光刻膠行業(yè)深度調(diào)研與發(fā)展前景評(píng)估

光刻膠行業(yè)深度調(diào)研與發(fā)展前景評(píng)估202X-XX-XX01光刻膠行業(yè)定義光刻膠行業(yè)定義光刻膠是由樹(shù)脂、感光劑、溶劑及各類(lèi)添加劑等組成的對(duì)光敏感的混合液態(tài)感光材料。在圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等一系列流程環(huán)節(jié)后，光刻膠可將所需要的掩膜板圖形轉(zhuǎn)移至代加工襯底上。光刻膠是半導(dǎo)體、平板顯示器、PCB等微電子、光電子領(lǐng)域加工制造中使用的關(guān)鍵材料，其性能直接影響了下游應(yīng)用產(chǎn)品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻膠根據(jù)顯示效果的不同可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠:（1）正性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應(yīng)，可溶于顯影液；未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復(fù)制到襯底上。正性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng)為330～430納米，膠膜厚為1～3微米，正性光刻膠的分辨率更高，無(wú)溶脹現(xiàn)象。因此，正性光刻膠的應(yīng)用比負(fù)性光刻膠更為普及。（2）負(fù)性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用下，負(fù)性光刻膠曝光部分產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)而不溶于顯影液；未曝光部分溶于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復(fù)制到襯底上。負(fù)性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng)為330～430納米，膠膜厚0.3～1微米，負(fù)性光刻膠的分辨率比正性光刻膠低。因此，負(fù)性光刻膠的普及率低。02萌芽期（20世紀(jì)50年代～20世紀(jì)80年代初）萌芽期（20世紀(jì)50年代～20世紀(jì)80年代初）全球光刻膠行業(yè)起步于1950年，國(guó)外研究人員開(kāi)發(fā)出酚醛樹(shù)脂-重氮萘醌正性光刻膠，此類(lèi)光刻膠用稀堿水顯影時(shí)不存在膠膜溶脹問(wèn)題，制成的光刻膠分辨率較高，而且抗干法蝕刻性較強(qiáng)。正性光刻膠根據(jù)所用的曝光機(jī)不同，又可分為寬譜紫外正膠、g線正膠、i線正膠。三種類(lèi)型的正性光刻膠均采用線型酚醛樹(shù)脂制造出膜樹(shù)脂，重氮萘醌型酯化物作為感光劑，但由于酚醛樹(shù)脂和感光劑微觀結(jié)構(gòu)的不同，因此三種正膠的分辨率和應(yīng)用場(chǎng)景不同。如g線紫外正性光刻膠采用g線曝光，適用于0.5～0.6微米集成電路的制作，可滿(mǎn)足當(dāng)時(shí)大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的制作。1954年，美國(guó)柯達(dá)公司研發(fā)出聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物類(lèi)光刻膠體系，該類(lèi)光刻膠是最先應(yīng)用在電子工業(yè)中的光刻膠，但由于該類(lèi)光刻膠在硅片上的粘附性差，影響了它在電子工業(yè)的廣泛應(yīng)用。1958年，美國(guó)柯達(dá)公司成功研發(fā)出環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠，該類(lèi)光刻膠在硅片上具有粘附性良好、感光速度快、抗?jié)穹涛g能力強(qiáng)等特點(diǎn)。20世紀(jì)八十年代初，環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠成為電子工業(yè)主要應(yīng)用的光刻膠，為后續(xù)的光刻膠應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。初步發(fā)展期（20世紀(jì)80年代中期～20世紀(jì)90年代）快速發(fā)展期（21世紀(jì)至今）初步發(fā)展期（20世紀(jì)80年代中期～20世紀(jì)90年代）在全球集成電路行業(yè)發(fā)展的背景下，光刻膠技術(shù)工藝逐步提高。20世紀(jì)80年代中期，i線光刻技術(shù)進(jìn)入開(kāi)發(fā)期。20世紀(jì)90年代，i線光刻膠進(jìn)入高速發(fā)展期，并取代了g線光刻膠。隨著i線光刻機(jī)的改進(jìn)，i線光刻膠可制造線寬為0.25微米的集成電路，拓寬了i線光刻的應(yīng)用范圍。隨著KrF（248納米）、ArF（193納米）等稀有氣體鹵化物準(zhǔn)分子激發(fā)態(tài)激光光源技術(shù)的發(fā)展，深紫外光刻膠得以應(yīng)用。20世紀(jì)90年代前后，國(guó)外研究人員投入到KrF準(zhǔn)分子激光為曝光源的KrF光刻膠研究中，KrF光刻膠逐步開(kāi)始發(fā)展。然而，由于酚醛樹(shù)脂-重氮萘醌光刻膠在KrF（248納米）處有很強(qiáng)的非光漂白性吸收，導(dǎo)致光敏性差，因此KrF光刻膠無(wú)法使用。為了解決這一難題，國(guó)外研究學(xué)者通過(guò)提高曝光機(jī)的NA值及改進(jìn)配套光刻技術(shù)，以拓展KrF光刻膠應(yīng)用的界限，到20世紀(jì)90年代中后期，KrF光刻膠進(jìn)入成熟階段。這一時(shí)期，KrF光刻膠逐步應(yīng)用于液晶平板顯示器件加工制造中，對(duì)液晶平板顯示器的高精細(xì)化和彩色化發(fā)展起到推動(dòng)的作用。與此同時(shí)，在半導(dǎo)體集成度不斷提高的進(jìn)程中，光刻膠成為了半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中重要的材料，推進(jìn)半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步?？焖侔l(fā)展期（21世紀(jì)至今）進(jìn)入21世紀(jì)后，全球高科技行業(yè)發(fā)展迅速，光刻膠行業(yè)下游半導(dǎo)體、平板顯示器等新興行業(yè)得到較快的發(fā)展。光刻膠從g線、i線、KrF發(fā)展到ArF光刻膠。相比KrF光刻膠，ArF光刻膠具有更高的分辨率，可達(dá)到0.1微米。因此2005年，ArF光刻膠逐步應(yīng)用于90納米的制造工藝。在全球半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展的背景下，全球光刻膠相關(guān)企業(yè)加快在光刻膠領(lǐng)域的研發(fā)步伐。2004年Intel公司安裝了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一條EUV掩模試產(chǎn)線，表明EUV光刻膠從研發(fā)階段進(jìn)入試用階段。隨著微電子制造業(yè)精密度不斷提升，光刻膠的曝光波長(zhǎng)由寬譜紫外線向g線、i線、Krf、ArF發(fā)展到EUV光刻膠。作為新一代電子信息、新型顯示技術(shù)的重要基礎(chǔ)性化學(xué)材料，全球光刻膠需求得到增長(zhǎng)。全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2010年的56億美元增長(zhǎng)到2015年的71億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為7.9%，全球光刻膠行業(yè)進(jìn)入快速發(fā)展階段。