新高考物理一輪復(fù)習(xí)跟蹤訓(xùn)練第63講 光的波動(dòng)性 電磁波（解析版）

第63講光的波動(dòng)性電磁波（模擬精練+真題演練）1．（2022·浙江湖州·統(tǒng)考一模）將鐵絲圈在肥皂水中蘸一下，讓它掛上一層薄薄的液膜，豎直放置能觀察到彩色條紋，如圖所示，則（）

A．這是光的衍射現(xiàn)象B．這是光的偏振現(xiàn)象C．這層肥皂膜上薄下厚，側(cè)截面為梯形D．若用黃光照射將看到上疏下密的黃色橫條紋【答案】D【詳解】AB．鐵絲圈掛上一層薄薄的液膜，觀察到彩色條紋，是薄膜干涉現(xiàn)象，故AB錯(cuò)誤；C．由重力作用，肥皂膜前后表面的厚度從上到下逐漸增大，因表面張力的原因，側(cè)截面是一個(gè)圓滑的曲面，不是梯形，故C錯(cuò)誤；D．黃光照射，將看到上疏下密的黃色橫條紋，故D正確。故選D。2．（2024·云南大理·云南省下關(guān)第一中學(xué)校聯(lián)考模擬預(yù)測(cè)）殲20是我國(guó)自主研制的第五代戰(zhàn)斗機(jī)，其優(yōu)秀的性能受到全世界的關(guān)注。殲20光學(xué)著陸系統(tǒng)中用到了雙縫干涉的知識(shí)，如圖甲所示的雙縫干涉實(shí)驗(yàn)，用綠光照射單縫S時(shí)，在屏上觀察到如圖乙所示的條紋；僅改變一個(gè)實(shí)驗(yàn)條件后，觀察到的條紋如圖丙所示。改變的實(shí)驗(yàn)條件可能是（）

A．增大單縫和雙縫間的距離B．減小雙縫之間的距離C．減小雙縫到光屏的距離D．將綠光換為紫光【答案】B【詳解】根據(jù)乙圖和丙圖可知條紋間距變大，根據(jù)條紋間距公式SKIPIF1<0可知，條紋間距變大，可能是改用了波長(zhǎng)較長(zhǎng)的光，也有可能是增大了雙縫到光屏的距離L，也有可能減小了雙縫間的距離d；A．條紋間距與光源到雙縫的距離無(wú)關(guān)，故A錯(cuò)誤；B．雙縫間的距離d減小，則條紋間距變大，故B正確；C．雙縫到光屏的距離L減小，則條紋間距變小，故C錯(cuò)誤；D．綠光的波長(zhǎng)大于紫光，則條紋間距變小，故D錯(cuò)誤。故選B。3．（2023·江蘇鎮(zhèn)江·統(tǒng)考三模）如圖所示，某種光盤利用“凹槽”、“平面”記錄信息，激光照射到“凹槽”會(huì)產(chǎn)生極小反射光強(qiáng)，下列說(shuō)法正確的是（）

A．“凹槽”產(chǎn)生極小光強(qiáng)是由于衍射現(xiàn)象形成B．“凹槽”入射光與“平面”反射光傳播速度相同C．激光在介質(zhì)中的波長(zhǎng)可能為“凹槽”深度的3倍D．“凹槽”反射光與“平面”反射光的頻率相同【答案】D【詳解】A．“凹槽”產(chǎn)生極小光強(qiáng)是由于由于“凹槽”反射光與“平面”反射光疊加后削弱，是干涉現(xiàn)象形成，故A錯(cuò)誤；B．“凹槽”中有透明介質(zhì)，光的速度小于真空中速度，“凹槽”入射光與“平面”反射光傳播速度相同，故B錯(cuò)誤；C．由于“凹槽”反射光與“平面”反射光疊加后削弱，考慮到“凹槽”反射光的路程，“凹槽”深度的2倍應(yīng)該為激光束半波長(zhǎng)的奇數(shù)倍，故C錯(cuò)誤；D．“凹槽”反射光與“平面”反射光是同種類型的光，頻率相同，故D正確。故選D。4．（2023·全國(guó)·二模）如圖所示，一細(xì)束白光通過(guò)三棱鏡折射后分為各種單色光，取其中SKIPIF1<0、SKIPIF1<0、SKIPIF1<0三種色光，并同時(shí)做如下實(shí)驗(yàn)：①讓這三種單色光分別通過(guò)同一雙縫干涉實(shí)驗(yàn)裝置在光屏上產(chǎn)生干涉條紋（雙縫間距和縫屏間距均不變）；②讓這三種單色光分別照射到某金屬板表面，觀察與金屬板連接的靜電計(jì)指針是否轉(zhuǎn)動(dòng)；下列說(shuō)法中不正確的是（）

