多弧離子鍍調(diào)研報(bào)告

1、多弧離子鍍技術(shù)的現(xiàn)狀調(diào)研引言物理氣相沉積技術(shù)早在20世紀(jì)初已有些應(yīng)用，但在最近30年迅速發(fā)展，成為一門(mén)極具廣闊應(yīng)用前景的新技術(shù)，并向著環(huán)保型、清潔型趨勢(shì)發(fā)展。20世紀(jì)90年代初至今，在鐘表行業(yè)，尤其是高檔手表金屬外觀件的表面處理方面得到越來(lái)越為廣泛的 應(yīng)用。離子鍍技術(shù)是在真空蒸鍍和真空濺射的基礎(chǔ)上于 20世紀(jì)60年代初發(fā)展起來(lái)的新型薄膜 制備技術(shù)，于1963年由D. M. Mattox提出，1971年Chamber等發(fā)表了電子束離子鍍技 術(shù)，1972年又出現(xiàn)了反應(yīng)蒸發(fā)鍍（ARE技術(shù)，并制作了 TIN及TIC超硬膜。同年， MOLEYS SMITH將空心陰極技術(shù)應(yīng)用于鍍膜。多弧離子鍍屬于離子鍍的

2、一種改進(jìn)方法，是離子鍍技術(shù)中的皎皎者。最早由蘇聯(lián)人開(kāi)發(fā)，80年代初，美國(guó)的Multi-Arc 公司首先把這種技術(shù)實(shí)用化，至此離子鍍達(dá)到工業(yè)應(yīng)用水平。離子鍍種類(lèi)很多，蒸發(fā)遠(yuǎn)加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、 高頻感應(yīng)加熱等然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡(jiǎn)單的說(shuō)，多弧離子鍍的原理就是把陰極 靶作為蒸發(fā)源，通過(guò)靶與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成 等離子體，對(duì)基體進(jìn)行沉積。由于多弧離子鍍技術(shù)具有鍍膜速度高，膜層的致密度大，膜 的附著力好等特點(diǎn)，使多弧離子鍍鍍層在工具、模具的超硬鍍膜、裝

3、飾鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用越 來(lái)越廣泛，并將占據(jù)越來(lái)越重要的地位。離子鍍技術(shù)是當(dāng)前使用面最為廣泛、最為先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一，而多弧離子 鍍更是其中的佼佼者。據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，國(guó)內(nèi)外有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍 技術(shù)，尤其是那些需要耐磨、 耐蝕及特殊要求的場(chǎng)合。 隨著社會(huì)的進(jìn)步， 科學(xué)的發(fā)展，離子鍍技術(shù)必將加完善目錄引言L.二1物理氣相沉積技術(shù)物理氣相沉積技術(shù)種類(lèi).物理氣相沉積技術(shù)主要廠商一PLATIT涂層設(shè)備公司匚賽利涂層技術(shù)有限公司歐瑞康巴爾查斯有限公司|德國(guó)PVT涂層有限公司瑞士 Sulzer 亞特梯爾鍍層科技有限公司 愛(ài)恩邦德技術(shù)有限公司豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司 北京丹普表面技術(shù)有限

4、公司_P物理氣相沉積技術(shù)總結(jié)2多弧離子鍍多弧離子鍍?cè)砑肮に?多弧離子鍍工藝特點(diǎn)多弧離子鍍膜設(shè)備|多弧離子鍍膜設(shè)備構(gòu)成 錯(cuò)誤!未定義書(shū)簽多弧離子鍍膜設(shè)備廠家3多弧離子鍍技術(shù)制備銀膜多弧離子鍍?cè)O(shè)備制備銀膜的特點(diǎn) 破壞銀膜的主要因素 多弧離子鍍?cè)O(shè)備制備銀膜的改善 4生產(chǎn)成本分析成本分析的目的成本分析的根本任務(wù) 影響產(chǎn)品成本的主要因素：建廠時(shí)帶來(lái)的固有因素 宏觀經(jīng)濟(jì)因素企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理因素 生產(chǎn)因素其他影響因素 5多弧離子鍍工藝問(wèn)題分析和改進(jìn)方向 基體沉積溫度 錯(cuò)誤!未定義書(shū)簽反應(yīng)氣體壓強(qiáng)與流量靶源電流.基體負(fù)偏壓基體沉積時(shí)間6結(jié)語(yǔ)1物理氣相沉積技術(shù)物理氣相沉積技術(shù)種類(lèi)物理氣相沉積（Physical V

