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文檔簡介

1、多晶硅精餾單元培訓(xùn)資料培訓(xùn)內(nèi)容² 精餾簡介² 物料介紹² 原理及設(shè)備² 塔器及工藝流程² 操作² 安全1、精餾簡介1.1精餾技術(shù)是現(xiàn)代傳質(zhì)理論在化學(xué)、化工過程工業(yè)分離領(lǐng)域中的一項關(guān)鍵共性技術(shù),廣泛應(yīng)用于石油煉制、石油化工、化學(xué)工業(yè)、精細(xì)化學(xué)品、化肥工業(yè)、空氣分離、原子能化工、環(huán)境保護(hù)、中藥現(xiàn)代化和天然產(chǎn)物分離等產(chǎn)品和工業(yè)過程。在提高產(chǎn)品的純度和收益率、降低生產(chǎn)過程的能耗和控制環(huán)境污染方面具有重要作用。對顯著提升傳統(tǒng)化工裝置技術(shù)水平、推動行業(yè)科技進(jìn)步具有重要意義。1.2精餾單元簡介1.2.1多晶硅生產(chǎn)的工藝過程:多晶硅生產(chǎn)的工藝過程簡單

2、概括為:三個化學(xué)反應(yīng),一系列的分餾提純,使冶金硅成為高純度多晶硅的除雜過程。在半導(dǎo)體硅的生產(chǎn)中,三氯氫硅或四氯化硅提純是一個關(guān)鍵工序。TCS合成工序產(chǎn)品有SiHCl3(TCS),SiCl4(STC),SiH2Cl2(DCS),CH3SiHCl2(MDCS), BCl3,PCl3,PCl5,AlCl3,F(xiàn)eCl2,其中的雜質(zhì)(如硼),在物理提純過程中很難除掉,對于其他雜質(zhì),物理提純也要耗費更多的時間和費用方能除去。其中有:精餾、萃取、固體吸附、部分水解、絡(luò)合等。但在工業(yè)生產(chǎn)中,目前應(yīng)用最為廣泛的是精餾提純,下圖是工藝技術(shù)路線圖。1.2.2高純概念 多晶硅生產(chǎn)是一個由Si生產(chǎn)Si的提純過程,把99

3、.5%的Si變成六到十個“9”的過程。產(chǎn)品純度高,生產(chǎn)所用原、副材料要求純度高,生產(chǎn)工藝過程中的設(shè)備、管道等給介質(zhì)帶入的雜質(zhì)量要少,安裝、清洗要求相應(yīng)要嚴(yán)格得多,目的都是為了追求一個“純”字。通常用百分比含量來表示物質(zhì)的純度,半導(dǎo)體行業(yè)常用“PPm”“PPb”“ PPt” 表示物質(zhì)的純度,其換算關(guān)系為:PPm雜質(zhì)含量為10-6;其純度為99.9999% 6個“9”PPb雜質(zhì)含量為10-9;其純度為99.9999999% 9個“9” PPt雜質(zhì)含量為10-12;其純度為99.9999999999% 11個“9”2.0物料介紹精餾工序主要涉及到的物料有SiHCl3(TCS),SiCl4(STC),

4、SiH2Cl2(DCS),CH3SiHCl2(MDCS), BCl3,PCl3和聚氯硅烷等。2.1 SiHCL3理化性質(zhì) 名稱數(shù)值名稱數(shù)值分子量135.45含硅量20.7液體密度(31.5)1.318閃點()-28氣體密度(31.5)0.0055空氣自燃點()175熔點()-128蒸發(fā)潛熱(kcal/mol)6.36沸點()31.5比熱(kcal/kg.)0.23(液)0.132(汽) 三氯氫硅在常溫常壓下為具有刺激性異味易流動易揮發(fā)的無色透明液體,在空氣中極易燃燒,在-18以下也有著火的危險,遇明火則強烈燃燒,燃燒時發(fā)出紅色火焰和白色煙,生成二氧化硅、氯化氫和氯氣。SiHCl3+O2SiO2

