMP總成本的三分之一左右。數(shù)據顯示，我國拋光墊市場規(guī)模也在持續(xù)增長，2021年達到13.85億元，同比上升15.9%。2015-2021年中國拋光墊市場規(guī)模及增速2018-2021年，我國拋光墊產量自0.33萬片迅速增長至14.69萬片，期間年均復合增速為254.4%；2015-2021年，拋光墊需求量自36.2萬片增長至75.11萬片，期間年均復合增速為12.94%?？傮w來看，供不應求。2015-2021年中國拋光墊產量及需求量變化情況目前國內不同品牌、不同類型拋光墊產品價格存在較大的差異，行業(yè)供應商會根據不同型號、不同制程、不同市場區(qū)域以及不同銷量等多因素來區(qū)別定價。近年來我國拋光墊市場銷售均價持續(xù)下降，2015年我國拋光墊平均價格為2050元/片，2021年下滑至1844元/片。2015-2021年中國拋光墊銷售均價走勢圖五、拋光墊行業(yè)競爭格局1、市場份額全球CMP市場長期以來被美國和日本企業(yè)壟斷。在拋光墊市場中，美國陶氏化學的市場份額達79%，占據絕對優(yōu)勢地位。相對來說，其他企業(yè)的市場份額較小。2020年全球CMP拋光墊競爭格局2、重點企業(yè)—鼎龍股份鼎龍股份作為國內拋光墊行業(yè)的龍頭企業(yè)，目前形成營收規(guī)模的主要是打印復印耗材類產品以及CMP拋光墊產品。目前公司打印復印耗材業(yè)務營收仍是第一大業(yè)務營收來源，半導體材料業(yè)務營收占比逐步提升，成為公司的第二大業(yè)務營收來源。2022年上半年，公司半導體材料(含CMP拋光墊、CMP拋光液、CMP清洗液、PI漿料)業(yè)務收入為2.54億，占比19.32%。2022年上半年鼎龍股份營業(yè)收入構成六、拋光墊行業(yè)研究方向目前，國內外學者在CMP拋光墊的研究方面取得了一系列進展。隨著對加工質量、加工效率的要求越來越高，可以對以下幾個方面進行更深入的研究：1、拋光墊的表面紋理影響著拋光液的流動及分布，進而影響著拋光質量和拋光效率。目前，對于拋光墊表面紋理的研究多針對特定的形狀，對表面紋理設計的理論研究較少，有必要進一步探究拋光墊表面紋理幾何參數(shù)對拋光性能的影響，建立一個完善的理論體系指導表面紋理設計。2、目前，學者們多利用光學手段直接監(jiān)測拋光墊的表面磨損狀態(tài)，監(jiān)測手段較單一。探究拋光過程中聲發(fā)射信號、力信號等間接信號與拋光墊磨損狀態(tài)的關系，融合多傳感器信號對拋光墊磨損狀態(tài)進行監(jiān)測，可以獲得更高的監(jiān)測精度，發(fā)展前景較好。3、雖然利用親水性聚合物作為拋光墊的基體可以實現(xiàn)拋光墊的自修整，而不需要附加修整器，但是拋光墊自修整性能受到拋光參數(shù)的影響，基體遇水溶脹也會引起其力學性能的變化，因此需要進一步探究加工參數(shù)對自修整性能的影響，改進拋光墊材質，避免拋光墊遇水溶脹引起拋光性能波動過大。4、相較于單面化學機械拋光，雙面化學機械拋光可以獲得更優(yōu)的整體和局部平整度，加工效率更高。目前，針對雙面化學機械拋光墊的研究較少。針對雙面化學機械拋光，探究拋光墊的性能優(yōu)化方法，了解其磨損特點，并改進其修整方式，具有不可忽視的價值。5、除了拋光墊的拋光效率和拋光質量，拋光墊的使用壽命也是制造商們選擇拋光墊時所需要參考的一個重要指標。由于相關的研究實驗耗時長、實驗成本高等，因此目前針對拋光墊使用壽命的研究