5、apor Deposition ，PVD技術(shù)是在真空條件下，采用物理方法， 將材料源一一固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、 分子或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體（或 等離子體）過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。物理氣相沉積的主要方法有（1）真空蒸鍍；（2）濺射鍍膜；（3）離子鍍膜。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、 半導(dǎo)體、聚合物膜等。真空蒸鍍真空蒸鍍基本原理是在真空條件下，使金屬、金屬合金或化合物蒸發(fā)，然后沉積在基體 表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，高頻感應(yīng)加熱，電子束、激光束、離子束高能轟擊鍍料, 使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，

6、歷史上真空蒸鍍是PVD法中使用最早的技術(shù)。濺射鍍膜基本原理是充氬氣的真空條件下， 使氬氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬原子電離成氬 離子，氬離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉 積到工件表面。如果采用直流輝光放電，稱直流（Qc）濺射，射頻（RF）輝光放電引起的稱射頻 濺射。磁控（M）輝光放電引起的稱磁控濺射。離子鍍基本原理是在真空條件下， 采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成 離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用 下，離子沉積于基體表面形成薄膜。物理氣相沉積技術(shù)主要廠商PLATIT涂層設(shè)備公司PLATIT公司總部位

7、于瑞士，屬于 BCI集團(tuán)旗下企業(yè)。該公司是目前唯一只做設(shè)備不做 涂層服務(wù)的公司。目前在國(guó)內(nèi)的市場(chǎng)主要由代理商科匯負(fù)責(zé)， 科匯最早在香港開(kāi)了涂層中心, 于2006年在深圳成立分廠，但現(xiàn)在基本都轉(zhuǎn)移到深圳。PLATIT的最大優(yōu)點(diǎn)是開(kāi)發(fā)納米結(jié)構(gòu)涂層，而且宣傳的非常好，PLATIT的設(shè)備是目前在國(guó)內(nèi)銷(xiāo)售的最多的外國(guó)涂層設(shè)備。賽利涂層技術(shù)有限公司？ ？賽利涂層技術(shù)有限公司原是天威賽利涂層技術(shù)有限公司，由天威集團(tuán)與德國(guó)CemeCoAG共同投資成立。公司成立于2003年09月。2005年04月，天威賽利成功通過(guò)德國(guó) Tu V （萊茵公 司）的 09001:2000質(zhì)量認(rèn)證，2008年06月順利完成了由德國(guó)

8、CemeCor獨(dú)資的股權(quán)變更， 公司名稱變更為：保定賽利涂層技術(shù)有限公司。公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為：PVD（物理氣相沉積）與金剛石涂層產(chǎn)品、涂層設(shè)備、配件與耗材的制造、銷(xiāo)售與售后服務(wù)。歐瑞康巴爾查斯有限公司？ ？歐瑞康巴爾查斯涂層（蘇州）有限公司是瑞士獨(dú)資公司，注冊(cè)成立于2003年,目前全國(guó)有 7個(gè)涂層中心，分別位于天津、江蘇蘇州、浙江溫嶺、陜西漢中和西安、四川成都、廣州東 莞。目前我們正在建設(shè)兩個(gè)新的涂層中心，分別位于在重慶市和山東濟(jì)南市。歐瑞康已涉足 六大領(lǐng)域：涂層、真空、光學(xué)和航空元件、紡織品、推進(jìn)系統(tǒng)、半導(dǎo)體等。歐瑞康巴爾查斯 產(chǎn)品在國(guó)市場(chǎng)的占有份額約為15%20%,這一份額已經(jīng)是國(guó)內(nèi)最大的PV