5、+HCl+Cl2。三氯氫硅的蒸汽能與空氣形成濃度范圍很寬的爆炸性混合氣,受熱時引起猛烈的爆炸。三氯氫硅遇潮氣時發(fā)煙,與水劇烈反應(yīng)生成HCI;與氧化性物質(zhì)接觸時產(chǎn)生爆炸性反應(yīng)。存放液態(tài)三氯氫硅的容器受到強烈撞擊時會著火。無水狀態(tài)下三氯硅烷對鐵和不銹鋼不腐蝕,但是在有水分存在時腐蝕性極強,可腐蝕大部分金屬,有毒性(見安全部分)。2.2 SiCl4理化性質(zhì)名稱數(shù)值名稱數(shù)值分子量169.2含硅量16.55液體密度(g/cm3)1.41閃點()-9氣體密度(g/cm3)0.0063空氣自燃點()不可燃熔點()-70蒸發(fā)潛熱(kcal/mol)6.96沸點()57.6比熱J/ kg.(20,液體):

6、60;   79505    無色透明液體。有窒息氣味,對皮膚有腐蝕。潮濕受氣中水解而成硅酸和氯化氫,同時產(chǎn)生白煙。溶于四氯化碳、四氯化鈦、四氯化錫及有機溶劑。能與水發(fā)生激烈水解作用,也能與醇類起作用。干燥空氣中加熱生成氧氯化硅。與氫及其他還原劑作用生成三氯甲硅烷和其他氯代硅烷,與胺、氨迅速反應(yīng)生成氮化硅聚合物,與醇反應(yīng)生成硅酸酯類,與有機金屬化合物(如鋅、汞、鈉)反應(yīng)生成有機硅烷,有毒性(見安全部分)。    應(yīng)用領(lǐng)域  有機工業(yè)主要用于合成有機桂化合物如有機硅樹脂、有機硅橡膠、耐熱墊襯材料、

7、有機硅油、有機硅單體、硅酸酯類等。電子工業(yè)用于制取半導(dǎo)體材料硅。冶金工業(yè)用于制造耐腐蝕硅鐵。軍事工業(yè)用于制造煙幕劑。涂料工業(yè)用于制造高溫絕緣漆。鑄造工業(yè)用作說模劑。另外,還用于制造各種無機進(jìn)化合物和用作分析試劑等。2.3 SiH2Cl2理化性質(zhì)在室溫和大氣壓力下是一種高可燃、腐蝕性有毒氣體。于21.1和大氣壓力下氣體相對密度(空氣=1)3.48;氣體密度4.228kg/m3;液體密度1235kg/m3(21.1),1188kg/m3(40.6)。沸點8.2。熔點-122。在空氣中的可燃限4.198.8(體積);自燃溫度58。與水或水氣接觸迅速水解產(chǎn)生二氧化硅和鹽酸,有毒性(見安全部分)。2.4

8、 MDCS分子式CH3Cl2SiH,分子量 115.04,無色液體,具有刺鼻氣味,易潮解;蒸汽壓 53.32kPa(23.7);熔點-90.6;沸點41.9;溶解性:溶于苯、醚;密度:相對密度(水=1)1.10;相對密度(空氣=1)4.0;穩(wěn)定性:穩(wěn)定;危險標(biāo)記 10,7,20(遇濕易燃物品);主要用途:用于硅酮化合物的制造,有毒性(見安全部分)。2.5 聚氯硅烷具體性質(zhì)不明聚硅烷:分子式:SiR2n性質(zhì):主鏈為直接互相連接的Si-Si原子,硅原子上帶有R基的化合物。有線型、環(huán)狀和梯型等構(gòu)型,結(jié)晶性較強。Si-Si鍵的鍵能低、易水解和鹵化。聚二甲基硅烷是用二甲基二氯硅烷滴到分散有鈉微粒的甲苯中