03產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)業(yè)鏈上游產(chǎn)業(yè)鏈中游產(chǎn)業(yè)鏈下游產(chǎn)業(yè)鏈上游溶劑、樹(shù)脂、光敏劑、其他原材料、光刻機(jī)、顯影機(jī)、檢測(cè)與測(cè)試設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈下游半導(dǎo)體、平板顯示器、PCB、其他領(lǐng)域04產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)業(yè)鏈產(chǎn)業(yè)鏈上游產(chǎn)業(yè)鏈中游產(chǎn)業(yè)鏈下游產(chǎn)業(yè)鏈上游中國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游參與者為溶劑、樹(shù)脂、光敏劑等各類(lèi)原材料供應(yīng)商和光刻機(jī)、顯影機(jī)、檢測(cè)與測(cè)試等設(shè)備供應(yīng)商。溶劑、樹(shù)脂、光敏劑是光刻膠生產(chǎn)的主要原材料，其中光敏劑在光刻膠生產(chǎn)總成本中占比達(dá)到60%。根據(jù)在光刻膠行業(yè)有多年市場(chǎng)運(yùn)營(yíng)經(jīng)驗(yàn)的專(zhuān)家表示，在溶劑方面，中國(guó)僅有小部分企業(yè)從事研發(fā)和生產(chǎn)光刻膠溶劑，但溶劑生產(chǎn)量供不應(yīng)求，無(wú)法滿(mǎn)足中國(guó)光刻膠制造商的需求。在樹(shù)脂方面，中國(guó)處于起步發(fā)展階段，目前山東圣泉新材料股份有限公司具備樹(shù)脂生產(chǎn)能力，但生產(chǎn)的樹(shù)脂質(zhì)量不穩(wěn)定，符合光刻膠制造商要求的樹(shù)脂產(chǎn)量?jī)H有30%左右。在光敏劑方面，以常州強(qiáng)力電子新材料股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“強(qiáng)力新材”）為代表的光敏劑供應(yīng)商在光敏劑技術(shù)方面具有領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)，但強(qiáng)力新材的光敏劑主要應(yīng)用在PCB領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)，無(wú)法應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)。當(dāng)前，應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠光敏劑主要依靠進(jìn)口，市場(chǎng)主要被日本東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“東京應(yīng)化”）、韓國(guó)株式會(huì)社東進(jìn)世美肯（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“東進(jìn)”）和美國(guó)羅門(mén)哈斯電子材料有限公司等廠商所占據(jù)。整體而言，中國(guó)從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少，中國(guó)光刻膠原材料市場(chǎng)主要被日本、韓國(guó)和美國(guó)廠商所占據(jù)。因此，中國(guó)光刻膠制造商對(duì)進(jìn)口材料依賴(lài)性較大，在上游原材料環(huán)節(jié)的議價(jià)能力弱。在上游設(shè)備供應(yīng)商方面，光刻機(jī)、顯影機(jī)、檢測(cè)與測(cè)試設(shè)備是中國(guó)光刻膠制造的核心設(shè)備。由于中國(guó)在光刻機(jī)、顯影機(jī)、檢測(cè)與測(cè)試設(shè)備行業(yè)的起步時(shí)間較晚，且這些設(shè)備具備較高的制造工藝壁壘，導(dǎo)致中國(guó)在光刻膠、顯影機(jī)、檢測(cè)與測(cè)試設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化程度均低于10%，此類(lèi)設(shè)備主要依賴(lài)美國(guó)、日本、荷蘭等國(guó)。其中荷蘭ASML已壟斷了高端光刻機(jī)市場(chǎng)。由此可見(jiàn)，中國(guó)在行業(yè)上游設(shè)備市場(chǎng)方面不具備競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)，國(guó)外設(shè)備廠商的議價(jià)能力強(qiáng)。產(chǎn)業(yè)鏈中游中國(guó)光刻膠行業(yè)的中游參與主體為光刻膠制造商，主要負(fù)責(zé)光刻膠的研發(fā)、制造和銷(xiāo)售。光刻膠從原材料到最終成品的制造過(guò)程中，需要經(jīng)過(guò)成品提純、金屬雜質(zhì)去除、蒸餾、抽濾、合成、分液、濃縮等一系列生產(chǎn)工藝，每道生產(chǎn)工藝均涉及曝光光源、加工圖形線路精度等方面的不同關(guān)鍵技術(shù)。光刻膠品類(lèi)繁多，針對(duì)下游不同應(yīng)用需求，每種光刻膠產(chǎn)品的原材料配方和制備要求各不相同。因此，光刻膠制造商不僅需要具備研發(fā)能力和技術(shù)應(yīng)用能力，其研發(fā)人員還需具有較強(qiáng)的性能評(píng)價(jià)技術(shù)、微量分析技術(shù)能力以滿(mǎn)足下游電子信息產(chǎn)業(yè)的功能性需求。當(dāng)前全球光刻膠生產(chǎn)制造主要被日本JSR株式會(huì)社（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“JSR”）、東京應(yīng)化、信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“信越化學(xué)”）、日本住友化學(xué)株式會(huì)社（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“住友化學(xué)”）、美國(guó)陶氏化學(xué)有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“陶氏化學(xué)”）和韓國(guó)東進(jìn)等制造商所壟斷，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領(lǐng)域，其核心技術(shù)基本由美國(guó)和日本制造商所掌握。以半導(dǎo)體制造用的光刻膠市場(chǎng)為例，隨著半導(dǎo)體的集成度提升，因半導(dǎo)體制造用的光刻膠純度要求高，半導(dǎo)體對(duì)高性能半導(dǎo)體光刻膠提出了更高的要求。當(dāng)前日本住友化學(xué)、東京應(yīng)化，美國(guó)陶氏化學(xué)等制造商掌握超過(guò)90%的半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)，而在制造技術(shù)先進(jìn)的KrF、ArF和EUV光刻膠領(lǐng)域占據(jù)50%以上的市場(chǎng)，中國(guó)本土企業(yè)在光刻膠市場(chǎng)的份額較低，與國(guó)外光刻膠制造商仍存在差距。受益于中國(guó)政府頒布的利好政策，中國(guó)光刻膠制造商加大了光刻膠的研發(fā)力度。現(xiàn)階段，中國(guó)蘇州瑞紅、科華微電子兩家企業(yè)加強(qiáng)在高端光刻膠領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)布局。