A．在棱鏡中SKIPIF1<0光的速度最大B．如果減小白光在左側(cè)面的入射角，最先消失的是SKIPIF1<0光C．SKIPIF1<0種色光形成的干涉條紋間距最大D．若SKIPIF1<0光能使該金屬板發(fā)生光電效應(yīng)，SKIPIF1<0光一定不能使該金屬發(fā)生光電效應(yīng)【答案】D【詳解】A．因a光的偏折程度最小，則折射率最小，根據(jù)SKIPIF1<0可知在棱鏡中a光的速度最大，故A正確，不符合題意；B．因c光的折射率最大，根據(jù)SKIPIF1<0可知c光臨界角最小，則如果減小白光在左側(cè)面的入射角，最先消失的是c光，故B正確，不符合題意；C．a(chǎn)種色光頻率最小，波長(zhǎng)最長(zhǎng)，根據(jù)SKIPIF1<0可知a光形成的干涉條紋間距最大，故C正確，不符合題意；D．c光頻率最大，a光頻率最小，若c光能使該金屬板發(fā)生光電效應(yīng)，a光不一定不能使該金屬發(fā)生光電效應(yīng)，故D錯(cuò)誤，符合題意。故選D。5．（2023·山東·統(tǒng)考二模）在一塊平板玻璃上放置一如圖所示的薄透鏡，在兩者之間形成空氣膜，現(xiàn)讓單色光豎直射向薄透鏡，在薄透鏡上方向下觀察，觀察到的現(xiàn)象是（）

A．只能看到同顏色的平行反射光B．平行、等間距的明暗相間的直干涉條紋C．同心、內(nèi)密外疏的明暗相間的圓環(huán)狀干涉條紋D．若薄透鏡的高度h不變僅增大半徑R，則相鄰條紋的間距變大【答案】D【詳解】ABC．設(shè)形成空氣膜的傾角為SKIPIF1<0，相鄰亮條紋的間距為SKIPIF1<0根據(jù)幾何關(guān)系可知SKIPIF1<0由于傾角SKIPIF1<0保持不變，則觀察到的現(xiàn)象是：同心、等間距的明暗相間的圓環(huán)狀干涉條紋，故ABC錯(cuò)誤；D．若薄透鏡的高度h不變僅增大半徑R，則形成空氣膜的傾角SKIPIF1<0減小，根據(jù)SKIPIF1<0可知相鄰條紋的間距變大，故D正確。故選D。6．（2023·江蘇蘇州·江蘇省木瀆高級(jí)中學(xué)校聯(lián)考三模）單縫衍射圖樣的中央亮條紋寬度的一半與單縫寬度、光的波長(zhǎng)、縫到屏的距離的關(guān)系和雙縫干涉的條紋寬度關(guān)系類似；利用單縫衍射實(shí)驗(yàn)可以測(cè)量金屬的線膨脹系數(shù)，線膨脹系數(shù)是表征物體受熱時(shí)長(zhǎng)度增加程度的物理量。如圖所示，擋光片A固定，擋光片B放置在待測(cè)金屬棒上端，A、B間形成平直狹縫，激光通過(guò)狹縫在光屏上形成衍射圖樣，在激光波長(zhǎng)已知的情況下，通過(guò)測(cè)量縫屏距離和中央亮條紋寬度，可算出狹縫寬度及變化，進(jìn)而計(jì)算出金屬的線膨脹系數(shù)。（）