9、制得。不溶不熔的聚二甲基硅烷于400高溫下加B(OSiCl3)3轉(zhuǎn)位成可熔的聚碳硅烷作為硅碳纖維前驅(qū)體。聚二苯基硅烷可作光致抗蝕劑。由二甲基二氯硅烷與苯基甲基二氯硅烷共聚的聚硅烷可以生成可溶可熔的聚硅烷,故可紡絲和成膜。2.6 BCL3 分子量 117.19無色發(fā)煙液體或氣體,有強烈臭味,易潮解;蒸汽壓101.32kPa(12.5);熔點107.3;沸點12.5;溶解性:溶于苯、二硫化碳;密度:相對密度(水=1)1.43;相對密度(空氣=1)4.03;穩(wěn)定性:穩(wěn)定;屬不燃?xì)怏w;主要用途:用作半導(dǎo)體硅的摻雜源或有機合成催化劑,還用于高純硼或有機硼的制取。有毒性(見安全部分)。2.7 PCl3分子

10、量 137.33    無色澄清易流動的發(fā)煙液體。密度1574gcm3。熔點-112。沸點755。有毒。易燃。有腐蝕勝,易刺激粘膜。潮濕空氣中或水中能迅速分解。如混有微量游離黃磷存在時,則顏色帶黃而且混蝕。可與醚、四氯甲烷、苯和二硫化碳以任何比例混合,遇乙醇和水均能水解成亞磷酸和氯化氫,發(fā)生白煙。與氧作用能生成氧氯化磷,與硫作用能生成硫氯化磷,與氯作用能生成五氯化磷,與有機物接觸會著火燃燒。    應(yīng)用主要用于制造敵百蟲、甲胺磷、稻瘟凈等有機農(nóng)藥原料。醫(yī)藥工業(yè)用于生產(chǎn)磺胺嘧啶(SD)及二氯二砜。染料工業(yè)用于生產(chǎn)色酚類的縮合劑。化學(xué)工業(yè)

11、用作制造三氯硫磷、氧氯化磷、亞磷酸及酯類的原料。此外,還用作珠光金屬的墊層、氯化劑、催化劑及磷的溶劑。有毒性(見安全部分)。3.0精餾原理3.1需掌握內(nèi)容(1)雙組分理想物系的汽液平衡,拉烏爾定律、汽液相平衡圖、揮發(fā)度與相對揮發(fā)度定義及應(yīng)用、相平衡方程及應(yīng)用;(2)精餾分離的過程原理及分析;3.2理想溶液的氣液相平衡汽液相平衡,是指溶液與其上方蒸汽達(dá)到平衡時氣液兩相間各組分組成的關(guān)系。理想溶液的汽液相平衡服從拉烏爾(Raoult)定律。 因此對含有A、B組分的理想溶液可以得出: PA=PAoxA (3-1a) PB=PBoxB= PBo(1-xA) (3-1b)式中: PA, PB 溶液上方A

12、和B兩組分的平衡分壓,Pa;PAo,PBo 同溫度下,純組分A和B的飽和蒸汽壓,Pa; xA ,xB 混合液組分A和B的摩爾分率。理想物系氣相服從道爾頓分壓定律,既總壓等于各組分分壓之和。對雙組分物系: P=PA+PB (3-2)式中: P 氣相總壓,Pa ;PA和PB A,B組分在氣相的分壓,Pa。根據(jù)拉烏爾定律和道爾頓分壓定律,可得泡點方程: (3-3)式(3-3)稱為泡點方程,該方程描述平衡物系的溫度與液相組成的關(guān)系。可得露點方程式: (3-4)式(3-4)稱為露點方程式,該方程描述平衡物系的溫度與氣相組成的關(guān)系。在總壓一定的條件下,對于理想溶液,只要溶液的飽和溫度已知,根據(jù)A,B組分的

