2021年材料測試方法選擇判斷填空題庫

第一章一、選取題1.用來進行晶體構(gòu)造分析X射線學(xué)分支是（

）A.X射線透射學(xué)；B.X射線衍射學(xué)；C.X射線光譜學(xué)；D.其他2.M層電子回遷到K層后，多余能量放出特性X射線稱（）Kα；B.Kβ；C.Kγ；D.Lα。3.當(dāng)X射線發(fā)生裝置是Cu靶，濾波片應(yīng)選（）Cu；B.Fe；C.Ni；D.Mo。4.當(dāng)電子把所有能量所有轉(zhuǎn)換為X射線時，該X射線波長稱（）A.短波限λ0；B.激發(fā)限λk；C.吸取限；D.特性X射線5.當(dāng)X射線將某物質(zhì)原子K層電子打出去后，L層電子回遷K層，多余能量將另一種L層電子打出核外，這整個過程將產(chǎn)生（）（多選題）A光電子；B.二次熒光；C.俄歇電子；D.（A+C）二、正誤題1.隨X射線管電壓升高，λ0和λk所有隨之減小。（）2.激發(fā)限和吸取限是一回事，只是從不同樣角度看問題。（）3.經(jīng)濾波后X射線是相對的單色光。（）4.產(chǎn)生特性X射線前提是原子內(nèi)層電子被打出核外，原子處在激發(fā)狀態(tài)。（）5.選取濾波片只要根據(jù)吸取曲線選取材料，而不需要考慮厚度。（）三、填空題1.當(dāng)X射線管電壓超過臨界電壓就可以產(chǎn)生X射線和X射線。2.X射線和物質(zhì)互相作用可以產(chǎn)生、、、、、、、。3.通過厚度為H物質(zhì)后，X射線強度為。4.X射線本質(zhì)既是也是，具有性。5.短波長X射線稱，常用于；長波長X射線稱，常用于。第二章選取題1.有一倒易矢量為，和它相應(yīng)正空間晶面是（）。A.（210）；B.（220）；C.（221）；D.（110）；。2.有一體心立方晶體晶格常數(shù)是0.286nm，用鐵靶Kα（λKα=0.194nm）照射該晶體能產(chǎn)生（）衍射線。A.三條；B.四條；C.五條；D.六條。3.一束X射線照射到晶體上能否產(chǎn)生衍射取決于（）。A．與否滿足布拉格條件；B．與否衍射強度I≠0；C．A+B；D．晶體形狀。4.面心立方晶體（111）晶面族多重性因素是（）。A．4；B．8；C．6；D．12。正誤題1.倒易矢量能唯一地代表相應(yīng)正空間晶面。（）2.X射線衍射和光反射同樣，只要滿足入射角等于反射角就行。（）3.干涉晶面和實際晶面區(qū)別在于：干涉晶面是虛擬，指數(shù)間存在公約數(shù)n。（）4.布拉格方程只包括X射線衍射方向，不能反映衍射強度。（）5.構(gòu)造因子F和形狀因子G所有是晶體構(gòu)造對衍射強度影響因素。（）填空題倒易矢量方向是相應(yīng)正空間晶面；倒易矢量長度等于相應(yīng)。只要倒易陣點落在厄瓦爾德球面上，就表達該滿足條件，能產(chǎn)生。影響衍射強度因素除構(gòu)造因素、晶體形狀外尚有，，，?？紤]所有因素后衍射強度公式為，對于粉末多晶相對強度為。構(gòu)造振幅用表達，構(gòu)造因素用表達，構(gòu)造因素=0時沒有衍射咱們稱或。對于有序固溶體，原本消光地方會浮現(xiàn)。名詞解釋倒易點陣——系統(tǒng)消光——衍射矢量——形狀因子——相對強度——第三章選取題1.最常用X射線衍射辦法是（）。A.勞厄法；B.粉末多法；C.周轉(zhuǎn)晶體法；D.德拜法。2.德拜法中有助于提高測量精度底片安裝辦法是（）。A.正裝法；B.反裝法；C.偏裝法；D.A+B。3.德拜法中對試樣規(guī)定除了無應(yīng)力外，粉末粒度應(yīng)為（）。