A．激光波長(zhǎng)越短，其他實(shí)驗(yàn)條件不變，中央亮條紋寬度越寬B．相同實(shí)驗(yàn)條件下，金屬的膨脹量越大，中央亮條紋寬度越窄C．相同實(shí)驗(yàn)條件下，中央亮條紋寬度變化越大，說(shuō)明金屬膨脹量越大D．狹縫到光屏距離越大，其他實(shí)驗(yàn)條件相同，測(cè)得的線膨脹系數(shù)越大【答案】C【詳解】A．對(duì)比雙縫干涉相鄰兩亮條紋間距與雙縫間距、光的波長(zhǎng)、縫屏距離的關(guān)系公式SKIPIF1<0可得單縫衍射中央亮條紋寬度的一半與單縫寬度、光的波長(zhǎng)、縫屏距離的關(guān)系為SKIPIF1<0激光波長(zhǎng)變短，其他條件不變，則中央聊條紋寬度變窄，故A錯(cuò)誤；B．相同實(shí)驗(yàn)條件下，金屬的膨脹量越大，則單縫距離d越小，中央亮條紋寬度越寬，故B錯(cuò)誤；C.．相同實(shí)驗(yàn)條件下，中央亮條紋寬度變化越大，說(shuō)明單縫的距離變化大，即金屬膨脹量越大，故C正確；D．金屬的線膨脹系數(shù)屬于金屬的特有屬性，與實(shí)驗(yàn)裝置無(wú)關(guān)，故D錯(cuò)誤。故選C。7．（2023·山東青島·統(tǒng)考三模）如圖，利用平面鏡也可以實(shí)現(xiàn)楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)的結(jié)果，下列說(shuō)法正確的是（）

A．光屏上的條紋關(guān)于平面鏡M上下對(duì)稱B．相鄰亮條紋的間距為SKIPIF1<0C．若將平面鏡向右移動(dòng)一些，相鄰亮條紋間距不變D．若將平面鏡向右移動(dòng)一些，亮條紋數(shù)量保持不變【答案】C【詳解】A．根據(jù)雙縫干涉原理，當(dāng)光程差為波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí)出現(xiàn)亮條紋，當(dāng)光程差為半個(gè)波長(zhǎng)的奇數(shù)倍時(shí)出現(xiàn)暗條紋，可知，光屏上的條紋與鏡面平行，并非關(guān)于平面鏡M上下對(duì)稱，故A錯(cuò)誤；B．根據(jù)雙縫干涉的相鄰條紋之間的距離公式SKIPIF1<0其中SKIPIF1<0，SKIPIF1<0，所以相鄰兩條亮條紋之間的距離為SKIPIF1<0故B錯(cuò)誤；C．若將平面鏡向右移動(dòng)一些，不影響光源的像的位置和L的大小，相鄰亮條紋間距不變，故C正確；D．若將平面鏡向右移動(dòng)一些，射到平面鏡邊緣的兩條光線射到屏上的位置向下移動(dòng)，寬度減小，而條紋間距不變，亮條紋數(shù)量減少，故D錯(cuò)誤；故選C。8．（2023·天津南開(kāi)·南開(kāi)中學(xué)校考模擬預(yù)測(cè)）關(guān)于甲、乙、丙、丁四個(gè)實(shí)驗(yàn)，以下說(shuō)法正確的是（）