13、蒸氣壓數(shù)據(jù),查出飽和蒸汽壓PA0, PB0, 則可以采用式(3-3)的泡點方程確定液相組成xA,采用式(3-4)的露點方程確定與液相呈平衡的氣相組成yA。圖3-1 苯-甲苯體系的T-x圖圖3-2 苯-甲苯體系的相平衡曲線t-x-y圖即溫度組成圖。圖中有兩條曲線,曲線為飽和液體線(或泡點線)。曲線為飽和蒸氣線或露點線,可由露點方程得到。這兩條曲線將圖形分成三個區(qū)域:分別為液相區(qū),氣液共存區(qū)和過熱蒸氣區(qū)。氣液相平衡圖,在一定外壓下,氣相組成y和與之平衡的液相組成x之間的關(guān)系,稱氣液相平衡圖。y-x圖可通過t-x-y圖作出。 3.3 相對揮發(fā)度3.3.1揮發(fā)度:氣相中某一組分的蒸汽分壓和與之平衡的液

14、相中的該組份摩爾分率之比,以符號表示。對于A和B組成的雙組分混合液有: (3-5) (3-6)式中: 組份A,B的揮發(fā)度; 汽液平衡時,組分A,B在氣相中的分壓; 汽液平衡時,組分A,B在液相中的摩爾分率。在理想溶液中,各組分的揮發(fā)度在數(shù)值上等于其飽和蒸汽壓。3.3.2相對揮發(fā)度相對揮發(fā)度:溶液中兩組分揮發(fā)度之比,以符號表示。 (3-7)或?qū)懗桑?(3-8)相對揮發(fā)度值的大小,表示氣相中兩組分的濃度比是液相中濃度比的倍數(shù)。所以值可作為混合物采用蒸餾法分離的難易標(biāo)志, 若大于1, y>x,說明該溶液可以用蒸餾方法來分離, 越大, A組分越易分離;若=1,則說明混合物的氣相組分與液相組分相等

15、;則普通蒸餾方式將無法分離此混合物;<1, 則重新定義輕組分與重組分,使 >1。對于二元混合物,當(dāng)總壓不高時,可得相平衡方程: (3-9)對于理想溶液,因其服從拉烏爾定律,故有: (3-10)即理想溶液的相對揮發(fā)度等于同溫度下兩純組分的飽和蒸汽壓之比。 3.3.3平均相對揮發(fā)度m對于精餾塔,由于每塊塔上x,y組成不同,溫度不同,也會有所變化,因此對于整個精餾塔,一般采用相對揮發(fā)度的平均值,即平均相對揮發(fā)度來表示,以符號m表示。即: (3-11)式中:頂:塔頂?shù)南鄬]發(fā)度; 釜塔釜的相對揮發(fā)度。3.3.4 精餾原理3.3.4.1多次部分汽化和多次部分冷凝根據(jù)t-x-y圖,在恒壓條件下

16、,通過多次部分汽化和多次部分冷凝,最終可以獲得幾乎純態(tài)的易揮發(fā)組分和難揮發(fā)組份,但得到的氣相量和液相量卻越來越少。可采用如圖3-3所示的多次部分汽化和多次部分冷凝流程來實現(xiàn)。但若采用如圖3-3所示的流程用于工業(yè)生產(chǎn),則會帶來許多實際困難,如流程過于龐大,設(shè)備費用極高;部分汽化需要加熱劑,部分冷凝需要冷卻劑,能量消耗大;純產(chǎn)品的收率很低。圖33 多次部分氣化多次部分冷凝示意圖圖34有回流的多次部分汽化、冷凝示意圖 為了克服上述缺點,采用圖3-4所示帶回流的流程,在實際工業(yè)裝置中,精餾流程是通過板式或填料精餾塔來實現(xiàn)的。3.3.4.2精餾過程工業(yè)生產(chǎn)中常常采用圖3-5所示的流程進(jìn)行操作。連續(xù)精餾裝