A.<325目；B.>250目；C.在250-325目之間；D.任意大小。4.測角儀中，探測器轉(zhuǎn)速和試樣轉(zhuǎn)速關(guān)系是（）。A.保持同步1﹕1；B.2﹕1；C.1﹕2；D.1﹕0。5.衍射儀法中試樣形狀是（）。A.絲狀粉末多晶；B.塊狀粉末多晶；C.塊狀單晶；D.任意形狀。正誤題1.大直徑德拜相機可以提高衍射線接受辨別率，縮短暴光時間。（）2.在衍射儀法中，衍射幾何包括二個圓。一種是測角儀圓，另一種是輻射源、探測器和試樣三者還必須在同一聚焦圓。（）3.選取小接受光欄狹縫寬度，可以提高接受辨別率，但會減少接受強度。（）4.德拜法比衍射儀法測量衍射強度更對的。（）5.衍射儀法和德拜法同樣，對試樣粉末規(guī)定是粒度均勻、大小適中，沒有應(yīng)力。（）填空題在粉末多晶衍射照相法中包括、和。德拜相機有兩種，直徑分別是和Φmm。測量θ角時，底片上每毫米相應(yīng)o和o。衍射儀核心是測角儀圓，它由、和共同構(gòu)成?？梢杂米鱔射線探測器有、和等。影響衍射儀實驗成果參數(shù)有、和等。第四章選取題1.測定鋼中奧氏體含量，若采用定量X射線物相分析，常用辦法是（）。A.外標(biāo)法；B.內(nèi)標(biāo)法；C.直接比較法；D.K值法。2.X射線物相定性分析時，若已知材料物相可以查（）進行核對。A.Hanawalt索引；B.Fenk索引；C.Davey索引；D.A或B。3.德拜法中對的測定點陣常數(shù)其系統(tǒng)誤差來源于（）。A.相機尺寸誤差；B.底片伸縮；C.試樣偏心；D.A+B+C。4.材料內(nèi)應(yīng)力分為三類，X射線衍射辦法可以測定（）。A.第一類應(yīng)力（宏觀應(yīng)力）；B.第二類應(yīng)力（微觀應(yīng)力）；C.第三類應(yīng)力；D.A+B+C。5.Sin2Ψ測量應(yīng)力，普通取Ψ為（）進行測量。A.擬定Ψ角；B.0-45o之間任意四點；C.0o、45o兩點；D.0o、15o、30o、45o四點。正誤題1.要對的測量點陣常數(shù)。必須一方面盡量減少系統(tǒng)誤差，另一方面選高角度θ角，最后還要用直線外推法或柯亨法進行數(shù)據(jù)解決。（）2.X射線衍射之因此可以進行物相定性分析，是由于沒有兩種物相衍射花樣是完全相似。（）3.理論上X射線物相定性分析可以告訴咱們被測材料中有哪些物相，而定量分析可以告訴咱們這些物相含量有多少。（）4.只要材料中有應(yīng)力就可以用X射線來檢測。（）5.衍射儀和應(yīng)力儀是相似，構(gòu)造上沒有區(qū)別。（）填空題在Δθ一定狀況下，θ→o，Δsinθ→；因此對的測定點陣常數(shù)應(yīng)選取θ。X射線物相分析包括和，而更常用更廣泛。第一類應(yīng)力導(dǎo)致X射線衍射線；第二類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線；第三類應(yīng)力導(dǎo)致衍射線。X射線測定應(yīng)力常用儀器有和，常用辦法有和。X射線物相定量分析辦法有、、等。第五章選取題1.若H-800電鏡最高辨別率是0.5nm，那么這臺電鏡有效放大倍數(shù)是（）。A.1000；B.10000；C.40000；D.600000。2.可以消除像差是（）。A.球差；B.像散；C.色差；D.A+B。3.可以提高TEM襯度光欄是（）。A.第二聚光鏡光欄；B.物鏡光欄；C.選區(qū)光欄；D.其他光欄。4.電子衍射成像時是將（）。A.