A．四個(gè)實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的條紋均為干涉條紋B．甲、乙兩實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的條紋均為等距條紋C．丙實(shí)驗(yàn)中，產(chǎn)生的條紋間距越大，該光的頻率越大D．丁實(shí)驗(yàn)中，適當(dāng)減小單縫的寬度，中央條紋會(huì)變寬【答案】D【詳解】A．甲、乙、丙實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的條紋均為干涉條紋，而丁實(shí)驗(yàn)是光的衍射條紋，故A錯(cuò)誤；B．甲實(shí)驗(yàn)產(chǎn)生的條紋為等距條紋，而乙是牛頓環(huán)，空氣薄層不均勻變化，則干涉條紋間距不相等，故B錯(cuò)誤；C．根據(jù)干涉條紋間距公式SKIPIF1<0丙實(shí)驗(yàn)中，產(chǎn)生的條紋間距越大，則波長(zhǎng)越長(zhǎng)，頻率越短，故C錯(cuò)誤；D．丁實(shí)驗(yàn)中，產(chǎn)生的明暗條紋間距不相等，若減小單縫的寬度，中央條紋會(huì)變寬，故D正確。故選D。9．（2023·全國(guó)·校聯(lián)考模擬預(yù)測(cè)）雙縫干涉實(shí)驗(yàn)是物理史上最美的實(shí)驗(yàn)之一、如圖所示，用單色光進(jìn)行雙縫干涉實(shí)驗(yàn)，單色光通過(guò)單縫S后對(duì)稱地通過(guò)平行于單縫的雙縫SKIPIF1<0、SKIPIF1<0，光屏上出現(xiàn)明暗相間的條紋，O點(diǎn)在SKIPIF1<0、SKIPIF1<0的中垂線上。則（）A．若將單縫S向左移動(dòng)，將看到光屏上明暗相間的條紋向O點(diǎn)靠攏B．若將光屏向左移動(dòng)，將看到光屏上明暗相間的條紋向O點(diǎn)靠攏C．若將單縫S向上移動(dòng)，將看到光屏上明暗相間的條紋整體向上移動(dòng)D．若將雙縫SKIPIF1<0、SKIPIF1<0的間距變小，將看到光屏上明暗相間的條紋向O點(diǎn)靠攏【答案】B【詳解】A．若將單縫S向左移動(dòng)，光屏上明暗相間的條紋間距不會(huì)變化，故A錯(cuò)誤；B．由于SKIPIF1<0、SKIPIF1<0到光屏上O處光程差為零，該處出現(xiàn)中央亮條紋，其余條紋均勻地分布在O兩側(cè)，若將光屏向左移動(dòng)，根據(jù)SKIPIF1<0可知條紋間距減小，將看到光屏上明暗相間的條紋向O點(diǎn)靠攏，故B正確；C．若將單縫S向上移動(dòng)，將看到光屏上明暗相間的條紋整體向下移動(dòng)，故C錯(cuò)誤；D．若將雙縫SKIPIF1<0、SKIPIF1<0的間距離變小，根據(jù)SKIPIF1<0可知條紋間距增大，將看到光屏上明暗相間的條紋向O點(diǎn)兩側(cè)移動(dòng)，故D錯(cuò)誤。故選B。10．（2023·河北石家莊·統(tǒng)考三模）如圖甲所示為雙縫干涉實(shí)驗(yàn)的原理圖，屏上的SKIPIF1<0點(diǎn)位于雙縫SKIPIF1<0和SKIPIF1<0的中垂線上，在雙縫與屏之間充滿折射率為n的均勻介質(zhì)。用一單色光垂直照射雙縫，在屏上會(huì)產(chǎn)生干涉條紋，屏上SKIPIF1<0點(diǎn)是一條暗條紋的中心，SKIPIF1<0點(diǎn)到SKIPIF1<0點(diǎn)的距離為x。已知該單色光在真空中的波長(zhǎng)為SKIPIF1<0，雙縫與屏之間的距離為L(zhǎng)，則雙縫SKIPIF1<0和SKIPIF1<0間的距離為（）A．SKIPIF1<0 B．SKIPIF1<0C．SKIPIF1<0 D．SKIPIF1<0【答案】A【詳解】SKIPIF1<0點(diǎn)到SKIPIF1<0點(diǎn)的距離為x，根據(jù)圖乙有SKIPIF1<0雙縫與屏之間充滿折射率為n的均勻介質(zhì)，則有SKIPIF1<0根據(jù)干涉規(guī)律有SKIPIF1<0解得SKIPIF1<0故選A。11．（2023·重慶·統(tǒng)考三模）如圖甲為雙縫干涉實(shí)驗(yàn)裝置示意圖，如圖乙為用該裝置實(shí)驗(yàn)時(shí)得到的甲、乙兩種單色光的干涉條紋。下列說(shuō)法正確的是（）A．若甲光是藍(lán)光，乙光可能是紅光B．雙縫到P點(diǎn)的距離差為SKIPIF1<0，若用頻率SKIPIF1<0的光做實(shí)驗(yàn)，P處為亮條紋C．測(cè)量過(guò)程中，把乙光干涉條紋的亮條紋少數(shù)一個(gè)，會(huì)導(dǎo)致波長(zhǎng)測(cè)量值偏大D．用甲光做實(shí)驗(yàn)時(shí)，若把雙縫豎直向上移動(dòng)一小段距離，光屏上的O點(diǎn)為亮條紋【答案】C【詳解】A．由SKIPIF1<0可知甲的干涉條紋間距大，所以甲的波長(zhǎng)長(zhǎng)，則甲光可能是紅光，乙光可能是藍(lán)紅光，故A錯(cuò)誤；B．光的波長(zhǎng)為SKIPIF1<0則由SKIPIF1<0可得SKIPIF1<0，P處為暗條紋，故B錯(cuò)誤；C．測(cè)量過(guò)程中，把乙光干涉條紋的亮條紋少數(shù)一個(gè)，則條紋間距測(cè)量值偏大，由SKIPIF1<0可知會(huì)導(dǎo)致波長(zhǎng)測(cè)量值偏大，故C正確；D．若把雙縫豎直向上移動(dòng)一小段距離，導(dǎo)致雙縫到O點(diǎn)的光程差發(fā)生變化，可能變?yōu)榘氩ㄩL(zhǎng)的奇數(shù)倍，屏上的O點(diǎn)可能為暗條紋，故D錯(cuò)誤。故選C。12．（2023·貴州·校聯(lián)考一模）光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備，如圖甲所示，它采用類似照片沖印的技術(shù)，通過(guò)曝光去除晶圓表面保護(hù)膜的方式，先將掩膜版上的精細(xì)圖形印制到硅片上，然后將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后便形成電路。某光刻機(jī)使用的是真空中波長(zhǎng)為SKIPIF1<0的極紫外線光源（SKIPIF1<0），如圖乙所示，在光刻膠和投影物鏡之間填充了折射率為1.8的液體用于提高光刻機(jī)投影精細(xì)圖的能力，則該紫外線由真空進(jìn)入液體后（）