17、置主要包括精餾塔,蒸餾釜(或稱再沸器)等。精餾塔常采用板式塔,也可采用填料塔。加料板以上的塔段,稱為精餾段;加料板以下的塔段(包括加料板),稱為提餾段。連續(xù)精餾裝置在操作過程中連續(xù)加料,塔頂塔底連續(xù)出料,故是一穩(wěn)定操作過程。塔板的作用是提供氣液分離的場所;每一塊塔板是一個混合分離器,并且足夠多的板數(shù)可使各組分較完全分離。因此每一塊塔板是一個混合分離器,經(jīng)過若干塊塔板上的傳質(zhì)后(塔板數(shù)足夠多),即可達(dá)到對溶液中各組分進(jìn)行較完全分離的目的?;亓鞯闹饕饔镁褪翘峁┎黄胶獾钠簝上?,而構(gòu)成汽液兩相接觸傳質(zhì)的必要條件。注意:工業(yè)用精餾塔內(nèi)由于塔頂?shù)囊合嗷亓骱退椎钠嗷亓?,為每塊塔板提供了汽、液來源。4

18、.0精餾單元工藝流程介紹4.1本單元工藝流程和上、下道工序關(guān)系精餾單元的來料來自儲罐區(qū)V1400單元,粗硅料先進(jìn)入一塔(AK100)進(jìn)行分離,對于本流程來講:二塔(AK200)頂出的是低沸點物HEC(二氯二氫硅、三氯化硼),五塔(AK500)底、三塔(AK300)底出的是高沸點物L(fēng)EC(甲基氯硅烷、三氯化磷),HEC和LEC直接去尾氣處理V9100單元進(jìn)行處理,二塔(AK200)底和五塔(AK500)頂出的是純的TCS,三塔(AK300)頂出的是純的STC,經(jīng)提純后的TCS和STC又回到儲罐區(qū)V1400單元儲存,最后進(jìn)入V1500單元。 與精餾單元有直接聯(lián)系的是V1400單元和V9100單元,

19、但這兩個單元不會影響精餾產(chǎn)物的質(zhì)量,一旦V1400單元停止來料或進(jìn)料,精餾仍可進(jìn)行全回流操作;V9100單元同樣不會對精餾單元造成太大影響,即使停車精餾單元可進(jìn)行全回流操作。V1200單元產(chǎn)物質(zhì)量指標(biāo)只要在一定范圍內(nèi)就不會對精餾生產(chǎn)造成太大影響,在生產(chǎn)上,即使V1200單元出現(xiàn)短期的停車,精餾仍可進(jìn)行生產(chǎn);精餾產(chǎn)物的質(zhì)量對V1500單元影響很大,但在生產(chǎn)上,由于儲罐區(qū)的存在,兩個單元相互影響較小,即使在一定時間內(nèi)的短期停車也不會出現(xiàn)問題。4.2工藝介紹流程圖如下圖1-1所示圖1-1,精餾工藝流程簡圖進(jìn)塔物料關(guān)鍵組成代號沸點()SiH2Cl2 DCS12BCl3 HEC12.5SiHCl3 TC

20、S31.5甲基二氯氫硅MDCS-34SiCl4 STC57.6PCl3 LEC75.55.0本單元設(shè)備簡介本單元共有設(shè)備57臺,其中塔器設(shè)備6臺,換熱器20臺,回流液緩沖罐6個,料液泵24臺,氯硅烷回收槽1臺。調(diào)節(jié)閥共有47處,連鎖儀表69塊,分別被用來調(diào)節(jié)進(jìn)料、回流、塔頂壓力、塔底蒸汽量和氮氣流量;切斷閥18處,電機開關(guān)24處,相連的通斷狀態(tài)顯示儀表共54塊,分別用來指示進(jìn)料管狀態(tài)、蒸汽管線通斷狀態(tài)、泵的開關(guān)狀態(tài)和速度報警;其它為溫度、壓力和液位顯示、記錄、報警儀表,其中溫度顯示儀表最多為147塊。(設(shè)備具體情況見設(shè)備儀器儀表一覽表,另附)附圖:另附。6.工藝操作要點AB100的液位高度是通

