頭部(顱腦連續(xù)橫斷層解剖)-斷層PPT參考幻燈片

1、斷層解剖學(xué),電子課件,顱腦連續(xù)橫斷層解剖,頭部斷層解剖學(xué)（二）,橫斷層面分為上、中、下三部分。 上部為胼胝體干和尾狀核體出現(xiàn)以上的層面，大腦半球被大腦鐮分隔為左、右兩部分，以中央溝和頂枕溝將端腦斷面分為額葉、頂葉和枕葉；,中部為基底核區(qū)和腦室等所在的層面，由胼胝體等連合纖維將左、右側(cè)大腦半球連成一整體，不同層面的中央?yún)^(qū)之間的差異主要為基底核區(qū)、側(cè)腦室和第三腦室等的位置、形態(tài)的變化，層面周邊以中央溝和外側(cè)溝將端腦分為額葉、頂葉和顳葉；,下部是自鞍上池以下的層面，腦組織被大腦外側(cè)窩池和小腦幕等分為數(shù)塊，隨層面下移則腦組織逐漸縮少，不同層面的中央?yún)^(qū)之間的差異主要為腦池、腦干和第四腦室等的位置、形態(tài)的

2、變化。,3. 經(jīng)頂枕溝上份的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：額上溝、額中回、扣帶溝和回、頂下溝、楔葉； 中線及內(nèi)側(cè)面結(jié)構(gòu)：上矢狀竇、大腦鐮及大腦縱裂池、額內(nèi)側(cè)回、中央旁小葉、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額 中回、中央前溝、中央前回、中央溝、 中央后回、中央后溝、頂下小葉； 影像解剖學(xué)特征：頂內(nèi)溝的變化較 大，但多起自中央后溝；頂內(nèi)溝與大 腦半球上緣平行且彎向后方；頂內(nèi)溝 將頂葉分為頂上小葉和頂下小葉，也 是語(yǔ)言區(qū)即Wernicke區(qū)的上界。,4. 經(jīng)頂枕溝中份的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 斷面變化：中央旁小葉消失，顳肌斷面出現(xiàn)； 中線及內(nèi)側(cè)面結(jié)構(gòu)：額內(nèi)側(cè)回

3、、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額中回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、中央后溝、頂下小葉； 影像解剖學(xué)特征：髓質(zhì)連成片狀， 腦溝移向四周且縮短；中央旁小葉 消失，尚可見起自中央后溝的頂內(nèi)溝； 頂枕溝呈直線或S形走行，多于距 狀溝前、中1/3交界處與距狀溝匯合， 如兩溝分離則期間常有一過(guò)渡腦回存 在。,5. 經(jīng)半卵圓中心的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：頂內(nèi)溝消失，半卵圓中心及緣上回?cái)嗝娉霈F(xiàn)； 中線及內(nèi)側(cè)面結(jié)構(gòu)：額內(nèi)側(cè)回、扣帶溝、扣帶回、頂下溝、楔前葉、頂枕溝和楔葉； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額中回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、中

4、央后溝、緣上回和頂下小葉； 影像解剖學(xué)特征：大腦髓質(zhì)增至最 大，大致呈卵圓形；半卵圓中心在CT 圖像上呈低密度暗區(qū)，MRI T1加權(quán)像上 呈高信號(hào)亮區(qū)；腦內(nèi)脫髓鞘病變，如 多發(fā)性硬化、腎上腺腦白質(zhì)營(yíng)養(yǎng)不良和 腦結(jié)節(jié)硬化癥等，常在該區(qū)出現(xiàn)單發(fā)或 多發(fā)病灶。,6. 經(jīng)胼胝體干部的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：半卵圓中心及頂下溝消失，額下回、胼胝體、側(cè)腦室、角回、外側(cè)溝斷面出現(xiàn)； 中線及內(nèi)側(cè)面結(jié)構(gòu)：額內(nèi)側(cè)回、扣帶溝及回（胼胝體干額鉗之前）；扣帶回峽、距狀溝前部、舌回、距狀溝后部和楔葉（胼胝體枕鉗之后）； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、中央前溝、中央前回、中央溝、中央后回、外側(cè)溝

