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DB34DB34/T2375—2015粉煤灰中二氧化硅含量測定X射線熒光法Determinationofsilicondioxidecontentintheflyash-Xfluorescencemethod安徽省質(zhì)量技術監(jiān)督局發(fā)布12當試樣中化學元素受到電子、質(zhì)子、α粒子和離子等加速粒子的激發(fā)或受到Iμ....................................3C——待測元素的質(zhì)量分數(shù)；樣品的質(zhì)量吸收系數(shù)與試樣的化學組成相關。其對待測元素熒光X射線強度的影響可采用下述三種c)綜合采用標準樣品和數(shù)學公式進行補償樣品的顆粒度效應和礦物效應等非均勻性影響可采用與待測樣品相近的標準樣品進行補償校正，對于新購儀器，或?qū)x器進行維修、更換部件后，應按JC/T1085對儀器進行校驗。儀器正常運分別稱取試樣、溶劑、防浸潤劑，精確至0.0001g，所用試樣可用下述兩4m1——應稱量的未灼燒過的試樣質(zhì)量m2——制備玻璃熔片所需的試樣質(zhì)量上或使用自動制片設備，在規(guī)定的時間內(nèi)（15min)熔融該混合物，其間不時地搖動，直至試樣全部熔稱取適量的試樣(應能夠填滿模具)及粘合劑，精確至0.0001g，倒入磨盤內(nèi)混勻后蓋上磨盤蓋，厚度應大于2.5mm。取出壓片，注意觀察壓片表面是否光潔、無雜物、不開裂。用洗耳球?qū)⒎治雒娲蹈蓛?，用干布把壓片的邊緣擦干凈。放入熒光分析儀進行檢測。把磨盤清洗干凈晾干，用毛刷以及吸灼燒基——校準樣品的灼燒基中二氧化硅的濃度，%;5收到基——校準樣品的收到基中二氧化硅的濃度，%;LOH——校準樣品中燒失量的質(zhì)量分數(shù)?；貧w分析，建立被測元素的校準曲線。根據(jù)最小二乘法，在測量得到的用未參與校準曲線建立的另一標準樣品進行測定。對于被測元素，濃度的測定值與標準樣品/標準物質(zhì)的證書值之差應小于重復性限的0.71倍時收到基灼燒基..............................灼燒基——試樣灼燒基中二氧化硅的濃度，%;收到基——試樣收到基中二氧化硅的濃度，%;（％）6重復性限為絕對偏差，以質(zhì)量分數(shù)（％)表示，在重復性條件下，采用本標準所列方法分析同一試樣時，兩次分析結果之差應在所列的重復性限(見表1)內(nèi)。如超出重復性限，應在短時間內(nèi)進行第三次/%/%再現(xiàn)性限為絕對偏差，以質(zhì)量分

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