21、過設(shè)定餾出液流量來控制的,流量的設(shè)定通過帶有控制閥的內(nèi)部控制回路實現(xiàn)。精餾塔AK100回流比設(shè)定值是一個固定值,該值表示回流液流量與進(jìn)塔物料流量成一定的比例。此外,萬一回流液是過冷的,回流液流速的設(shè)定值要根據(jù)回流液溫度進(jìn)行設(shè)定,(模糊前饋控制)。在氣體冷卻器AW110的廢氣出口管道上,安裝有控制閥保證塔頂壓力為2 barg。在氣體冷卻器AW110和壓力控制閥之間,連接了氮氣管道,這是為避免上游工藝出現(xiàn)低壓時可以通過通入氮氣進(jìn)行調(diào)解。精餾塔AK100底部的釜液通過兩臺并聯(lián)泵AP150A和AP150B抽出。流量設(shè)定值可以通過用來控制塔釜液位高度的外部控制回路給定,也可以通過一個帶有控制閥的內(nèi)部控制

22、回路來實現(xiàn)。釜液如圖1所示,被用作MDCS精餾塔AK400的進(jìn)料料液。蒸發(fā)是通過一臺自然循環(huán)蒸發(fā)器AW150來實現(xiàn)的。循環(huán)管路與輸送塔釜產(chǎn)物的管路完全分離。這樣,精餾塔AK100的塔釜有第二個流體出口,連接著蒸發(fā)器AW150的進(jìn)口,部分料液被蒸發(fā)。蒸發(fā)器的的出口物料呈兩相,它會重新流回塔釜,其中氣相流向塔的上部,而液相則向下流出。蒸發(fā)器AW150通過流量一定、壓力為9 barg的蒸汽進(jìn)行加熱,蒸汽在蒸發(fā)器夾套內(nèi)完全冷凝。對蒸汽流量的控制與對傳熱量的控制是等效的,進(jìn)而實現(xiàn)對精餾塔內(nèi)蒸汽流量的控制。為了在使釜液產(chǎn)物組成為所期望的組分,也就是為保證STC的純度,第75層塔板的溫度控制是通過調(diào)節(jié)設(shè)定的

23、蒸汽流速經(jīng)外部回路控制實現(xiàn),蒸汽流量的設(shè)定值則是通過帶有控制閥的內(nèi)部控制回路來實現(xiàn)。因此所期望的塔釜產(chǎn)物的純度間接地由所提供給再沸器的熱量來控制??刂茰囟人x的塔板還可以選擇(靈敏板)的上一層或下一層塔板,但同時亦要安裝相應(yīng)的溫度測量裝置附PID圖,結(jié)合操作規(guī)程7.安全操作7.1三氯氫硅毒性介紹毒性:最高容許濃度:1mg/m3三氯氫硅的蒸氣和液體都能對眼睛和皮膚引起灼傷,吸入后刺激呼吸道粘膜引起各種癥狀。潛在的健康危害眼睛:導(dǎo)致眼睛灼燒感。導(dǎo)致發(fā)紅,疼痛皮膚:導(dǎo)致皮膚灼燒。導(dǎo)致發(fā)紅生疼。迅速通過皮膚吸收攝入:吞下有害。導(dǎo)致腸胃大片灼燒??赡軐?dǎo)致灼燒感,咳嗽,氣喘,喉炎,呼吸短促以及頭疼吸入:吸

