X射線熒光光譜分析的基礎知識

#/10一種晶體具有一定的晶面間距，因而有一定的應用范圍，目前的X射線熒光光譜儀備有不同晶面間距的晶體，用來分析不同范圍的元素。上述分光系統(tǒng)是依靠分光晶體和檢測器的轉動，使不同波長的特征X射線接順序被檢測，這種光譜儀稱為順序型光譜儀。另外還有一類光譜儀分光晶體是固定的，混合X射線經過分光晶體后，在不同方向衍射，如果在這些方向上安裝檢測器，就可以檢測到這些X射線。這種同時檢測多種波長X射線的光譜儀稱為同時型光譜儀，同時型光譜儀沒有轉動機構，因而性能穩(wěn)定，但檢測器通道不能太多，適合于固定元素的測定。此外，還有的光譜儀的分光晶體不用平面晶體，而用彎曲晶體，所用的晶體點陣面被彎曲成曲率半徑為2R的圓弧形，同時晶體的入射表面研磨成曲率半徑為R的圓弧，第一狹縫,第二狹縫和分光晶體放置在半徑為R的圓周上,使晶體表面與圓周相切，兩狹縫到晶體的距離相等（見圖1-6），用幾何法可以證明，當X射線從第一狹縫射向彎曲晶體各點時，它們與點陣平面的夾角都相同，且反射光束又重新會聚于第二狹縫處。因為對反射光有會聚作用，因此這種分光器稱為聚焦法分光器，以R為半徑的圓稱為聚焦圓或羅蘭圓。當分光晶體繞聚焦圓圓心轉動到不同位置時，得到不同的掠射角6,檢測器就檢測到不同波長的X射線。當然，第二狹縫和檢測器也必須作相應轉動，而且轉動速度是晶體速度的兩倍。聚焦法分光的最大優(yōu)點是熒光X射線損失少，檢測靈敏度高。第二濫蜒■8處也詁怵（青晶）第二濫蜒■8處也詁怵（青晶）圖丨弋聚焦云分光器.原理3、檢測記錄系統(tǒng)X射線熒光光譜儀用的檢測器有流氣正比計數器和閃爍計數器。（圖1-7）是流氣正比計數器結構示意圖。它主要由金屬圓筒負極和芯線正極組成，筒內充氬（90%）和甲烷（10%）的混合氣體，X射線射入管內，使Ar原子電離,生成的Ar+在向陰極運動時，又引起其它Ar原子電離，雪崩式電離的結果，產生一脈沖信號，脈沖幅度與X射線能量成正比。所以這種計數器叫正比計數器，為了保證計數器內所充氣體濃度不變，氣體一直是保持流動狀態(tài)的。流氣正比計數器適用于輕元素的檢測。