A．光子能量減小 B．傳播速度不變C．波長(zhǎng)變?yōu)镾KIPIF1<0 D．更容易發(fā)生明顯衍射【答案】C【詳解】A．紫外線由真空進(jìn)入液體后，頻率不變，根據(jù)公式SKIPIF1<0可知光子能量不變，故A錯(cuò)誤；BC．由于頻率不變，傳播速度減小，波長(zhǎng)變短，根據(jù)公式可得SKIPIF1<0故B錯(cuò)誤，C正確；D．由于波長(zhǎng)變短，所以更不容易發(fā)生明顯衍射，故D錯(cuò)誤。故選C。13．（2023·江蘇徐州·校考模擬預(yù)測(cè)）圖示為通過(guò)3D眼鏡看電腦顯示屏的照片，下列說(shuō)法正確的是（）A．左側(cè)鏡片上涂有增反膜B．右側(cè)鏡片上涂有增透膜C．兩側(cè)鏡片為透振方向不同的偏振片D．電腦顯示屏發(fā)出的光為自然光【答案】C【詳解】D．手機(jī)、電腦、電視等電子顯示設(shè)備發(fā)出的光是偏振光，D錯(cuò)誤；ABC．3D眼鏡的2個(gè)鏡片是兩個(gè)透振方向互相垂直的偏振片，圖中電腦顯示屏發(fā)出的偏振光的透振方向與左側(cè)眼鏡垂直，沒(méi)有光穿過(guò)左側(cè)眼鏡，左側(cè)眼鏡看不見(jiàn)電腦顯示屏，電腦顯示屏發(fā)出的偏振光的透振方向與右側(cè)眼鏡平行，有光穿過(guò)右側(cè)眼鏡，右側(cè)眼鏡看得見(jiàn)電腦顯示屏，AB錯(cuò)誤，C正確。故選C。14．（2022·浙江·舟山中學(xué)校聯(lián)考模擬預(yù)測(cè)）如圖所示，SKIPIF1<0為一電阻可忽略的線圈，SKIPIF1<0為一電阻，SKIPIF1<0為電容器，開(kāi)關(guān)SKIPIF1<0處于閉合狀態(tài)，現(xiàn)突然斷開(kāi)SKIPIF1<0，并開(kāi)始計(jì)時(shí)，能正確反映SKIPIF1<0回路中電流i（規(guī)定順時(shí)針?lè)较驗(yàn)檎┘半娙萜髦须妶?chǎng)SKIPIF1<0的變化（由SKIPIF1<0板指向SKIPIF1<0板為電場(chǎng)的正方向）隨時(shí)間變化的圖像是（

