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DB3603Technicalspecificationforsemiconductorglazesfor萍鄉(xiāng)市市場監(jiān)督管理局發(fā)布I 1 1 1 2 3 6 7 8本文件按照GB/T1.1—2020《標準化工作導(dǎo)則第1部分:標準化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定顧問有限公司、蘆溪高壓電瓷電氣研究院有通常輸變電設(shè)備外絕緣表面附著的污穢物在潮濕條件下,其可溶物質(zhì)逐漸溶于水,在外絕緣表面污閃問題長期以來一直困擾著電力系統(tǒng)和鐵路運輸行業(yè),成為電力輸變電和電氣化鐵路的技術(shù)發(fā)傳統(tǒng)瓷絕緣子防污閃的措施有定期停電清掃針對上述問題,采用半導(dǎo)體釉制作的絕緣子因表面有一定電流通過,其熱效應(yīng)可以很好解決“污業(yè)該領(lǐng)域標準空白,引導(dǎo)產(chǎn)業(yè)規(guī)范生產(chǎn)和助力企業(yè)創(chuàng)新能1電瓷用半導(dǎo)體釉制作技術(shù)規(guī)范GB/T8411.1陶瓷和玻璃絕緣材料第1部分:定義和2將混合好的釉料在一定的溫度和潮濕封閉的環(huán)境中放置一段時間,使釉料之間充分反應(yīng)和混合均運行電壓下受污表面受潮后流過絕緣子表面4制作條件4.1原料構(gòu)成4.1.1基礎(chǔ)釉用原料長石、石英、長豐泥、淘洗宜春土、淘洗江門土、燒滑石、硅灰石、4.1.2導(dǎo)電粒子用原料4.2設(shè)施設(shè)備4.2.1生產(chǎn)設(shè)備4.2.1.1生產(chǎn)設(shè)備包含但不限于球磨機、除鐵器、振動篩、攪拌機、施釉機、補水機等。4.2.2檢測設(shè)備34.2.3制作主要過程圖1半導(dǎo)體釉主要制作工藝路線圖5.1原料要求Al2O3MgO土土氧化二銻、二氧化鈦、二硅化鉬等,導(dǎo)電粒子用原料工業(yè)純度應(yīng)不小于95.2制釉45.2.2配料球石清理后宜按φ15/φ20/φ25/φ30cm規(guī)格及20:30:30:20體積比準備,配料中的料球水比例宜按1:1.6:0.6~0.8并適時調(diào)5.2.3球磨5.2.3.1球磨時間5.2.3.2鐵點檢查5.2.3.2.3除鐵器應(yīng)具有合理的檢定周期,除鐵棒應(yīng)具有預(yù)定使用要求的磁性特性。5.2.4釉漿要求5.2.4.1釉漿水分5.2.4.2粘度5.2.4.3高溫流動度5.2.6釉樣試燒5.3施釉5.3.1基本要求釉漿調(diào)制后通過浸、噴、淋等動作手段進行施釉5.3.2施釉控制55.3.2.1坯體表面打磨干凈,根據(jù)需求方圖紙要求對所需部位進行施釉作業(yè)。5.3.2.2施釉前釉漿攪拌宜不小于0.5h,釉漿性能檢測應(yīng)符合附錄B要求。5.3.2.3施釉過程中應(yīng)持續(xù)攪拌,釉層厚度依據(jù)客戶訂貨技術(shù)條件確定。5.4燒成5.5檢測釉面進行孔隙性試驗后不應(yīng)有任何滲透現(xiàn)象試驗方法按照GB/T31838.3-2019規(guī)定執(zhí)行,性能參數(shù)應(yīng)在106~1010Ω范圍內(nèi)。6123712棕釉比重:1.40~1.49g/ml,流速:10~16s計灰釉比重:1.48~1.54g/ml,流速:12~18s3棕釉比重:1.65~1.70g/ml,流速:18~24s計
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