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第四章透射與反射
4.1
kDB坐標(biāo)系浙江大學(xué)信息與電子工程學(xué)院《高等電磁波理論》12媒質(zhì)的波動(dòng)方程問(wèn)題:各向異性媒質(zhì)的波動(dòng)方程與平面波形式有何不同?各向同性(時(shí)諧、無(wú)源)波動(dòng)方程分離變量平面波通解3平面波通解各向異性(時(shí)諧、無(wú)源)平面波解麥克斯韋方程(平面波)4kDB坐標(biāo)系麥克斯韋方程(平面波)xyzθ?kDB坐標(biāo)系DB平面:①xy平面沿z
軸逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)?-π/2角度②新的x軸作為e1
軸③沿e1
軸旋轉(zhuǎn)θ
角度5kDB坐標(biāo)系(2)xyzθ?kDB坐標(biāo)系xyz坐標(biāo)系下的矢量kDB坐標(biāo)系下的矢量6kDB坐標(biāo)系(3)xyzθ?kDB坐標(biāo)系本構(gòu)關(guān)系(xyz)本構(gòu)關(guān)系(kDB)坐標(biāo)變換7kDB坐標(biāo)系(4)xyzθ?kDB坐標(biāo)系xyz坐標(biāo)系坐標(biāo)變換kDB坐標(biāo)系麥克斯韋方程(平面波)特點(diǎn):D3=B3=08色散關(guān)系xyzθ?kDB坐標(biāo)系kDB坐標(biāo)系D3=B3=0代入本構(gòu)關(guān)系色散關(guān)系求解方程本征值問(wèn)題9色散關(guān)系(單軸介質(zhì))代入色散關(guān)系求解方程單軸介質(zhì)z10色散關(guān)系(單軸介質(zhì))有非零解行列式為零色散關(guān)系情況③:xyz情況①:①情況②:xyz②11思考:手性介質(zhì)代入色散關(guān)系求解方程手性介質(zhì)色散關(guān)系求解方程本征值問(wèn)題平面波為圓極化模式,為什么?Opticalchiralmetamaterials:areviewofthefundamentals,fabricationmethodsandapplications.Nanotechnology27,412001(2016)第四章透射與反射
4.2單軸介質(zhì)浙江大學(xué)信息與電子工程學(xué)院《高等電磁波理論》1213什么是單軸介質(zhì)?光軸方向的介電常數(shù)不同等效介電常數(shù)zz周期層狀結(jié)構(gòu)周期柱體結(jié)構(gòu)人工結(jié)構(gòu)(超材料)如何分析透反射,有何不同?14單軸介質(zhì)的色散關(guān)系色散關(guān)系xyzθ?kDB坐標(biāo)系代入色散關(guān)系求解方程(kDB坐標(biāo)系)單軸介質(zhì)15單軸介質(zhì)的色散關(guān)系(2)情況①:尋常波(o光)情況②:非尋常波(e光)情況③:波矢沿著z方向kskz等頻線(k
surfaces)xyz①xyz②xyz③16單界面透反射均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx入射波(TM極化):反射波:透射波:相位匹配:17單界面透反射(2)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx邊界條件在邊界z=0處邊界條件要求切向EH連續(xù)(TM極化)k1z,k2z可以根據(jù)入射角度和色散關(guān)系得到18單軸平板透反射均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx均勻介質(zhì)z=d前向波后向波區(qū)域1(左側(cè)):區(qū)域2(中間):區(qū)域3(右側(cè)):邊界條件相位匹配:待解未知數(shù)19單軸平板透反射(2)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx均勻介質(zhì)z=d前向波后向波20單軸平板透反射(3)在邊界z=0處21單軸平板透反射(4)在邊界z=d
處22單軸平板透反射(5)待解未知數(shù)令23單軸平板透反射(6)單軸介質(zhì)平板的透反射系數(shù)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx均勻介質(zhì)z=d前向波后向波非尋常波(e光)第四章透射與反射
