光敏印章制作技術分析論文

第第頁光敏印章制作技術分析論文摘要：結合光敏印章的制作原理，對光敏印章的制作流程進展了詳細的分析，提出了提高光敏印章制作質量的技術要點及解決方法。

關鍵詞：光敏印章；制作流程；技術要點

光敏印章以其制作快捷、蓋印效果清晰、環(huán)保無污染等特點逐漸成為了目前印章刻制的首選。近幾年，光敏印章材料及光敏印章機的生產和應用在我國取得了飛速的開展。

1光敏印章的原理

光敏技術指的是利用光敏材料的感光特性進展印章制作的方法。專用的光敏材料是一種超微泡材料，其外表的微孔孔徑非常小，平均孔徑小于30微米。本身具有儲油滲油及光閃熔特性。光敏材料在受到強光照射的時候，可以吸收光能并轉換成熱能，顏色越暗吸收的能量越多。曝光時，光敏材料外表見光局部瞬間吸收大量的光能后，溫度迅速上升并到達熔點，閃光完畢后，外表熔體的溫度迅速降低，形成一定厚度和強度的薄膜，這層薄膜同時起到封孔閉孔的作用，并隔絕印油的滲透。這就是光敏章成像的原理。利用光敏材料的這一特性，用激光打印機將章稿打印在具有透光特性的硫酸紙或激光膠片上，將其覆蓋在光敏材料上后放在曝光機內曝光，由于章稿本身具有黑度不能透光，因而章稿覆蓋的光敏材料沒有受到光照仍然可以儲油滲油，而其他局部那么由于受到光照發(fā)生凝固不能滲油，從而實現了印章的制作。由于激光打印機的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔構造，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章或其它技術方式制作的印章的蓋印精度高出許多，是目前印章制作精度最高的一種印章。

2光敏印章的制作流程

光敏印章的具體制作流程圖為：

(1)首先使用排版軟件將印章排版，目前國內常用的印章排版軟件有很多種。由于光敏印章的高清晰性，目前很多光敏印章排版軟件都具有編排指(2)激光打印機打印章稿。印章排版好以后，需利用激光打印機將章稿打印在硫酸紙或透明膠片上。此時，要求激光打印稿具有足夠的黑度及均勻度。否那么將嚴重影響光敏章的制作質量。局部用戶采用二手激光機或噴墨打印機打印章稿，看似節(jié)省了打印本錢，其實是揀了芝麻丟了西瓜。

(3)光敏印章機曝光：將打印了章稿的硫酸紙或膠片覆蓋上透明曝光膜及光敏印章墊。三者之間的順序及朝向依次為章稿反面向曝光光源，章稿打印面貼曝光膜，曝光膜貼印章墊，三者依次平穩(wěn)嚴密接觸，中間嚴禁有間隙式皺折。三者壓緊后曝光既可。

3光敏印章機技術研究與分析。

光敏印章機的技術性能對光敏印章的制作質量起著至關重要的作用。光敏印章機主要包含光敏燈管電源及光敏印墊機械壓緊裝置兩大局部。

光敏機的電源局部包含電容的充放電局部及光敏燈管的觸發(fā)電路局部，通常采用倍壓充電的方式，充電電壓在400V600V時可以觸發(fā)光敏燈管導通曝光。充電電路中充電電容一般采用450V，1OOOUF電解電容串并聯(lián)構成。選擇高品質、高穩(wěn)定性的電解電容可以提高光敏機整機的穩(wěn)定性和可靠性。目前光敏印墊的種類繁多，不同印墊要求的曝光能量也千差萬別。曝光能量缺乏會造成印章邊界模糊，不清晰，而曝光過度又會造成章面吸油性變差，影響蓋章質量。一般要求光敏印章機單根燈管曝光能量最大能到達600焦耳以上，雙管光敏機的能量最大能到達1200焦耳以上。同時，根據印墊種類的不同，要求光敏機的曝光能量能夠根據印墊的不同要求平滑可調。目前國內光敏機多采用雙光敏燈管設計，由于每根管子的導通性不可能完全一樣，在進展電路設計時，應該采用兩組獨立的電容充放回路。這對提高光敏燈管的壽命，提高整機的穩(wěn)定性是非常重要的。

光敏機的機械壓緊裝置是光敏印章機的另一個重要組成局部。光敏印墊在曝光時不僅要受到足夠的強光照射，印墊本身的厚度還需被壓縮到一定尺寸，這樣才能夠有較好的曝光效果，因此，在設計光敏印墊機械壓緊裝置時不僅需要壓力勻均，而且需要壓力足夠并且能夠適用不同厚度光敏印墊。目前光敏印墊的厚度一般在3mm7mm之間，壓緊時一般需要將其厚度壓縮至原厚度的一半左右，如7mm的印墊需壓縮至34mm左右才能保證有較好