9、D涂層公司，比其 它涂層公司要高出很多，目前巴爾查斯在全球市場(chǎng)所占份額約為三分之一。德國(guó)PVT涂層有限公司德國(guó)PVT涂層有限公司，是由德國(guó)PVT公司在中國(guó)投資設(shè)立的涂層加工中心， 公司總部 在德國(guó)的本斯海姆，目前該公司自己在國(guó)內(nèi)有四個(gè)涂層中心：黑龍江哈爾濱、江蘇常州、浙 江溫嶺、廣東東莞。德國(guó)PVT公司是當(dāng)今世界上最先進(jìn)的超硬涂層技術(shù)研發(fā)和設(shè)備制造公司 之一，是專門(mén)開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)具有世界領(lǐng)先水平的離子和等離子真空鍍膜設(shè)備的高科技公司，主要集涂層設(shè)備制造，涂層新工藝研發(fā)及涂層加工于一體。特別是其動(dòng)態(tài)磁場(chǎng)設(shè)計(jì)，電弧運(yùn)動(dòng)速 度快，而且遍布整個(gè)靶面，能夠提高膜層均勻性、提高靶材利用率、減小液滴等特點(diǎn)。瑞士

10、Sulzer瑞士 Sulzer公司成立于1984年，1987年在德國(guó)Bevgisch Gladbach建立獨(dú)立的涂層中 心，主要以MAXIT耐磨涂層為主。1992年開(kāi)始生產(chǎn)制造設(shè)備，并擴(kuò)大了涂層服務(wù)，1997年兼 并了 Klocknev lonon GmbH公司，業(yè)務(wù)范圍擴(kuò)展到等離子滲氮領(lǐng)域，即IONIT R耐磨保護(hù)，1999擴(kuò)展到裝飾涂層領(lǐng)域。2001年該公司被瑞士 Sulzer公司收購(gòu)，2002年擴(kuò)大了 Bergisch Gladbach的IONIT和IONIT OX的生產(chǎn)規(guī)模，成為最大的工業(yè)等離子表面處理制造商。2003年兼并了美國(guó)前DB薄膜公司，開(kāi)始從事 MAXIT IONIT、ION

11、ITOX生產(chǎn)服務(wù)。亞特梯爾鍍層科技有限公司亞特梯爾鍍層科技有限公司是由香港Art Tech no logy Developme nt LTD與英國(guó) TeerCoat ing LTD共同投資組建的外資企業(yè)。Teer coati ng主要強(qiáng)項(xiàng)是非平衡磁控濺射，公司位 于東莞市鳳崗鎮(zhèn)塘瀝村福民工業(yè)區(qū)，主要從事機(jī)械加工用的刀、模具的鍍層處理，目前主要 生產(chǎn)CrAlTiN、Graphit-iC 和MoST三種高性能的鍍層。愛(ài)恩邦德技術(shù)有限公司愛(ài)恩邦德技術(shù)有限公司于2005年由Ion bo ndAG集團(tuán)投資140萬(wàn)美金成立了愛(ài)恩邦德涂 層（蘇州）有限公司，公司下設(shè)蘇州、昆山兩個(gè)工廠分別位于蘇州工業(yè)園區(qū)和昆

12、山經(jīng)濟(jì)技術(shù) 開(kāi)發(fā)區(qū)。lonbondAG集團(tuán)中國(guó)總部一-愛(ài)恩邦德（無(wú)錫）技術(shù)有限公司設(shè)于無(wú)錫市高新科技 技術(shù)區(qū)，IonbondAG集團(tuán)致力于CVD（化學(xué)氣相沉積）、PVD（物理氣相沉積）、PACV（離 子加強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）以及CVA（鋁化學(xué)氣相沉積）等多種表面膜層技術(shù)及其設(shè)備的研發(fā)與 生產(chǎn)。豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司是PVD技術(shù)的全球供應(yīng)商，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于切削刀具、 汽車(chē)零部件及衛(wèi)浴五金件。母公司易普森國(guó)際是市場(chǎng)上領(lǐng)先的真空熱處理技術(shù)供應(yīng)商，易普森工業(yè)爐（上海）有限公司是其在中國(guó)的生產(chǎn)基地。豪澤公司以易普森上海為其在中國(guó)的基 地，為豪澤公司先進(jìn)的鍍層和PV