蘇州瑞紅的KrF光刻膠已進(jìn)入中試階段?？迫A微電子已建立年產(chǎn)能10噸的KrF光刻膠生產(chǎn)線。光刻膠行業(yè)存在嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證機(jī)制，憑借在KrF光刻膠的成熟制造工藝，科華微電子的KrF光刻膠已通過(guò)中國(guó)本土集成電路生產(chǎn)商中芯國(guó)際集成電路制造有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中芯國(guó)際”）認(rèn)證。與此同時(shí)，科華微電子也正在積極研發(fā)ArF光刻膠，其參與的國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)極紫外（EUV）光刻膠項(xiàng)目已通過(guò)驗(yàn)收，該項(xiàng)目完成了關(guān)鍵材料設(shè)計(jì)、制備和合成工藝研究、配方組成的研究和光刻膠設(shè)備等研究。可見(jiàn)，中國(guó)蘇州瑞紅和科華微電子在光刻膠產(chǎn)業(yè)積極布局，且其光刻膠已取得下游廠商的認(rèn)證，這兩家光刻膠制造商已在光刻膠領(lǐng)域取得較大進(jìn)步，推動(dòng)了光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。整體而言，中國(guó)光刻膠制造商與國(guó)外制造商相比，中國(guó)本土光刻膠制造商技術(shù)不高，市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力不強(qiáng)。未來(lái)，在光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加快的趨勢(shì)下，光刻膠制造商發(fā)展空間將逐步增大。產(chǎn)業(yè)鏈下游中國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用終端領(lǐng)域主要包括半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB領(lǐng)域。在“互聯(lián)網(wǎng)+”和5G進(jìn)程持續(xù)深化的背景下，各類(lèi)涉及電氣化和自動(dòng)化的場(chǎng)景都離不開(kāi)以半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB為核心的應(yīng)用。伴隨著消費(fèi)升級(jí)、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對(duì)半導(dǎo)體、平板顯示和PCB制造提出了愈加精細(xì)化的要求。光刻膠是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性材料，其質(zhì)量直接影響到電子工業(yè)產(chǎn)品的集成度和成品率。因此，隨著行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域不斷趨向定制化、個(gè)性化，下游應(yīng)用領(lǐng)域?qū)?dòng)光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展?？梢?jiàn)，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z行業(yè)在產(chǎn)品設(shè)計(jì)、技術(shù)發(fā)展具有導(dǎo)向性，尤其是半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB行業(yè)的發(fā)展對(duì)光刻膠行業(yè)的發(fā)展具有至關(guān)重要的作用，這三大行業(yè)應(yīng)用的終端用戶(hù)在光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中具有強(qiáng)大的議價(jià)權(quán)。05政治環(huán)境1政治環(huán)境1《電子基礎(chǔ)材料和關(guān)鍵元器件“十一五”專(zhuān)項(xiàng)規(guī)劃》《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》《國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）》《電子基礎(chǔ)材料和關(guān)鍵元器件“十一五”專(zhuān)項(xiàng)規(guī)劃》指出要重點(diǎn)支持國(guó)內(nèi)6英寸及以上集成電路生產(chǎn)所有的248納米及以下光刻膠、引線框架等配套產(chǎn)品?！秶?guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》提出要加強(qiáng)集成電路裝備、材料與工藝結(jié)合，開(kāi)發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關(guān)鍵材料，加強(qiáng)集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協(xié)作，加快產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)配套能力?！秶?guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）》明確將高分辨率光刻膠及配套化學(xué)品列入“精細(xì)化學(xué)品”大類(lèi)的“電子化學(xué)品”項(xiàng)，光刻膠成為中國(guó)重點(diǎn)發(fā)展的新材料領(lǐng)域。06政治環(huán)境2政治環(huán)境2《石化和化學(xué)工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016-2020年）》《“十三五”先進(jìn)制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專(zhuān)項(xiàng)規(guī)劃》《石化和化學(xué)工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016-2020年）》指出要發(fā)展集成電路用電子化學(xué)品，重點(diǎn)發(fā)展KrF（248納米）和ArF（193納米）光刻膠，推進(jìn)中國(guó)電子化學(xué)品行業(yè)發(fā)展。《“十三五”先進(jìn)制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專(zhuān)項(xiàng)規(guī)劃》明確將深紫外光刻膠列為極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝的關(guān)鍵材料，支撐關(guān)鍵材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新生態(tài)體系建設(shè)與發(fā)展，同年12月，中國(guó)發(fā)改委頒布《新材料關(guān)鍵技術(shù)產(chǎn)業(yè)化實(shí)施方案》，指出要發(fā)展高端專(zhuān)用化學(xué)品，包括KrF（248納米）光刻膠和ArF光刻膠(193納米)，為大型和超大型集成電路提供設(shè)備，且單套裝置規(guī)模達(dá)到10噸/年。綜上所述，中國(guó)已將光刻膠行業(yè)列為重點(diǎn)發(fā)展行業(yè)，積極推進(jìn)光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級(jí)。相關(guān)利好政策有助于推動(dòng)中國(guó)光刻膠行業(yè)技術(shù)水平的提升，從而促使中國(guó)光刻膠行業(yè)進(jìn)步。