5、、緣上回、角回和枕外側(cè)回； 影像解剖學(xué)特征：胼胝體干出現(xiàn)于層面中央，呈X形，并向前外、后外分別延伸形成額鉗和枕鉗；側(cè)腦室位于胼胝體干外側(cè)，其前外側(cè)的灰質(zhì)團(tuán)塊為尾狀核；中線上的大腦鐮被分為前后兩部分，近顱骨處有上矢狀竇，后部大腦鐮的前方有大腦大靜脈池及其后的下矢狀竇；一般情況下，外側(cè)溝后支與側(cè)腦室在橫斷層面上同時(shí)出現(xiàn)，故側(cè)腦室的出現(xiàn)是識(shí)別外側(cè)溝后支的標(biāo)志；緣上回包繞外側(cè)溝后支末端，角回包繞于顳上溝末端，故外側(cè)溝后支是識(shí)別緣上回和角回的解剖標(biāo)志。,18,1,2,3,4,5,6,7,8,10,11,12,13,14,15,16,17,19,20,7. 經(jīng)胼胝體壓部的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：緣上

6、回和楔葉消失，內(nèi)囊、第三腦室、透明腔、穹窿、禽距和島葉的斷面出現(xiàn)； 中線及內(nèi)側(cè)面結(jié)構(gòu)：大腦鐮、額內(nèi)側(cè)回、扣帶溝和回、胼胝體膝、透明隔、穹窿、第三腦室、帆間池、胼胝體壓部、大腦大靜脈池、直竇、距狀溝、舌回和楔葉； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、中央前回、中央溝、中央后回、外側(cè)溝、顳橫回、顳上回、顳上溝、顳中回和枕葉； 深面結(jié)構(gòu)：尾狀核頭、側(cè)腦室前角、內(nèi)囊、豆?fàn)詈?、外囊、屏狀核、最外囊、島葉皮質(zhì)、背側(cè)丘腦、側(cè)腦室后角、禽距和尾狀核尾。,影像解剖學(xué)特征：第三腦室：呈正中矢狀位，后方的三角形腔隙為帆間池，前方有透明隔和穹窿，兩側(cè)灰質(zhì)團(tuán)塊為背側(cè)丘腦；內(nèi)囊和基底核：背側(cè)丘腦與豆?fàn)詈撕?/p>

7、尾狀核之間為內(nèi)囊，豆?fàn)詈伺c屏狀核之間為外囊，屏狀核與島葉皮質(zhì)之間為最外囊；側(cè)腦室：在胼胝體膝后方，與尾狀核頭、透明隔和穹窿間的腔隙為側(cè)腦室前角，向后經(jīng)室間孔與第三腦室相通；在胼胝體壓部的兩側(cè)，有側(cè)腦室后角，其內(nèi)側(cè)可見隆起的禽距；距狀溝：自胼胝體壓部下方向后走向枕極，深1.5-2.0cm，以頂枕溝與其匯合點(diǎn)為界分為前、后兩部分；距狀溝前部的位置及形態(tài)較恒定；距狀溝前部推頂腦回突入側(cè)腦室后角形成一隆起的禽距，因此，側(cè)腦室后角內(nèi)側(cè)壁上的禽距是識(shí)別距狀溝的重要標(biāo)志。,8. 經(jīng)上丘和前連合的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：角回、距狀溝、禽距及帆間池消失，小腦幕、上丘、海馬、側(cè)副隆起和內(nèi)、外側(cè)膝狀體的斷面出

8、現(xiàn)； 中線、內(nèi)側(cè)面及底面結(jié)構(gòu)：大腦鐮、額內(nèi)側(cè)回、扣帶溝和回、胼胝體膝、透明隔、穹窿、丘腦間粘合、第三腦室、上丘、小腦、直竇、竇匯、海馬旁回、側(cè)副溝、枕顳內(nèi)側(cè)回、枕顳溝、枕顳外側(cè)回； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、外側(cè)溝、顳上回、顳上溝、顳中回、顳下溝、顳下回； 深面結(jié)構(gòu)：基底節(jié)、內(nèi)囊、外囊、最外囊、島葉皮質(zhì)、背側(cè)丘腦、側(cè)腦室前角和后角、側(cè)副隆起、內(nèi)外側(cè)膝狀體等。 影像解剖學(xué)特征：海馬、尾狀核尾及側(cè)副隆起：側(cè)腦室下角前外側(cè)壁的灰質(zhì)團(tuán)塊為尾狀核尾，內(nèi)側(cè)有海馬溝推頂腦回形成的海馬；后壁上有側(cè)副溝推頂腦回形成的側(cè)副隆起；小腦及小腦幕：上丘的后方有呈“八”形的小腦幕，其間為小腦蚓的