13、D系統(tǒng)的用戶提供本地化的服務(wù)支持。 除了為切削刀具提供 一流的硬鍍層外，豪澤公司也為硬質(zhì)鋼的干式高速加工以及鋁、不銹鋼和鈦合金的切削刀具 提供最優(yōu)化的工具鍍層技術(shù)和減磨鍍層技術(shù)。Hauzer在汽車(chē)發(fā)動(dòng)機(jī)零部件涂層上的市場(chǎng)份額是全球第一的，另外他最突出的涂層技術(shù)是在 DLC膜上，這幾年刀具涂層方面的業(yè)務(wù)發(fā)展 迅速。北京丹普表面技術(shù)有限公司北京丹普表面技術(shù)有限公司是由北京丹鵬表面技術(shù)研究中心和意大利普羅泰克表面技 術(shù)有限公司于2000年4月共同投資興建的中意股份合作企業(yè)。主要從事物理氣相沉積（PVD技術(shù)的研究和開(kāi)發(fā)。主營(yíng)產(chǎn)品為陰極電弧離子蒸發(fā)系統(tǒng)和非平衡磁控濺射系統(tǒng)，AS系列和Propower（簡(jiǎn)

14、稱PP）系列計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制離子鍍膜設(shè)備是其主打產(chǎn)品。物理氣相沉積技術(shù)總結(jié)磁控濺射技術(shù)和電弧技術(shù)在工具涂層領(lǐng)域各有優(yōu)勢(shì)，到目前為止還很難說(shuō)哪種技術(shù)更 好。磁控濺射技術(shù)這幾年發(fā)展很快，世界涂層領(lǐng)域在工具涂層上濺射技術(shù)做的最好的還是德 國(guó)的Cemecor公司，而且涂層的產(chǎn)品幾乎全是刀具。在刀具涂層領(lǐng)域，涂層設(shè)備的設(shè)計(jì)制造也有一些新的趨勢(shì)。一些知名的國(guó)外涂層設(shè)備制造商紛紛推出電弧加濺射的涂層設(shè)備，例如Sulzer的Domi no系列涂層設(shè)備，Balzers的Innova,以及豪澤公司的涂層設(shè)備。因此濺射技術(shù)還是存在電弧技術(shù)代替不了的優(yōu)勢(shì)的。最近兩年來(lái)，高能脈沖磁控濺射技術(shù)炒的很熱。以Cemecor和

15、 Hauzer公司為代表，已經(jīng)推出了采用這種技術(shù)的涂層設(shè)備。 從原理上講，這確實(shí)是一種能夠結(jié)合電弧和濺射技術(shù)所 有優(yōu)點(diǎn)的涂層技術(shù)。如果發(fā)展的順利，高能脈沖磁控濺射技術(shù)將代表工具涂層技術(shù)未來(lái)的發(fā) 展方向。在國(guó)內(nèi)物理氣相沉積鍍膜設(shè)備主要是以進(jìn)口為主，目前國(guó)內(nèi)在物理氣相沉積技術(shù)方面還屬于引進(jìn)的階段，缺少自主知名品牌，在市場(chǎng)上沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)力，這也同時(shí)預(yù)示著國(guó)內(nèi)物理氣相 沉積技術(shù)的發(fā)展空間?？傮w技術(shù)的差距導(dǎo)致國(guó)外公司的壟斷，在這方面應(yīng)該加大投資，研發(fā) 具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高性能設(shè)備與產(chǎn)品提高競(jìng)爭(zhēng)力。2多弧離子鍍多弧離子鍍?cè)砑肮に嚩嗷‰x子鍍的蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)由水冷陰極、磁場(chǎng)線圈、引弧電極等組成。陰極材料即是鍍膜 材

16、料，在10-1 10 Pa真空條件下，接通電源并使引弧電極與陰極瞬間接觸，在引弧電極離 開(kāi)的瞬間，由于導(dǎo)電面積的迅速縮小，電阻增大，局部區(qū)域溫度迅速升高，致使陰極材料熔 化，形成液橋?qū)щ?，最終形成爆發(fā)性的金屬蒸發(fā)，在陰極表面形成局部的高溫區(qū)，產(chǎn)生等離 子體，將電弧引燃，低壓大電流的電源維持弧光放電的持續(xù)進(jìn)行。在陰極表面形成許多明亮 的移動(dòng)變化的小點(diǎn)，即陰極弧斑。陰極孤斑是存在于極小空間的高電流密度、高速變化的現(xiàn) 象。陰極弧斑的尺寸極小，有關(guān)資料測(cè)定為 1 100卩m電流密度可高達(dá)105 10 7A / cm2。 每個(gè)弧斑存在的時(shí)間很短，在其爆發(fā)性地離化發(fā)射離子和電子，將陰極材料蒸發(fā)后，在陰極