07政治環(huán)境2政治環(huán)境2《關(guān)于促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》《關(guān)于儆好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》《關(guān)于促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線茲小于28納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線寬小于65納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅辛減半征收企業(yè)所得稅;國(guó)家鼓勵(lì)的集成電路線寬小于130納米(含)，且經(jīng)營(yíng)期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項(xiàng)目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅?！蛾P(guān)于儆好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項(xiàng)目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策08經(jīng)濟(jì)環(huán)境經(jīng)濟(jì)環(huán)境近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，也迎來(lái)了高速發(fā)展期。光刻膠又稱(chēng)光致抗蝕劑，是一種對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠主要是由光引發(fā)劑、樹(shù)脂以及各類(lèi)添加劑等化學(xué)品成份組成的對(duì)光敏感的感光性材料，光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上，因此光刻膠主要用于電子信息產(chǎn)業(yè)中印制電路板的線路加工、各類(lèi)液晶顯示器的制作、半導(dǎo)體芯片及器件的微細(xì)圖形加工等領(lǐng)域。09社會(huì)環(huán)境1社會(huì)環(huán)境1010201我國(guó)光刻膠的研究始于20世紀(jì)70年代，最初階段與國(guó)際水平相差無(wú)幾，但由于種種原因，差距愈來(lái)愈大。發(fā)展至今，我國(guó)中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴(lài)進(jìn)口。02為加快推進(jìn)我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，相關(guān)鼓勵(lì)性、支持性政策陸續(xù)發(fā)布。2019年，中國(guó)光刻膠銷(xiāo)售額達(dá)到人民幣84億元，若按美元兌人民幣匯率(1:6.5)計(jì)算，中國(guó)的市場(chǎng)規(guī)模幾乎占全球總量的15%。010社會(huì)環(huán)境2社會(huì)環(huán)境2發(fā)展至今，我國(guó)中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴(lài)進(jìn)口。2020年，在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)中，面板顯示及半導(dǎo)體光刻膠國(guó)內(nèi)企業(yè)在市場(chǎng)中占比不足40%，但部分細(xì)分產(chǎn)品已逐步實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破；此外，在PCB光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中，中國(guó)企業(yè)占比約61%，外資企業(yè)占比約39%011行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素1政策支持1中國(guó)光刻膠技術(shù)逐步提高1政策支持1近年來(lái)，中國(guó)發(fā)改委、國(guó)務(wù)院出臺(tái)了一系列紅利政策，鼓勵(lì)光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級(jí)，推動(dòng)中國(guó)光刻膠行業(yè)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。1中國(guó)光刻膠技術(shù)逐步提高1受益于國(guó)家“02專(zhuān)項(xiàng)”的支持，中國(guó)光刻膠行業(yè)從起步時(shí)期依靠進(jìn)口發(fā)展到如今，已具備部分光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和制造能力，中國(guó)光刻膠行業(yè)取得了一定的技術(shù)進(jìn)步，推動(dòng)光刻膠國(guó)產(chǎn)化程度的提升。現(xiàn)階段，中國(guó)在中高端光刻膠技術(shù)已得到突破。在i線光刻膠方面，科華微電子已建成年產(chǎn)500噸i線光刻膠生產(chǎn)線，打破了國(guó)外廠商在i線光刻膠的壟斷。與此同時(shí)，科華微電子已建立了KrF光刻膠生產(chǎn)線，并已通過(guò)中芯國(guó)際的認(rèn)證，已實(shí)現(xiàn)小批量供貨。在高端的KrF光刻膠方面，蘇州瑞紅已建成了KrF光刻膠中試生產(chǎn)線，KrF光刻膠分辨率達(dá)到0.25～0.13微米的技術(shù)要求。012行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素行業(yè)驅(qū)動(dòng)因素全球半導(dǎo)體制造基地向中國(guó)轉(zhuǎn)移5G商用帶動(dòng)光刻膠行業(yè)發(fā)展全球半導(dǎo)體制造基地向中國(guó)轉(zhuǎn)移半導(dǎo)體行業(yè)是電子信息高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心。在“中國(guó)制造2025”進(jìn)程持續(xù)深化的背景下，人工智能、云計(jì)算、物聯(lián)網(wǎng)興起成為中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的主要?jiǎng)恿ΑＥc此同時(shí)，中國(guó)作為全球最大的電子整機(jī)制造基地，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品需求不斷增長(zhǎng)，推動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。近年來(lái)，憑借著巨大的市場(chǎng)容量和消費(fèi)群體，中國(guó)大陸半導(dǎo)體銷(xiāo)售額占全球半導(dǎo)體銷(xiāo)售額的30%左右，超過(guò)美國(guó)、歐洲、日本，成為全球最大的半導(dǎo)體銷(xiāo)售國(guó)，中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)發(fā)展勢(shì)頭良好，吸引了全球晶圓制造商在中國(guó)建廠，全球半導(dǎo)體制造產(chǎn)能逐步向中國(guó)轉(zhuǎn)移。