中間鏡物平面和和物鏡背焦面重疊；B.中間鏡物平面和和物鏡像平面重疊；C.關(guān)閉中間鏡；D.關(guān)閉物鏡。5.選區(qū)光欄在TEM鏡筒中位置是（）。A.物鏡物平面；B.物鏡像平面C.物鏡背焦面；D.物鏡前焦面。正誤題1.TEM辨別率既受衍射效應(yīng)影響，也受透鏡像差影響。（）2.孔徑半角α是影響辨別率核心因素，TEM中α角越小越好。（）3.有效放大倍數(shù)和儀器可以達到放大倍數(shù)不同樣，前者取決于儀器辨別率和人眼辨別率，后者僅僅是儀器制造水平。（）4.TEM中核心是電磁透鏡，由于電磁透鏡不存在凹透鏡，因此不能象光學(xué)顯微鏡那樣通過凹凸鏡組合設(shè)計來減小或消除像差，故TEM中像差所有是不可消除。（）5.TEM景深和焦長隨辨別率Δr0數(shù)值減小而減?。浑S孔徑半角α減小而增長；隨放大倍數(shù)提高而減小。（）填空題TEM中透鏡有兩種，分別是和。TEM中三個可動光欄分別是在，在，在。TEM成像系統(tǒng)由、和構(gòu)成。TEM核心構(gòu)成某些是、和觀；輔助某些由、和構(gòu)成。電磁透鏡像差包括、和。名詞解釋景深和焦長——點辨別和晶格辨別率——消像散器——選區(qū)衍射——第六章選取題1.單晶體電子衍射花樣是（）。A.規(guī)則平行四邊形斑點；B.同心圓環(huán)；C.暈環(huán)；D.不規(guī)則斑點。2.薄片狀晶體倒易點形狀是（）。A.尺寸很小倒易點；B.尺寸很大球；C.有一定長度倒易桿；D.倒易圓盤。3.當(dāng)偏離矢量S<0時，倒易點是在厄瓦爾德球（）。A.球面外；B.球面上；C.球面內(nèi)；D.B+C。4.能協(xié)助消除180o不唯一性復(fù)雜衍射花樣是（）。A.高階勞厄斑；B.超構(gòu)造斑點；C.二次衍射斑；D.孿晶斑點。5.菊池線可以協(xié)助（）。A.預(yù)計樣品厚度；B.擬定180o不唯一性；C.鑒別有序固溶體；D.對的測定晶體取向。6.如果單晶體衍射花樣是正六邊形，那么晶體構(gòu)造是（）。A.六方構(gòu)造；B.立方構(gòu)造；C.四方構(gòu)造；D.A或B。鑒定題1.多晶衍射環(huán)和粉末德拜衍射花樣同樣，隨著環(huán)直徑增大，衍射晶面指數(shù)也由低到高。（）2.單晶衍射花樣中所有斑點同屬于一種晶帶。（）3.由于孿晶是同樣晶體沿孿晶面兩則對稱分布，因此孿晶衍射花樣也是衍射斑點沿兩則對稱分布。（）4.偏離矢量S=0時，衍射斑點最亮。這是由于S=0時是對的滿足布拉格方程，因此衍射強度最大。（）5.對于未知晶體構(gòu)造，僅憑一張衍射花樣是不能擬定其晶體構(gòu)造。還要從不同樣位向拍攝多幅衍射花樣，并根據(jù)材料成分、加工歷史等或結(jié)合其他辦法綜合鑒定晶體構(gòu)造。（）6.電子衍射和X射線衍射同樣必須嚴格符合布拉格方程。（）填空題電子衍射和X射線衍射不同樣之處在于不同樣、不同樣，和不同樣。電子衍射產(chǎn)生復(fù)雜衍射花樣是、、、和。偏離矢量S最大值相應(yīng)倒易桿長度，它反映是θ角布拉格方程限度。單晶體衍射花樣標(biāo)定中最核心一步是。二次衍射可以使密排六方、金剛石構(gòu)造花樣中在產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面心立方構(gòu)造花樣中。名詞解釋偏離矢量S180o不唯一性菊池線高階勞厄斑第七章選取題1.將某一衍射斑點移到熒光屏中心并用物鏡光欄套住該衍射斑點成像，這是（）。A.明場像；B.暗場像；C.中心暗場像；D.