17、表面附近，金屬離子形成空間電荷，又建立起弧斑產(chǎn)生的條件，產(chǎn)生新的弧斑，眾多的弧斑 持續(xù)產(chǎn)生,保持了電弧總電流的穩(wěn)定。陰極材料以每一個(gè)弧斑 60%90%勺離化率蒸發(fā)沉積 于基片表面形成膜層。陰極弧斑的運(yùn)動(dòng)方向和速度受磁場(chǎng)的控制，適當(dāng)?shù)拇艌?chǎng)強(qiáng)度可以使弧 斑細(xì)小分散，對(duì)陰極表面實(shí)現(xiàn)均勻刻蝕。多弧離子鍍的基本原理就是把金屬蒸發(fā)源（靶源）作為陰極，通過(guò)它與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)并離化，形成空間等離子體，對(duì) 工件進(jìn)行沉積鍍覆。多弧離子鍍工藝特點(diǎn)多弧離子鍍是20世紀(jì)70年代開(kāi)始研究的一種新的物理氣相沉積工藝， 這種工藝的特點(diǎn) 如下：1）陰極電弧蒸發(fā)源不產(chǎn)生溶池，可以任意設(shè)置于鍍膜室適當(dāng)?shù)奈恢?，?/p>

18、可以采用多個(gè) 電弧蒸發(fā)源，提高沉積速率使膜層厚度均勻，并可簡(jiǎn)化基片轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)。2）金屬離化率高，可達(dá) 80%上，因此鍍膜速率高，有利于提高膜基附著性和膜層的 性能。3）弧多用。電弧既是蒸發(fā)源和離化源又是加熱源和離子濺射清洗的離子源。4）沉積速度快，繞鍍性好。5 ）入射粒子能量高，膜的致密度高，強(qiáng)度和耐磨性好。工件和膜界面有原子擴(kuò)散，因 而膜的附著力高。多弧離子鍍膜設(shè)備 多弧離子鍍?cè)O(shè)備一般比較簡(jiǎn)單，整個(gè)設(shè)備主要由真空鍍膜室、弧源、真空獲得系統(tǒng)、偏壓源 等幾大部分組成。弧源是多弧離子鍍?cè)O(shè)備的關(guān)鍵部件，現(xiàn)在國(guó)內(nèi)一般使用小弧源，直徑為 6080mm厚度為直徑的1/2。少數(shù)離子鍍膜機(jī)采用柱狀弧源設(shè)計(jì)，一臺(tái)

19、鍍膜機(jī)只裝一個(gè)柱 狀弧源于真空室中央，工件置于四周。國(guó)外有些離子鍍膜機(jī)使用大弧源， 直徑達(dá)100 mm厚 度約為直徑的1/4，一臺(tái)鍍膜機(jī)上裝有1232個(gè)弧源，待鍍工件置于真空室中央。1、目前國(guó)際上一流的PVD設(shè)備制造商有歐瑞康巴爾查斯、豪澤、蘇爾壽等歐瑞康巴爾查斯研發(fā)出擁有專利的新工藝，使用該工藝可以制備具有高硬度、熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性的氧化鋁涂層，支持層和氧化鋁層都是在低于600C的溫度下通過(guò)單一渠道生成。豪澤公司在電弧蒸發(fā)與磁控濺射技術(shù)的基礎(chǔ)上研制出系統(tǒng)設(shè)備（電弧蒸發(fā)+磁控濺射）是一款多功能研發(fā)生產(chǎn)型設(shè)備，使用該設(shè)備可制備結(jié)合強(qiáng)度高、表面光滑致密的涂層，且可 制備滲金屬DLC涂層。蘇爾壽公