根據(jù)國(guó)家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)顯示，2017年至2020年期間，中國(guó)大陸將新建27座晶圓廠，在全球新建晶圓廠數(shù)量中占比為45G商用帶動(dòng)光刻膠行業(yè)發(fā)展2017年，中國(guó)國(guó)務(wù)院在《關(guān)于進(jìn)一步擴(kuò)大和升級(jí)信息消費(fèi)持續(xù)釋放內(nèi)需潛力的指導(dǎo)意見(jiàn)》中提出加快第五代移動(dòng)通信（5G）標(biāo)準(zhǔn)研究、技術(shù)試驗(yàn)和產(chǎn)業(yè)推進(jìn)，力爭(zhēng)2020年啟動(dòng)商用。當(dāng)前，中國(guó)已具備5G商用部署條件，并已逐步啟動(dòng)5G通信的措施。2019年6月，中國(guó)工信部正式向中國(guó)電信、中國(guó)移動(dòng)、中國(guó)聯(lián)通、中國(guó)廣電發(fā)放5G商用牌照。中國(guó)移動(dòng)、中國(guó)聯(lián)通、中國(guó)電信三大運(yùn)營(yíng)均已公布5G部署。而高頻PCB是實(shí)現(xiàn)5G應(yīng)用的電子部件之一。因此，5G的商用成為光刻膠行業(yè)發(fā)展的動(dòng)力，帶動(dòng)光刻膠的需求增長(zhǎng)。5G通信系統(tǒng)在3,000MHz～5,000MHz的頻率使用，與4G通信系統(tǒng)相比，5G數(shù)據(jù)傳輸速度提高10倍以上。為實(shí)現(xiàn)無(wú)線傳輸、增加傳輸速率，大規(guī)模的天線陣列和超密集組網(wǎng)是發(fā)展5G的關(guān)鍵技術(shù)，而高頻PCB是5G通信基材，具有低損耗、高可靠性、高頻特性等特點(diǎn)。在5G技術(shù)的發(fā)展下，5G新建的通信基站數(shù)量將會(huì)達(dá)到4G時(shí)代的2倍以上，超密集小基站建設(shè)擴(kuò)大了高頻PCB需求。作為PCB制造環(huán)節(jié)的必備材料，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)需求相應(yīng)地將快速釋放。013行業(yè)現(xiàn)狀行業(yè)現(xiàn)狀全球光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和美國(guó)企業(yè)掌握，中國(guó)在光刻膠行業(yè)與國(guó)際先進(jìn)水平相比仍有差距。一方面，中國(guó)光刻膠關(guān)鍵原材料和光刻膠設(shè)備主要依賴(lài)進(jìn)口，對(duì)外依存度大。另一方面，國(guó)外光刻膠制造商起步早，市場(chǎng)把控力強(qiáng)，競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)明顯。而中國(guó)光刻膠制造商起步晚，缺乏技術(shù)積累，導(dǎo)致中國(guó)光刻膠制造商的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力弱。在全球大力發(fā)展高新技術(shù)的背景下，中國(guó)政府對(duì)于光刻膠的發(fā)展關(guān)注度較高。自“六五”計(jì)劃以來(lái)，光刻膠行業(yè)被列為國(guó)家高新技術(shù)計(jì)劃和國(guó)家重大科技項(xiàng)目。中國(guó)政府通過(guò)頒布一系列紅利政策，鼓勵(lì)光刻膠行業(yè)產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級(jí)，在規(guī)劃部署行業(yè)發(fā)展方向上起到了引導(dǎo)的作用。中國(guó)本土光刻膠制造商加強(qiáng)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈布局，以蘇州瑞紅電子化學(xué)品有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“蘇州瑞紅”）、北京科華微電子材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“科華微電子”）、深圳市容大感光科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“容大感光”）等為代表的光刻膠制造商已開(kāi)啟了光刻膠自主研發(fā)步伐，逐步具備了自主研發(fā)光刻膠的實(shí)力。當(dāng)前，蘇州瑞紅、科華微電子已實(shí)現(xiàn)光刻膠產(chǎn)品自主研發(fā)和規(guī)模化生產(chǎn)，并取得行業(yè)下游中國(guó)本土廠商的認(rèn)證，為行業(yè)下游半導(dǎo)體、平板顯示、PCB廠商供貨。014行業(yè)現(xiàn)狀行業(yè)現(xiàn)狀PCB光刻膠技術(shù)含量較低，國(guó)產(chǎn)化率超過(guò)50%半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最高，國(guó)產(chǎn)化率極低PCB光刻膠技術(shù)含量較低，國(guó)產(chǎn)化率超過(guò)50%PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱(chēng)液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來(lái)濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢(shì)，容易得到高分辨率，滿(mǎn)足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約3~5%。全球PCB光刻膠市場(chǎng)規(guī)模在20億美元左右，中國(guó)市場(chǎng)規(guī)模占比達(dá)50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國(guó)已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。PCB光刻膠全球市場(chǎng)行業(yè)集中度較高。干膜光刻膠方面，臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據(jù)了全球80%以上的市場(chǎng)份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽(yáng)油墨占據(jù)全球60%左右的市場(chǎng)份額，前十家公司合計(jì)占據(jù)全球80%以上的市場(chǎng)份額。半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最高，國(guó)產(chǎn)化率極低半導(dǎo)體是光刻膠最重要的應(yīng)用領(lǐng)域。光刻和刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體芯片在精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本約為整個(gè)芯片制造工藝的30%，耗時(shí)約占整個(gè)芯片工藝的40%~50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學(xué)品在芯片制造材料成本中的占比高達(dá)12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。光刻膠市場(chǎng)需求快速增長(zhǎng)。隨著半導(dǎo)體線路圖形越來(lái)越小，光刻工藝對(duì)光刻膠的需求量也越來(lái)越大。2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約13億美元，未來(lái)5年年均增速約8%~10%；中國(guó)半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約23億元人民幣，未來(lái)5年年均增速約10%。