上傳人：f***

認(rèn)證信息

認(rèn)證類型：個(gè)人認(rèn)證

認(rèn)證主體：馮**（實(shí)名認(rèn)證）

IP屬地：天津

IP屬地：天津 上傳時(shí)間：2023-09-26 格式：DOCX 頁(yè)數(shù)：3 大小：68.33KB 積分：12 舉報(bào) 版權(quán)申訴

世紀(jì)經(jīng)庶經(jīng)典試劑!CENTURYCLASSIC,CLASSICREAGENTt雜質(zhì)總含量不大于1.0X10-2雜質(zhì)總含量不大于1.0X10-2%其純度為4個(gè)9(99.99)簡(jiǎn)寫為4.0N雜質(zhì)總含量不大于1.0X10-3%其純度為5個(gè)9(99.999)簡(jiǎn)寫為5N解析高純?cè)噭┮约案呒冊(cè)噭┓诸惣兌冗h(yuǎn)高于優(yōu)級(jí)純的試劑叫做高純?cè)噭?。是在通用試劑基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的，是為了專門的使用目的而用特殊方法生產(chǎn)的純度最高的試劑。高純?cè)噭┛刂频氖请s質(zhì)項(xiàng)含量，基準(zhǔn)試劑控制的是主含量，基準(zhǔn)試劑可用標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制，但高純?cè)噭┎荒苡糜跇?biāo)準(zhǔn)溶液的配制(單質(zhì)氧化物除外)。目前在國(guó)際上也無(wú)統(tǒng)一的明確規(guī)格，我國(guó)除對(duì)少數(shù)產(chǎn)品制定了國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)外，大部分高純?cè)噭┑馁|(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)還很不統(tǒng)一，在名稱上也有高純、超純、特純、光譜純、電子純等不同叫法。-般以9來(lái)表示產(chǎn)品的純度。故在規(guī)格欄中標(biāo)以2個(gè)9、3個(gè)9、4個(gè)9以此類推，根據(jù)這個(gè)原則可將高純物質(zhì)分為：雜質(zhì)總含量不大于1.5X10-2%其純度為3.5個(gè)9(雜質(zhì)總含量不大于1.5X10-2%對(duì)高純?cè)噭┗蚋呒冊(cè)丶兌然螂s質(zhì)含量的檢驗(yàn)，一般常用原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜、色譜、質(zhì)譜比色化學(xué)分析等方法進(jìn)行測(cè)定。其陰離子規(guī)格原則上參照試劑優(yōu)級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，沒有優(yōu)級(jí)標(biāo)準(zhǔn)的產(chǎn)品由生產(chǎn)單位自行制定。根據(jù)用途不同，把高純?cè)噭┯址殖蓭状箢悾浩胀x純?cè)噭菏侵敢恍└呒儐钨|(zhì)金屬、氧化物、金屬鹽類等，常用于原子能工業(yè)材料、電子工業(yè)材料、半導(dǎo)體基礎(chǔ)材料等，金屬單質(zhì)的氧化物、用來(lái)配制標(biāo)準(zhǔn)溶液和作為標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，該類試劑常要求含量在4N-6N之間。世紀(jì)經(jīng)珂；經(jīng)世紀(jì)經(jīng)珂；經(jīng)典試劑CEhfTURYCLZ-3C.CLASSICREACl'oraosun超凈電子純?cè)噭撼瑑舾呒冊(cè)噭┦羌呻娐罚╥c）制造工藝中的專用化學(xué)品，用于硅片清洗、光刻、腐蝕工序中。對(duì)這種高純?cè)噭┲锌扇苄噪s質(zhì)和固態(tài)微粒要求非常嚴(yán)格，為適應(yīng)IC集成度不斷提高的需求，國(guó)際上半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)（SemiconductorIndustryAssociation）近來(lái)推出Semic7（適合0.8T.2微米工藝技術(shù)）和Semic8（適合于0.2-0.6微米工藝技術(shù)）級(jí)別的試劑質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。我國(guó)在原有M0S級(jí)、BV-I級(jí)試劑的基礎(chǔ)上，又制定出BV-II級(jí)和BV-III級(jí)試劑標(biāo)準(zhǔn)（相當(dāng)于Semic7）。我研究所也研制多種M0S級(jí)、BV-I級(jí)BV-II級(jí)和部分BV-III級(jí)試劑，其顆粒度（0.5微粒顆粒）W25-100個(gè)/ml,金屬雜質(zhì)總量W10-3—10-5%光刻膠高純?cè)噭汗饪坦に囀且环N表面加工技術(shù)，在半導(dǎo)體電子器件和集成電路制造中占有重要地位。為在表面實(shí)現(xiàn)選擇性腐蝕，采用一類具有抗蝕作用的感光樹脂材料作為抗蝕涂層，稱為抗蝕劑，國(guó)內(nèi)通稱光刻膠。按照溶解度的不同而將光刻膠分為“正性”光刻膠和“負(fù)性”光刻膠，按所用曝光光源和輻射光源的不同，又可將其分為紫外、遠(yuǎn)紫外、電子束、X射線等光刻膠。光刻膠是微細(xì)圖形加工的一種關(guān)鍵試劑，要求水分低、金屬雜質(zhì)含量低（W10-6）磨拋光高純?cè)噭菏侵赣糜诠鑶尉砻娴难心ズ蛼伖獾母呒兌仍噭?。它又分磨粉（三氧化二鋁）和磨液（水和油劑），能研磨表面達(dá)到微米級(jí)加工精度。這類試劑要求顆粒粒度?。{米），純度高，金屬雜質(zhì)一般要求2.0X10-4—5X10-5%液晶咼純?cè)噭阂壕且活愲娮踊瘜W(xué)材料，是指在一定溫度范圍內(nèi)呈現(xiàn)介于固相和液相之間的中間相的有機(jī)物。它既有液態(tài)的流動(dòng)性也有晶態(tài)的各向異性，有時(shí)人稱他為第四態(tài)。液晶種類繁多，用途最廣，前景最大的要屬TN（低檔）、STN（中高檔）、TFT（高檔）型。TN、STN及TFT三種型號(hào)所組成的單體液晶，主要包括芳香酯類、聯(lián)苯類、苯基環(huán)

喬世紀(jì)經(jīng)典，經(jīng)典試劑!喬世紀(jì)經(jīng)典，經(jīng)典試劑!CENTURYCLZsIC.CLASSICREAGEN「tl已烷類、鐵電類以及含氟液晶品等五種，它們是當(dāng)今及今后使用及發(fā)展的主要對(duì)象。這類高純?cè)噭┮蠛扛撸ㄈ?/p>