20、司開(kāi)發(fā)出具有專利的 AEGD （電弧增強(qiáng)輝光放電）技術(shù)，涂層前使用該技術(shù)對(duì) 工件表面進(jìn)行清理，涂層后可獲得極好的涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度。2、國(guó)內(nèi)比較知名的多弧離子鍍膜設(shè)備廠家表1廠家明細(xì)序 號(hào)公司名稱地址1上海法德機(jī)械設(shè)備有限公司上海2上海沃家真空設(shè)備有限公司3北京丹普表面技術(shù)有限公司4北京德泰隆科技發(fā)展有限公司北京5北京隆冠科技有限公司6東莞匯成真空科技公司7東莞至成真空有限公司廣東東莞8東莞愛(ài)加真空科技公司9溫州市佳能真空電鍍?cè)O(shè)備科技有限公司浙江溫州10肇慶市振華真空機(jī)械有限公司廣東肇慶11肇慶市華泰真空設(shè)備制造有限公司12常州翔宇設(shè)備公司江蘇常州3、目前國(guó)內(nèi)廠家提供的國(guó)產(chǎn)多弧離子鍍膜設(shè)備與國(guó)

21、外廠家相比雖然具有價(jià)格優(yōu)勢(shì)，但 是技術(shù)差距還是比較明顯的，現(xiàn)在國(guó)內(nèi)的主要市場(chǎng)還是被進(jìn)口設(shè)備控制，有實(shí)力的鍍 膜生產(chǎn)廠家還是使用進(jìn)口設(shè)備，鍍膜效果好于國(guó)產(chǎn)，這也是以后國(guó)產(chǎn)設(shè)備努力的方向。隨著真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展，對(duì)設(shè)備的要求也越來(lái)越高，中國(guó)市場(chǎng)容量巨大，研制 高性能鍍膜設(shè)備以及工藝對(duì)中國(guó)真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展有很大的幫助。3多弧離子鍍技術(shù)制備銀膜多弧離子鍍?cè)O(shè)備制備銀膜的特點(diǎn)Ag具有較好的真空摩擦學(xué)性能、良好的導(dǎo)電性和對(duì)光的高反射率，因此Ag薄膜在空間技術(shù)具有較多應(yīng)用，被用作精密運(yùn)動(dòng)部件的固體潤(rùn)滑劑、太陽(yáng)能電池板組件間的互聯(lián)片和反 射鏡面等。破壞銀膜的主要因素在某些空間環(huán)境條件下，Ag薄膜可能會(huì)面臨原子

22、氧（Atomic Oxygen ，A0）的輻照， 研究表明原子氧輻照可引起Ag薄膜的氧化，氧化層的開(kāi)裂和剝落會(huì)導(dǎo)致Ag薄膜的結(jié)構(gòu)破壞 和摩擦學(xué)性能的惡化。因此，改善 Ag薄膜的耐原子氧性能，對(duì)其在空間環(huán)境的可靠應(yīng)用具 有重要意義。多弧離子鍍?cè)O(shè)備制備銀膜的改善采用多弧離子鍍膜技術(shù)可以很好的改善銀膜的特性，研究表明，薄膜的結(jié)構(gòu)對(duì)其耐氧化性能和摩擦學(xué)性能均具有明顯的影響，致密的薄膜結(jié)構(gòu)有利于提高其耐氧化和耐磨損性能。 采取低溫多弧離子鍍膜技術(shù)鍍銀薄膜， 可明顯改變單相薄膜的組織結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致薄膜結(jié)構(gòu)由柱 狀晶向細(xì)密球型晶的轉(zhuǎn)變。采取低溫多弧離子鍍膜技術(shù)可以增加銀膜的附著力、銀膜的結(jié)構(gòu) 密度、銀膜的均勻性

23、，從而能夠改善氧原子對(duì)銀膜的破壞。4生產(chǎn)成本分析成本分析的目的成本分析報(bào)告是企業(yè)在生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)活動(dòng)中，對(duì)構(gòu)成產(chǎn)品（商品）成本的諸多因素進(jìn)行量化 分析，即按一定的方法，利用成本計(jì)劃、成本核算和其他有關(guān)資料，揭示成本計(jì)劃完成情況， 查明成本升降的原因，尋求降低成本的途徑和方法，以求控制實(shí)際成本支出，以實(shí)現(xiàn)用最少 的消耗取得最大經(jīng)濟(jì)效益的研究分析報(bào)告。成本分析是成本管理的重要組成部分，是尋求降 低成本途徑的重要的手段。成本分析可以大大提高企業(yè)的管理水平，從而為降低生產(chǎn)成本、 提高企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益。成本分析的根本任務(wù)成本分析報(bào)告的根本任務(wù)是為了挖掘降低成本潛力，促使企業(yè)以較少的勞動(dòng)消耗生產(chǎn)出 更多更好的使用價(jià)