015行業(yè)現(xiàn)狀行業(yè)現(xiàn)狀在全球高新技術(shù)發(fā)展的背景下，中國(guó)政府高度重視半導(dǎo)體、平板顯示器及PCB行業(yè)發(fā)展。在國(guó)家一系列紅利政策帶動(dòng)下，中國(guó)半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭良好。作為半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)制造環(huán)節(jié)中關(guān)鍵的材料，光刻膠的市場(chǎng)需求得到快速釋放，尤其是平板顯示器用的光刻膠產(chǎn)量增長(zhǎng)，中國(guó)光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢(shì)。根據(jù)研究院數(shù)據(jù)顯示，中國(guó)光刻膠產(chǎn)量從2014年的6.3萬(wàn)噸增長(zhǎng)到2018年的9.0萬(wàn)噸，年復(fù)合增長(zhǎng)率為9.3%。受益于中國(guó)紅利政策的扶持，中國(guó)本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進(jìn)光刻膠國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程。未來(lái)，中國(guó)有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動(dòng)中國(guó)光刻膠產(chǎn)量進(jìn)一步提升。與此同時(shí)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、平板顯示器、PCB行業(yè)逐漸向中國(guó)轉(zhuǎn)移，帶動(dòng)中國(guó)光刻膠的需求激增，中國(guó)光刻膠行業(yè)擁有較大發(fā)展空間。除此之外，在中國(guó)“工業(yè)0”、“互聯(lián)網(wǎng)+”和“中國(guó)制造2020”持續(xù)深化發(fā)展的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z的需求有望持續(xù)增長(zhǎng)，從而推動(dòng)中國(guó)光刻膠產(chǎn)量提升，到2023年中國(guó)光刻膠產(chǎn)量有望達(dá)到28萬(wàn)噸，市場(chǎng)發(fā)展空間廣闊。016行業(yè)現(xiàn)狀行業(yè)現(xiàn)狀隨著PCB外資企業(yè)陸續(xù)在中國(guó)建廠，中國(guó)成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地，促使中國(guó)本土光刻膠制造商崛起，極大地推動(dòng)了中國(guó)PCB光刻膠的發(fā)展。當(dāng)前，中國(guó)光刻膠制造商在PCB領(lǐng)域制造用的光刻膠已逐步實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代，打破了國(guó)外光刻膠制造商在該領(lǐng)域的壟斷，推進(jìn)了中國(guó)光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程的加快。然而，在技術(shù)要求較高的半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域，與國(guó)外光刻膠制造商相比，中國(guó)本土光刻膠制造商的生產(chǎn)配方工藝和制造技術(shù)仍存在差距。中國(guó)在半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域用的光刻膠主要集中在g線和i線光刻膠，而在中高端市場(chǎng)，半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域制造用的KrF和ArF光刻膠則被日本和美國(guó)企業(yè)所占據(jù)，中國(guó)在中高端市場(chǎng)不具備市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力，在光刻膠技術(shù)方面仍需進(jìn)一步增強(qiáng)自身競(jìng)爭(zhēng)力。017行業(yè)熱點(diǎn)行業(yè)熱點(diǎn)熱點(diǎn)一光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域廣泛熱點(diǎn)二科研服務(wù)市場(chǎng)持續(xù)增長(zhǎng)熱點(diǎn)三行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量整體提高熱點(diǎn)一光刻膠應(yīng)用領(lǐng)域廣泛熱點(diǎn)二科研服務(wù)市場(chǎng)持續(xù)增長(zhǎng)光刻膠行業(yè)具有市場(chǎng)空間廣闊、銷(xiāo)售范圍廣、用戶(hù)分散、單批數(shù)量少、銷(xiāo)售單價(jià)高等特點(diǎn)。熱點(diǎn)三行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量整體提高光刻膠行業(yè)技術(shù)提升，多元化科研服務(wù)平臺(tái)持續(xù)擴(kuò)張，促進(jìn)高價(jià)值服務(wù)企業(yè)品牌形成。行業(yè)產(chǎn)品化發(fā)展，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體的綜合性科研服務(wù)企業(yè)逐漸增多。018行業(yè)制約因素行業(yè)制約因素專(zhuān)業(yè)人才儲(chǔ)備不足行業(yè)進(jìn)入壁壘高光刻機(jī)的配套需求專(zhuān)業(yè)人才儲(chǔ)備不足光刻膠是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，是集基礎(chǔ)化學(xué)、物理學(xué)和電子工程等多學(xué)科結(jié)合的綜合學(xué)科領(lǐng)域，對(duì)多學(xué)科交叉的復(fù)合型人才需求較大。雖然目前中國(guó)高校設(shè)置了相關(guān)光刻膠領(lǐng)域的課程，但是受教學(xué)配套設(shè)施資源有限的影響，中國(guó)大部分高校的課程設(shè)置仍然滯后，難以形成實(shí)際操作應(yīng)用。而光刻膠的實(shí)際生產(chǎn)要求光刻膠技術(shù)人員具有很強(qiáng)專(zhuān)業(yè)性:不僅要求技術(shù)人員具備較強(qiáng)的技術(shù)理論水平，技術(shù)綜合運(yùn)用能力和實(shí)際操作經(jīng)驗(yàn)，還需要技術(shù)人員對(duì)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)有深入的了解，才能把握市場(chǎng)機(jī)遇，進(jìn)行產(chǎn)品開(kāi)發(fā)以達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平。但由于培養(yǎng)一位光刻膠人才需要3-5年，培養(yǎng)經(jīng)驗(yàn)豐富的專(zhuān)業(yè)人才需要至少10年，導(dǎo)致目前中國(guó)光刻膠相關(guān)企業(yè)的專(zhuān)業(yè)人才儲(chǔ)備不足。行業(yè)進(jìn)入壁壘高光刻膠品種種類(lèi)繁多、專(zhuān)業(yè)跨度大，其行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)企業(yè)對(duì)光刻膠純度和性能要求嚴(yán)格。