9、上部；竇匯：枕骨的前方為竇匯，竇匯與小腦之間為直竇；島葉皮質(zhì)：自前向后分為額蓋（運(yùn)動(dòng)性語(yǔ)言中樞）、頂蓋（軀體運(yùn)動(dòng)和感覺中樞）和顳蓋（多為緣上回，聽覺性語(yǔ)言中樞）。,5,1,3,4,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,9. 經(jīng)下丘的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：內(nèi)囊、胼胝體、透明隔、上丘及側(cè)副隆起消失，小腦半球、中腦水管、下丘、紅核、黑質(zhì)、杏仁體的斷面出現(xiàn)； 中線、內(nèi)側(cè)面及底面結(jié)構(gòu)：大腦鐮、額內(nèi)側(cè)回、扣帶溝和回、大腦前動(dòng)脈、第三腦室、中腦水管、四疊體池、小腦幕、小腦蚓部、竇匯、小腦幕、海馬旁回、側(cè)副溝、枕顳內(nèi)側(cè)回、枕顳溝、枕顳外側(cè)回； 外側(cè)面結(jié)構(gòu)：額

10、上回、額上溝、額中回、額下溝、額下回、外側(cè)溝、顳上回、顳上溝、顳中回、顳下溝、顳下回； 深面結(jié)構(gòu)：基底節(jié)、外囊、最外囊、島葉皮質(zhì)、背側(cè)丘腦、側(cè)腦室前角和后角、側(cè)副隆起、內(nèi)外側(cè)膝狀體等。 影像學(xué)特征：中腦斷面：位于斷層中央，自前向后分為大腦腳底、黑質(zhì)、中腦被蓋和頂蓋；腦池：下丘腦后方為四疊體池，向兩側(cè)環(huán)繞中腦與環(huán)池相續(xù)；外側(cè)溝呈“”形，內(nèi)有大腦外側(cè)窩池（側(cè)裂池）和大腦中動(dòng)脈；外側(cè)溝：由一干五支組成。外側(cè)溝干起自前穿質(zhì)，經(jīng)額葉眶面與顳極之間向外側(cè)延伸，達(dá)大腦半球上外側(cè)面分為前支、升支和后支；前支和升支連成、或形向上深入額下回。后支向后上走行分為后升支和后降支；后升支終于緣上回，后降支升入顳上回。,

11、10. 經(jīng)小腦上腳的顱腦橫斷層解剖特點(diǎn) 首現(xiàn)斷面：第三腦室、中腦、下丘、殼和尾狀核頭消失，鞍上池、視交叉、腦橋、小腦上腳和第四腦室的斷面出現(xiàn)； 影像學(xué)特征：層面內(nèi)的結(jié)構(gòu)分四部分，即外側(cè)溝前方的額葉：外側(cè)面額葉可見額上回、額中回、額下回和額內(nèi)側(cè)回；在底面，額葉被中間的嗅束溝分為內(nèi)側(cè)的直回和外側(cè)的眶回。外側(cè)溝與小腦幕之間為顳葉：顳葉外側(cè)面自前而后為顳上回、顳中回和顳下回；顳葉內(nèi)的腔隙為側(cè)腦室下角，其前內(nèi)側(cè)的灰質(zhì)團(tuán)塊為杏仁體，內(nèi)側(cè)卷曲的結(jié)構(gòu)是海馬。兩側(cè)小腦幕之間為腦橋和小腦：腦橋經(jīng)小腦上角與后方的小腦相連，小腦由小腦半球和小腦蚓組成。小腦髓質(zhì)內(nèi)較大的灰質(zhì)團(tuán)塊為齒狀核。額葉、顳葉和腦橋之間的空隙為鞍上池：鞍上池呈五角形，由交叉池和橋池組成。內(nèi)有視交叉（視束）、下丘