4.3手性介質(zhì)浙江大學(xué)信息與電子工程學(xué)院《高等電磁波理論》2425什么是手性介質(zhì)?電磁耦合人工結(jié)構(gòu)(手性超材料)如何分析透反射,有何不同?電場(chǎng)與磁通量有關(guān)磁場(chǎng)與電位移有關(guān)電場(chǎng)激發(fā)平行方向的電偶極子與磁偶極子+q-
q26手性介質(zhì)的色散關(guān)系xyzθ?kDB坐標(biāo)系代入色散關(guān)系求解方程(kDB坐標(biāo)系)手性介質(zhì)色散關(guān)系27單軸介質(zhì)的色散關(guān)系(2)情況①:左旋情況②:右旋等頻線(k
surfaces)kskz①②28單軸介質(zhì)的平面波(kDB)情況①:情況②:左旋極化電磁場(chǎng)模式(省略平面波復(fù)指數(shù)項(xiàng))右旋29單軸介質(zhì)的平面波(xyz)情況①:情況②:左旋極化電磁場(chǎng)模式(省略平面波復(fù)指數(shù)項(xiàng))右旋矢量坐標(biāo)轉(zhuǎn)換30單界面透反射均勻介質(zhì)(區(qū)域1)手性介質(zhì)(區(qū)域2)入射波反射波透射波z=0zx31單界面透反射(1)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx入射波(左旋)反射波(左旋)反射波(右旋)32單界面透反射(2)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx透射波(左旋)透射波(右旋)33單界面透反射(3)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx邊界處的H場(chǎng)(z=0)邊界條件34單界面透反射(4)均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx邊界處的E場(chǎng)(z=0)邊界條件35單界面透反射(5)四條待解方程36單界面透反射(6)垂直入射時(shí)反射波左旋變右旋,透射波不變!37思考:斜入射手性反射斜入射時(shí)極化狀態(tài)如何變化,為什么?均勻介質(zhì)單軸介質(zhì)入射波反射波透射波z=0zx第四章透射與反射
4.4周期介質(zhì)浙江大學(xué)信息與電子工程學(xué)院《高等電磁波理論》3839周期介質(zhì)如何分析透反射,有何不同?εH
εLεH
εLεH
εLεH
εL周期排列的介質(zhì)(光柵、超材料、光子晶體等)40多層介質(zhì)透反射區(qū)域0入射波反射波zx區(qū)域1區(qū)域l區(qū)域n區(qū)域t=n+1z=d0z=d1z=dlz=dnz=dn-1z=dl-1透射波前向后向TM極化前向波后向波區(qū)域l
的磁場(chǎng)前向波后向波區(qū)域l
的電場(chǎng)41多層介質(zhì)透反射(2)待解系數(shù)(2n+4個(gè))區(qū)域0(入射):區(qū)域
n+1(透射):色散關(guān)系:相位匹配待解系數(shù)(2n+2個(gè))邊界條件(2n+2條)前向波后向波前向波后向波42多層介質(zhì)透反射(3)邊界條件矩陣形式前向傳播矩陣代入?yún)?shù)可得R、T43多層介質(zhì)透反射(3)前向傳播矩陣z=dl介質(zhì)傳播(第l+1層)介質(zhì)傳播(第l層)邊界散射44周期介質(zhì)令每一層介質(zhì)厚度為四分之一波長(zhǎng)εL
εHεL
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εHdldl-1dl+1TRεH0d2N+1一個(gè)周期的傳播矩陣中間四項(xiàng)矩陣相乘合并一個(gè)周期45周期介質(zhì)(2)令每一層介質(zhì)厚度為四分之一波長(zhǎng)N個(gè)周期的總傳播矩陣εL
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εHdldl-1dl+1TRεH0d2N+146周期介質(zhì)(3)εL
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εHdldl-1dl+1TRεH0d2N+1代入總傳播矩陣當(dāng)N
無(wú)窮大時(shí)全反射為什么?47周期介質(zhì)的平面波axy(周期)(周期電場(chǎng))(周期介電常數(shù))(平面波模式)傅里葉級(jí)數(shù)展開(kāi)(FloquetmodeorBlochwave)48周期介質(zhì)的平面波(2)傅里葉級(jí)數(shù)形式代入波動(dòng)方程拉普拉斯算符移入
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