因此，光刻膠行業(yè)存在較為嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證機(jī)制，下游應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域企業(yè)與光刻膠制造商合作前會(huì)對(duì)光刻膠制造商的研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、產(chǎn)品質(zhì)量及性能等方面進(jìn)行充分考核。光刻膠制造商成為合格供應(yīng)商之前，必須經(jīng)過(guò)產(chǎn)品送樣測(cè)試、樣品認(rèn)證、樣品中試、工廠現(xiàn)場(chǎng)審核、小批試做、大批量供貨等嚴(yán)格的篩選流程，認(rèn)證流程多、周期長(zhǎng)。光刻膠供應(yīng)商一旦通過(guò)下游應(yīng)用廠商的認(rèn)證，將會(huì)成為光刻膠的合格供應(yīng)商，并形成相對(duì)穩(wěn)定的合作關(guān)系且不輕易更換。穩(wěn)定的合作關(guān)系使得行業(yè)中知名企業(yè)具有一定的客戶(hù)壁壘，而這一穩(wěn)定的合作模式也使得光刻膠生產(chǎn)商的市場(chǎng)份額較為穩(wěn)定，市場(chǎng)新進(jìn)入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)，簽約新客戶(hù)的難度高，同時(shí)也導(dǎo)致中小光刻膠制造商的產(chǎn)品難以進(jìn)行測(cè)試與改進(jìn)。由于光刻膠行業(yè)技術(shù)門(mén)檻較高，主要的光刻膠市場(chǎng)被國(guó)外制造商所占據(jù)，中國(guó)光刻膠制造商在行業(yè)的市場(chǎng)份額低。因此，在國(guó)外光刻膠制造商占據(jù)主要市場(chǎng)份額的形勢(shì)下，嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證機(jī)制會(huì)使中國(guó)光刻膠制造商尤其是中小規(guī)模的光刻膠制造商難以發(fā)展壯大，阻礙了中國(guó)光刻膠行業(yè)的發(fā)展。光刻機(jī)的配套需求光刻膠需要有相應(yīng)的光刻機(jī)與之配對(duì)調(diào)試，資金壁壘較高。目前全球光刻機(jī)核心技術(shù)處于壟斷狀態(tài)，只有荷蘭ASML公司可制造EUV光刻機(jī)，售價(jià)超過(guò)1億歐元；而技術(shù)水平稍低的DUV光刻機(jī)，售價(jià)為2000~5000萬(wàn)美元；目前國(guó)內(nèi)只有一家企業(yè)可制造光刻機(jī)，且技術(shù)等級(jí)較低。019行業(yè)問(wèn)題行業(yè)問(wèn)題質(zhì)量參差不齊行業(yè)監(jiān)管難度大高端產(chǎn)品發(fā)展落后質(zhì)量參差不齊光刻膠行業(yè)缺乏完備的質(zhì)量控制和質(zhì)量保證體系，生產(chǎn)商缺乏統(tǒng)一的生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，行業(yè)內(nèi)產(chǎn)品質(zhì)量良莠不齊，導(dǎo)致產(chǎn)品的可靠性難以保證，喪失產(chǎn)品市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。行業(yè)監(jiān)管難度大高端產(chǎn)品發(fā)展落后020行業(yè)發(fā)展建議行業(yè)發(fā)展建議2提升產(chǎn)品質(zhì)量2全面增值服務(wù)2多元化融資渠道2提升產(chǎn)品質(zhì)量2（1）政府方面：政府應(yīng)當(dāng)制定行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)范光刻膠行業(yè)生產(chǎn)流程，并成立相關(guān)部門(mén)，對(duì)科研用光刻膠行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售等各個(gè)環(huán)節(jié)進(jìn)行監(jiān)督，形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理體系，完善試劑流通環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)，重點(diǎn)加強(qiáng)冷鏈運(yùn)輸環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施升級(jí)，保證光刻膠行業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量，促進(jìn)行業(yè)長(zhǎng)期穩(wěn)定的發(fā)展；（2）生產(chǎn)企業(yè)方面：光刻膠行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)嚴(yán)格遵守行業(yè)生產(chǎn)規(guī)范，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。目前市場(chǎng)上已有多個(gè)本土光刻膠行業(yè)企業(yè)加強(qiáng)生產(chǎn)質(zhì)量的把控，對(duì)標(biāo)優(yōu)質(zhì)、高端的進(jìn)口產(chǎn)品，并憑借價(jià)格優(yōu)勢(shì)逐步替代進(jìn)口。此外，光刻膠行業(yè)企業(yè)緊跟行業(yè)研發(fā)潮流，加大創(chuàng)新研發(fā)力度，不斷推出新產(chǎn)品，進(jìn)一步擴(kuò)大市場(chǎng)占有率，也是未來(lái)行業(yè)發(fā)展的重要趨勢(shì)。2全面增值服務(wù)2單一的資金提供方角色僅能為光刻膠行業(yè)企業(yè)提供“凈利差”的盈利模式，光刻膠行業(yè)同質(zhì)化競(jìng)爭(zhēng)日趨嚴(yán)重，利潤(rùn)空間不斷被壓縮，企業(yè)業(yè)務(wù)收入因此受影響，商業(yè)模式亟待轉(zhuǎn)型除傳統(tǒng)的光刻膠行業(yè)需求外，設(shè)備管理、服務(wù)解決方案、貸款解決方案、結(jié)構(gòu)化融資方案、專(zhuān)業(yè)咨詢(xún)服務(wù)等方面多方位綜合性的增值服務(wù)需求也逐步增強(qiáng)。中國(guó)本土光刻膠行業(yè)龍頭企業(yè)開(kāi)始在定制型服務(wù)領(lǐng)域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位2多元化融資渠道2可持續(xù)公司債等創(chuàng)新產(chǎn)品，擴(kuò)大非公開(kāi)定向債務(wù)融資工具（PPN）、公司債等額度獲取，形成了公司債、PPN、中期票據(jù)、短融、超短融資等多產(chǎn)品、多市場(chǎng)交替發(fā)行的新局面；企業(yè)獲取各業(yè)態(tài)銀行如國(guó)有銀行、政策性銀行、外資銀行以及其他中資行的授信額度，確保了銀行貸款資金來(lái)源的穩(wěn)定性。光刻膠行業(yè)企業(yè)在保證間接融資渠道通暢的同時(shí)，能夠綜合運(yùn)用發(fā)債和資產(chǎn)證券化等方式促進(jìn)自身融資渠道的多元化，降低對(duì)單一產(chǎn)品和市場(chǎng)的依賴(lài)程度，實(shí)現(xiàn)融資地域的分散化，從而降低資金成本，提升企業(yè)負(fù)債端的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。以遠(yuǎn)東宏信為例，公司依據(jù)自身戰(zhàn)略發(fā)展需求，堅(jiān)持“資源全球化”戰(zhàn)略，結(jié)合實(shí)時(shí)國(guó)內(nèi)外金融環(huán)境，有效調(diào)整公司直接融資和間接融資的分布結(jié)構(gòu)，在融資成本方面與同業(yè)相比優(yōu)勢(shì)突出。