弱束暗場像。2.當(dāng)t=5s/2時，衍射強度為（）。A.Ig=0；B.Ig<0；C.Ig>0；D.Ig=Imax。3.已知一位錯線在選取操作反射g1=（110）和g2=（111）時，位錯不可見，那么它布氏矢量是（）。A.b=（0-10）；B.b=（1-10）；C.b=（0-11）；D.b=（010）。4.當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ雍突w呈共格關(guān)系時，此時成像襯度是（）。A.質(zhì)厚襯度；B.衍襯襯度；C.應(yīng)變場襯度；D.相位襯度。5.當(dāng)?shù)诙嗔Ｗ雍突w呈共格關(guān)系時，此時所看到粒子大小（）。A.不大于真實粒子大小；B.是應(yīng)變場大?。籆.和真實粒子同樣大??；D.遠遠不不大于真實粒子。鑒定題1.實際電鏡樣品厚度很小時,能近似滿足衍襯運動學(xué)理論條件,這時運動學(xué)理論能較好地解釋襯度像。（）2.厚樣品中存在消光距離ξg，薄樣品中則不存在消光距離ξg。（）3.明場像是質(zhì)厚襯度，暗場像是衍襯襯度。（）4.晶體中只要有缺陷，用透射電鏡就可以觀測到這個缺陷。（）5.等厚消光條紋和等傾消光條紋普通是形貌觀測中干擾，應(yīng)當(dāng)通過更加好制樣來避免它們浮現(xiàn)。（）填空題運動學(xué)理論兩個基本假設(shè)是和。對于抱負晶體，當(dāng)或持續(xù)變化時襯度像中會浮現(xiàn)或。對于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起導(dǎo)致衍射波振幅增長了一種，但是若=2π整數(shù)倍時，缺陷也不產(chǎn)生襯度。普通狀況下，孿晶和層錯襯度像所有是平行，但孿晶平行線，而層錯平行線是。實際位錯線在位錯線像，其寬度也大大不大于位錯線像寬度，這是由于位錯線像寬度是寬度。名詞解釋中心暗場像等厚消光條紋和等傾消光條紋不可見性判據(jù)應(yīng)變場襯度第八章選取題1.僅僅反映固體樣品表面形貌信息物理信號是（）。A.背散射電子；B.二次電子；C.吸取電子；D.透射電子。2.在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮區(qū)域是（）。A.和電子束垂直表面；B.和電子束成30o表面；C.和電子束成45o表面；D.和電子束成60o表面。3.可以探測表面1nm層厚樣品成分信息物理信號是（）。A.背散射電子；B.吸取電子；C.特性X射線；D.俄歇電子。4.掃描電子顯微鏡配備成分分析附件中最常用儀器是（）。A.波譜儀；B.能譜儀；C.俄歇電子譜儀；D.特性電子能量損失譜。5.波譜儀和能譜儀相比，能譜儀最大長處是（）。A.迅速高效；B.精度高；C.沒有機械傳動部件；D.價格便宜。鑒定題1.掃描電子顯微鏡中物鏡和透射電子顯微鏡物鏡同樣。（）2.掃描電子顯微鏡辨別率核心取決于物理信號而不是衍射效應(yīng)和球差。（）3.掃描電子顯微鏡襯度和透射電鏡同樣取決于質(zhì)厚襯度和衍射襯度。（）4.掃描電子顯微鏡具有大景深，因此它可以用來進行斷口形貌分析觀測。（）5.波譜儀是逐個接受元素特性波長進行成分分析；能譜儀是同步接受所有元素特性X射線進行成分分析。（）填空題電子束和固體樣品互相作用可以產(chǎn)生、、、、、等物理信號。掃描電子顯微鏡放大倍數(shù)是掃描寬度和掃描寬度比值。在襯度像上顆粒、凸起棱角是襯度，而裂紋、凹坑則是襯度。辨別率最高物理信號是為nm，辨別率最低物理信號是為nm以上。電