）

A．

B．

C．

D．

【答案】C【詳解】因?yàn)镾KIPIF1<0為一電阻可忽略的線圈，可知當(dāng)電鍵閉合時(shí)，電容器帶電量為零，通過(guò)線圈L的電流向下；斷開(kāi)電鍵S后，電流在LC電路中開(kāi)始振蕩，電容器開(kāi)始充電，電流方向逆時(shí)針?lè)较颍ㄘ?fù)方向）且電流大小逐漸減小，b板帶正電荷且逐漸增加，即負(fù)方向的電場(chǎng)強(qiáng)度逐漸增加，則選項(xiàng)ABD錯(cuò)誤，C正確。故選C。15．（2023·浙江杭州·校聯(lián)考二模）如圖所示，把一矩形均勻薄玻璃板ABCD壓在另一個(gè)矩形平行玻璃板上，BC一側(cè)用薄片墊起，將紅單色光從上方射入，這時(shí)可以看到明暗相間的條紋，下列關(guān)于這些條紋的說(shuō)法中正確的是（）

A．條紋與AD邊平行B．看到的條紋是由薄玻璃板ABCD的上下兩個(gè)界面的反射光疊加而成的C．如果用手用力捏右側(cè)三層，會(huì)發(fā)現(xiàn)條紋保持間距不變，整體向AD側(cè)移動(dòng)D．看到的條紋越多，說(shuō)明薄片的厚度越厚【答案】AD【詳解】A、薄膜干涉的光程Δs=2d（d為薄膜厚度），厚度相同處產(chǎn)生的條紋明暗情況相同，因此條紋應(yīng)與AD邊平行，故A正確；B、根據(jù)薄膜干涉的產(chǎn)生原理可知，上述現(xiàn)象是由空氣膜上下表面反射的兩列光疊加而成的，故B錯(cuò)誤；C.如果用手用力捏右側(cè)三層，根據(jù)SKIPIF1<0可知條紋間距變大，導(dǎo)致滿足亮條紋光程差的間距向劈尖移動(dòng)，所以條紋向著劈尖移動(dòng)，故C錯(cuò)誤；D、看到的條紋越多，說(shuō)明相鄰亮條紋間距變小，所以干涉條紋會(huì)變密，說(shuō)明薄片的厚度越厚，故D正確。故選AD。16．（2023·天津西青·天津市西青區(qū)楊柳青第一中學(xué)?？寄M預(yù)測(cè)）圖甲是用光的干涉法檢測(cè)物體表面平整程度的裝置，其中M為標(biāo)準(zhǔn)板，N為水平放置的待檢測(cè)物體，入射光豎直向下照射，圖乙為觀察到的干涉條紋，下列說(shuō)法正確的是（）