021競(jìng)爭(zhēng)格局競(jìng)爭(zhēng)格局競(jìng)爭(zhēng)格局1競(jìng)爭(zhēng)格局2競(jìng)爭(zhēng)格局1光刻膠行業(yè)具有品種多、專(zhuān)業(yè)跨度大、專(zhuān)用性強(qiáng)的特點(diǎn)，對(duì)光刻膠制造商的資金和研發(fā)能力積累均有較高的要求。因此，中國(guó)光刻膠行業(yè)的參與者主要以規(guī)模較大、資金實(shí)力雄厚的制造商為主，業(yè)內(nèi)從事光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)的制造商稀少，行業(yè)集中度高。由于中國(guó)在光刻膠行業(yè)研發(fā)和工藝制造能力方面不足，中國(guó)目前僅有科華微電子和蘇州瑞紅兩家光刻膠生產(chǎn)企業(yè)。在g線、i線光刻膠方面，科華微電子和蘇州瑞紅生產(chǎn)的g線、i線光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)行業(yè)下游廠商測(cè)試，可為下游廠商供貨。在KrF光刻膠方面，科華微電子已建立年產(chǎn)能10噸的KrF光刻膠生產(chǎn)線，其KrF光刻膠是中國(guó)唯一通過(guò)中芯國(guó)際認(rèn)證的產(chǎn)品，并且已經(jīng)實(shí)現(xiàn)批量供貨。蘇州瑞紅KrF光刻膠已完成研發(fā)，目前正處于中試階段。在ArF光刻膠方面，科華微電子生產(chǎn)的ArF光刻膠已在中國(guó)規(guī)模較大的集成電路制造商測(cè)試，達(dá)到集成電路制造商驗(yàn)證要求，2020年能有效突破并完成驗(yàn)證。除了科華微電子和蘇州瑞紅兩家生產(chǎn)企業(yè)，容大感光也開(kāi)發(fā)i線正性光刻膠，并已實(shí)現(xiàn)小批量生產(chǎn)，在中國(guó)6寸集成電路芯片制造領(lǐng)域應(yīng)用競(jìng)爭(zhēng)格局2整體來(lái)看，中國(guó)中高端的主要生產(chǎn)企業(yè)以科華微電子和蘇州瑞紅為主，市場(chǎng)集中度較高。這兩家企業(yè)在各類(lèi)光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)領(lǐng)域積累了豐富經(jīng)驗(yàn)，逐步打破了國(guó)外企業(yè)在中高端光刻膠的壟斷格局，逐步實(shí)現(xiàn)部分產(chǎn)品進(jìn)口替代，研發(fā)技術(shù)在中國(guó)業(yè)內(nèi)處于領(lǐng)先地位。而在中低端領(lǐng)域，光刻膠市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)激烈。隨著中國(guó)光刻膠企業(yè)對(duì)光刻膠的研發(fā)投入持續(xù)上升，中國(guó)光刻膠企業(yè)的技術(shù)水平將不斷提高，行業(yè)內(nèi)的競(jìng)爭(zhēng)將會(huì)更加激烈。022行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)EUV光刻膠將成為主流光刻膠產(chǎn)品定制化需求增長(zhǎng)EUV光刻膠將成為主流光刻膠的波長(zhǎng)由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉(zhuǎn)移。隨著光刻膠的曝光波長(zhǎng)縮短，光刻膠所能達(dá)到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進(jìn)集成電路芯片向更小的制程節(jié)點(diǎn)發(fā)展。近年來(lái)，隨著芯片技術(shù)的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術(shù)工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)?；懂a(chǎn)使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產(chǎn)技術(shù)的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒(méi)式光刻工藝和多重曝光技術(shù)突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細(xì)線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點(diǎn)，但ArF光刻膠未能實(shí)現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過(guò)縮短光線的波長(zhǎng)來(lái)提高曝光時(shí)的分辨率，從而滿(mǎn)足微細(xì)圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實(shí)現(xiàn)14納米節(jié)點(diǎn)以下的最可行方案。當(dāng)前，三星電子和臺(tái)積電已具備EUV制程。如臺(tái)積電采用EUV制程，量產(chǎn)7納米芯片產(chǎn)品，在7納米市場(chǎng)占據(jù)絕對(duì)優(yōu)勢(shì)。一旦EUV技術(shù)發(fā)展成熟，EUV光刻膠將是未來(lái)7納米和5納米制程芯片的主流材料，在半導(dǎo)體制造中的占比將逐漸提高。光刻膠產(chǎn)品定制化需求增長(zhǎng)在全球化技術(shù)浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革正加快升級(jí)步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品趨向定制化和多樣化需求增長(zhǎng)。光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢(shì)，對(duì)光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術(shù)工藝和光刻膠產(chǎn)品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個(gè)性化方向發(fā)展。為滿(mǎn)足行業(yè)下游個(gè)性化的需求，光刻膠制造商需要根據(jù)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)提出的整體生產(chǎn)工藝和定制化設(shè)計(jì)需求，設(shè)計(jì)和制造出符合客戶(hù)產(chǎn)品的技術(shù)和生產(chǎn)工藝，同時(shí)還需提供一體化技術(shù)綜合服務(wù)和產(chǎn)品升級(jí)服務(wù)等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)升級(jí)的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域市場(chǎng)將趨向非標(biāo)準(zhǔn)化，推動(dòng)定制化光刻膠需求的增長(zhǎng)。023行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)光刻膠產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化程度提升部分企業(yè)通過(guò)參股與收購(gòu)方式加速實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破光刻膠產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化程度提升當(dāng)前，中國(guó)光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)技術(shù)仍主要依賴(lài)進(jìn)口，尤其是生產(chǎn)半