另外一種檢測裝置是閃爍計數器（圖1-8）。閃爍計數器由閃爍晶體和光電倍增管組成。X射線射到晶體后可產生光，再由光電倍增管放大，得到脈沖信號。閃爍計數器適用于重元素的檢測。除上述兩種檢測器外,還有半導體探測器，半導體探測器是用于能量色散型X射線的檢測。這樣，由X光激發(fā)產生的熒光X射線,經晶體分光后，由檢測器檢測，即得20熒光X射線強度關系曲線，即熒光X射線譜圖。光敏卩月橫發(fā)射極鋁強聚仕電極光電十圖17閃爍計數器世結構示意圖4、數據處理系統(tǒng)采用計算機及其軟件對X射線強度進行校正并換處成分析元素含量。5、換氣機構為減少大氣對長波X射線的吸收，應有抽真空系統(tǒng)或氦氣置換系統(tǒng)并有穩(wěn)定地維持其壓力的裝置。6、冷卻裝置為使X射線管及高壓電源在工作時處于良好散熱狀態(tài)，應有冷卻裝置。一般用水冷卻。側窗靶為陽極接地，可用潔凈自來水；冷卻端窗靶為陰極接地，陽極要用電阻率大于5.0MQ?cm的去離子水冷卻。7、附屬設備常用的附屬設備有自動進樣裝置、試料切割機、研磨機、粉碎機、混勻機、壓樣機、熔融機等，需要時性能應滿足要求。8、儀器安置為了使X射線熒光光譜儀處于正常工作狀態(tài)，安放儀器時要注意以下幾點：a）儀器室內無有害及腐蝕性氣體；b）避免日光直接照射儀器；c）為了使儀器處于良好穩(wěn)定狀態(tài),要有恒溫設備，一般室溫為20?25°C±2°C,相對濕度小于75%；d）儀器附近無強磁場及高頻干擾；e）室內無強烈振動且通風良好；f）使用專用地線，接地電阻應滿足儀器所要求的指標。9、儀器的檢定除了作好日常維護并用標準化試料校正儀器的漂移外，每年還應定期對儀器的技術指標進行檢定，包括精密度、穩(wěn)定性、X射線計數率、探測器分辨率和儀器的計數線性等。波長色散型儀器的檢定方法及檢定結果判定應遵循JJG810—93之規(guī)定。三、定量分析X射線熒光光譜定量分析是一種相對分析技術，要有一套已知含量的標準試料系列（經化學分析過的或人工合成的），通過測量標準試料系列和未知試料的X射線強度并加以比較進行定量分析。1、定量分析用試料的制備定量分析對度料有很嚴格的要求，這些要求因樣品形態(tài)不同而異。Q塊狀試料對各種塊、板或鑄件等不定形試樣，可用切割機、研磨機等加工成一定尺寸的試料；金屬粒、絲等可經重熔，鑄成平塊試料。試料照射面應能代表試料整體。⑥膜狀試料用薄膜材料制備膜狀試料時要特注意薄膜厚度的一致性及組成的均勻性。測量時為使薄膜平整鋪開，可加內襯材料作為支撐物，盡量選取用背景低的內襯材料。@粉狀試料粉末、顆粒以及組成不均勻的塊狀樣品可用粉碎機、研磨機等研磨至一定的粒度，取適當量直接壓片，必要時可加稀釋劑混勻或粘合劑加壓成具有光潔表面的試料，也可用硼酸鹽等作為熔劑熔解試樣，鑄成均勻性好的玻璃熔塊，或再粉碎熔塊加壓成型。Q液體試料測定液體樣品時要定量分取試液裝入液杯。測定時要注意避免試液揮發(fā)、泄漏、產生氣泡或沉淀等現象。也可取液體樣品滴加到適當載體（如濾紙）上干燥后測量。2、試料的污染受到污染的試料將造成分析誤差。X射線熒光光譜分析中要特別注意度料表而后污染，制樣過程中應注意的污染有以下幾方面：a）來自粉碎機、研磨機材質的污染；b）在溶解、熔融過程中來自容器的污染；c）試驗室工作環(huán)境的污染；d）試劑的污染；e）用手觸及試料表面時造成的污染；f）內襯材料的污染；g）粉末試樣加壓成型時造成的污染。3、定量分析方法Q標準曲線法測量一套（一般不少于5個）與分析試料理相類似的標準試料，將標準試料中分析元素的含量與X射線強度的關系繪制校準曲線用以求得未知試料中分析元素的含量。應用本法時要注意共存元素的影響，必要時選取用適當數學模式求得影響系數并加以校正。Q內標法對于添加某一成分后易于混合均勻的樣品，如溶液，可采用內標法，即把一定量的內標元素加到分析元不能含量已知的試料中作為標準試料，測量標準試料中分析元素與內標元素的X射線強度比，用該強度比相對分析元素含量繪制校準曲線。分析試料中也加入同一種內標物質和同樣的量，按同樣方法求得X射線強度比，從校準曲線求得含量。內標法適合含量高于10%的元素的測量，應注意不要因加入內標元不比而對分析線產生選擇吸收、選擇激發(fā)或重疊干擾。適當的基體元素譜線和散射線也可作為內標線。Q標準加入法標準加入法也稱增量法，即在試料中加入一定量的分析元素，根據X射線強度的變化而求得試料中分析元素的含量。使用這種方法要求分析元素含量與相應的X射線強度成線性關系且增量值不應少于二個，該法適用于元素含量小于10%的測定。4、定量分析的準確度為了獲得準確的定量分析結果，應注意以下幾點：a）使用含量數據可靠或經過驗證的標準試料；b）標準試料與分析試米的組成盡可能一致，制樣方法也應完全相同；c）為了消除共存元素的影響，要選擇正確的校正方法；d）分析無素含量不要超出標準試料所限定的范圍；e）儀器的漂移會導致校準曲線的位移，應在日常分析開始之前先用標準化試料對儀器進行校正。5、定量分析的精密度定量分析的精密度受許多因素的影響，如計數的統(tǒng)計漲落、背景、試料的均勻性和表面缺陷、儀器的穩(wěn)定性、計數損失等，應按GB1.4的要求，參照GB6379或YB949確定分析方法的精密度（重復性，再現性或允許差）。標準定量分析方法的允許差要滿足有關冶金產品標準的要求。

四、常用術語1、X射線強度X-rayintensityX射線熒光光譜分析中的強度系指單位時間內的計數，通常用I表示。2、能量分辨energyresolution脈沖高度分布的半高寬與平均脈沖高度之比，用百分數表示。3、背景background疊加在分析線上的連續(xù)譜，主要來自試料對入射輻射的散射。4、分析線analytelines需要對其強度進行測量并據此判定被測分析元素含量的特征譜線。X射線熒光光譜分析中一般應選擇強度大、干擾少、背景低的特征譜線作為分析線。5、干擾線interferencelines與分析線重疊或部分重疊，從而影響對分析線強度進行準確測量的譜線。6、檢出限limitofdetection在一定置信水平下能檢出的最低含量，通常用公式表示：式中：m式中：m單位濃度的每秒計數；Rb——背景的每秒計數；bTb——背景計數時間（總分析時間的一半）。b7、基體效應matrixeffects指試料的化學組成和物理-化學狀態(tài)對分析元素熒光X射線強度的影響，主要表現為吸收-增強效應、顆粒度效應、表面光潔度效應、化學狀態(tài)效應等。8、經驗系數法empiricalcoefficientsmethod用經驗的數學校正公式，依靠一系列標準試料以實驗方法確定某種共存元素對分析線的吸收-增強影響系數和重疊干擾系數而加以校正的方法。9、基本參數法fundamental-parametersmethod用原級X射線的光譜分布、質量吸收系數、熒光產額、吸收突變比、儀器幾何因子等基本參數計算出純元素分析線的理論強度，將測量強度代入基本參數法數學模型中，用迭代法計算至達到所要求的精度，得到分析元素含量的理論計算方法。10、校準曲線calibrationcurve校準曲線也稱工作曲線，即通過測量一套與試料化學組成、物理、化學狀態(tài)相似的標準系列的X射線強度，將其與相應的元素含量用最小二乘法擬合成的曲線，用以計算在相同的儀器條件下所測未知試料中