24、值，實(shí)現(xiàn)更快的價(jià)值增值。因而，成本分析的核心就是圍繞著提高經(jīng)濟(jì)效 益，不斷挖掘降低成本的潛力，充分認(rèn)識(shí)未被利用的勞動(dòng)和物資資源，尋找利用不完善的部 分和原因，發(fā)現(xiàn)進(jìn)一步提高利用效率的可能性，以便從各方面揭露矛盾，找出差距，制定措 施，使企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益愈來(lái)愈好。影響產(chǎn)品成本的主要因素：建廠時(shí)帶來(lái)的固有因素1廠房建設(shè)的固定投資；2設(shè)備購(gòu)買(mǎi)的固定投資；3、生產(chǎn)保障配套設(shè)施的固定投資；4、支付周邊生產(chǎn)服務(wù)單位的投入；宏觀經(jīng)濟(jì)因素1直接原材、輔助材料成本的浮動(dòng)；2、直接人工成本的變動(dòng)；3、生產(chǎn)運(yùn)營(yíng)制造費(fèi)用的改變；4、產(chǎn)品市場(chǎng)價(jià)格變動(dòng)；企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理因素1管理企業(yè)運(yùn)營(yíng)費(fèi)用的支出；2銷(xiāo)售產(chǎn)品過(guò)程費(fèi)用的支出；3、

25、財(cái)務(wù)管理運(yùn)營(yíng)費(fèi)用支出；生產(chǎn)因素1最大生產(chǎn)力資源利用的比例；2、生產(chǎn)設(shè)備維護(hù)、更新的費(fèi)用支出；3、生產(chǎn)不良品的費(fèi)用消耗；4、生產(chǎn)技術(shù)成本的投入；其他影響因素5多弧離子鍍工藝問(wèn)題分析和改進(jìn)方向由于影響涂層質(zhì)量的因素多而復(fù)雜， 因此研究工藝參數(shù)與涂層性能指標(biāo)之間的關(guān)系，以實(shí)現(xiàn)涂層性能預(yù)測(cè)與工藝優(yōu)化設(shè)計(jì)，始終是研究人員致力的目標(biāo)。國(guó)內(nèi)外研究表明多弧離 子鍍的主要工藝參數(shù)有：基體沉積溫度、反應(yīng)氣體壓強(qiáng)與流量、靶源電流、基體負(fù)偏壓、 基體沉積時(shí)間等?；w沉積溫度基體沉積溫度對(duì)涂層的生成、生長(zhǎng)及涂層的性能產(chǎn)生直接的影響。 根據(jù)吉布斯的吸附原理可 知，溫度越高基體對(duì)氣體雜質(zhì)的吸附越少。因此，一般說(shuō)來(lái)，基體沉積

26、溫度高，有利于涂層 的生成、生長(zhǎng)，增大沉積速率；也有利于提高涂層與基體的附著力，使涂層晶粒長(zhǎng)大，表面 平整光亮。但溫度太高，會(huì)引起晶 粒粗大，強(qiáng)度和硬度下降。反應(yīng)氣體壓強(qiáng)與流量反應(yīng)氣體的壓強(qiáng)與流量大小直接影響涂層的化學(xué)成分、組織結(jié)構(gòu)及性能。靶源電流弧斑的數(shù)目與靶源電流成正比，陰極斑點(diǎn)的數(shù)目隨著靶源電流的增大而增加，較多的弧斑可 以使燃燒的穩(wěn)定性增加。在一定的靶源電流范圍內(nèi)，薄膜厚度隨靶源電流的升高而增加，通 過(guò)對(duì)靶源電流大小的控制可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜制備厚度的控制。但是對(duì)于一定的靶材，增加靶源 電流意味著靶材整體溫度的升高，產(chǎn)生的液滴會(huì)隨之增多，而且液滴的尺寸也會(huì)增大，這些 液滴大大降低了涂層的各種性能。一般而言，用于裝飾涂層時(shí)靶源電流應(yīng)小些，而對(duì)刀