A．入射光的波長(zhǎng)越長(zhǎng)，干涉條紋的條數(shù)越少B．MN之間墊塊的高度越高，干涉條紋的條數(shù)越少C．P點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面相對(duì)Q點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面是凸起的D．P點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面相對(duì)Q點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面是凹下的【答案】AC【詳解】A．根據(jù)光的干涉特點(diǎn)可知，入射光的波長(zhǎng)越長(zhǎng)，相鄰干涉條紋的距離越大，即乙圖觀察到的條數(shù)越少。故A正確；B．發(fā)生薄膜干涉時(shí)，相鄰明條紋間的空氣層的厚度差為SKIPIF1<0，MN之間墊塊的高度越高，空氣層的夾角越大，所以相鄰明條紋之間的距離變小，干涉條紋的條數(shù)越多。故B錯(cuò)誤；CD．薄膜干涉是等厚干涉，即明條紋處空氣膜的厚度相等，明條紋右偏說(shuō)明P點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面相對(duì)Q點(diǎn)所對(duì)應(yīng)待檢測(cè)物的表面是凸起的。故C正確；D錯(cuò)誤。故選AC。17．（2023·山東淄博·山東省淄博第一中學(xué)校聯(lián)考二模）某同學(xué)利用圖甲所示的裝置研究光的干涉和衍射，光電傳感器可用來(lái)測(cè)量光屏上光強(qiáng)的分布。某次實(shí)驗(yàn)時(shí)，在電腦屏幕上得到圖乙所示的光強(qiáng)分布。下列說(shuō)法正確的是（）A．這位同學(xué)在縫屏上安裝的是雙縫B．這位同學(xué)在縫屏上安裝的是單縫C．當(dāng)做干涉現(xiàn)象研究時(shí)，若要使干涉條紋的間距變大，應(yīng)選用雙縫間距較小的雙縫D．當(dāng)做干涉現(xiàn)象研究時(shí)，若要使干涉條紋的間距變小，應(yīng)增大縫屏與光屏間的距離【答案】BC【詳解】AB．根據(jù)題意，由圖乙可知，條紋中間亮、兩邊窄，是衍射條紋，所以在縫屏上安裝的是單縫，故A錯(cuò)誤，B正確；CD．根據(jù)題意，由公式SKIPIF1<0可知，若要使干涉條紋的間距變大，應(yīng)選用雙縫間距較小的雙縫，若要使干涉條紋的間距變小，應(yīng)減小縫屏與光屏間的距離，故D錯(cuò)誤，C正確。故選BC。18．（2023·陜西·陜西師大附中?？寄M預(yù)測(cè)）1912年勞埃等人根據(jù)理論預(yù)見(jiàn)，并用實(shí)驗(yàn)證實(shí)了X射線與晶體相遇時(shí)能發(fā)生衍射現(xiàn)象，證明了X射線具有電磁波的性質(zhì)，成為X射線衍射學(xué)的第一個(gè)里程碑。X射線衍射分析是利用晶體形成的X射線衍射圖樣，對(duì)物質(zhì)進(jìn)行內(nèi)部原子在空間分布狀況的結(jié)構(gòu)分析方法。X射線衍射的原理是：由于晶體內(nèi)部規(guī)則排列的原子間距離與X射線波長(zhǎng)具有相同數(shù)量級(jí)，所以將一定波長(zhǎng)的X射線照射到晶體時(shí)，就會(huì)得到明顯的X射線衍射圖樣。衍射圖樣在空間分布的方位和強(qiáng)度，與晶體微觀結(jié)構(gòu)密切相關(guān)。根據(jù)以上材料和所學(xué)的知識(shí)，下列說(shuō)法正確的是（）A．一定波長(zhǎng)的X射線照射到非晶體時(shí)，不會(huì)得到明顯的衍射圖樣B．一定波長(zhǎng)X射線分別照射到食鹽和石墨晶體上，得到的衍射圖樣在空間中分布的方位和強(qiáng)度不同C．一定波長(zhǎng)的SKIPIF1<0射線照射到晶體時(shí)，也會(huì)得到明顯的衍射圖樣D．X射線能在磁場(chǎng)中偏轉(zhuǎn)