24、入有害。導(dǎo)致呼吸系統(tǒng)大面積化學(xué)燒傷。吸入是致命的,會帶來痙攣,燃燒,喉部及支氣管水腫,化學(xué)肺氣腫??赡軐?dǎo)致灼燒感,咳嗽,氣喘,喉炎,氣短,頭疼,惡心和嘔吐。急救措施眼睛:立即使用大量清水沖洗眼睛至少15分鐘,不斷翻動上下眼瞼。盡快就醫(yī)。皮膚:盡快就醫(yī)。如果水反應(yīng)產(chǎn)品進(jìn)入皮膚,不能碰水。滲入的產(chǎn)品需要用輕油覆蓋。攝入:盡快就醫(yī)。不要引導(dǎo)嘔吐。如果有意識,清理口腔病喝2-4大杯牛奶或者水。吸入:馬上轉(zhuǎn)移到新鮮空氣區(qū)。沒有呼吸的話進(jìn)行人工呼吸。如果呼吸困難,供氧。就醫(yī)。醫(yī)師要注意:對癥進(jìn)行救助,設(shè)備齊全。消防措施火災(zāi)時可用二氧化碳、干石粉、干砂,禁止用水及泡沫。廢氣可用水或堿液吸收。7.2四氯化硅毒

25、性四氯化硅為無色或淡黃色發(fā)煙液體,有刺激性氣味,易潮解。毒性 LC50 (吸入,老鼠試驗): 60.7mg/l /4 h LD50 ( 口服,老鼠試驗): 238mg/kg 潛在的健康危害吸入蒸汽或浮質(zhì)后:黏膜灼燒,咳嗽,呼吸困難,肺水腫皮膚: 灼燒眼睛: 灼燒,有失明的危險!吞入:嘴,喉嚨,食管及腸胃系統(tǒng)灼燒,食管和胃有穿孔的危險系統(tǒng)性效應(yīng):心血管衰竭。開始為等待時間直到病情發(fā)作急救措施吸入: 呼吸新鮮空氣,呼叫醫(yī)生。皮膚:用大量的水沖洗, 涂抹聚乙二醇400,并立即脫掉受腐蝕的衣物。眼睛:用大量的水沖洗至少10分鐘,要把眼瞼睜大。同時立即呼叫眼科醫(yī)生。吞下:讓當(dāng)事人喝下大量的水(如需要則喝

26、下幾升水),避免嘔吐(因為有穿孔的危險)。立即呼叫醫(yī)生。不要試著中和。消防措施合適的滅火媒質(zhì): 粉末不能使用的滅火媒質(zhì):水、泡沫特殊危險性:不易燃。遇火會釋放危害性氣體,遇火會產(chǎn)生氯化氫。消防用的特殊保護(hù)設(shè)備:沒有設(shè)備齊全的呼吸裝備時不要停留在危險區(qū)域。為了避免與皮膚接觸,請保持一個安全距離并且穿合適的防護(hù)服。其它信息:用水淋洗法來洗滌釋放的氣體。防止淋洗后的酸水進(jìn)入地表水及地下水。7.3二氯二氫硅7.47.5三氯化磷健康危害: 三氯化磷在空氣中可生成鹽酸霧。對皮膚、粘膜有刺激腐蝕作用。短期內(nèi)吸入大量蒸氣可引起上呼吸道刺激癥狀,出現(xiàn)咽喉炎、支氣管炎,嚴(yán)重者可發(fā)生喉頭水腫致窒息、肺炎或肺水腫。皮

27、膚及眼接觸,可引起刺激癥狀或灼傷。嚴(yán)重眼灼傷可致失明。慢性影響:長期低濃度接觸可引起眼及呼吸道刺激癥狀??梢鹆锥拘钥谇徊?。  環(huán)境危害: 對環(huán)境有危害,對水體可造成污染。 燃爆危險: 本品不燃,具強腐蝕性、強刺激性,可致人體灼傷。 急救措施 皮膚接觸: 立即脫去污染的衣著,立即用清潔棉花或布等吸去液體。用大量流動清水沖洗。就醫(yī)。 眼睛接觸: 立即提起眼瞼,用大量流動清水或生理鹽水徹底沖洗至少15分鐘。就醫(yī)。 吸入: 迅速脫離現(xiàn)場至空氣新鮮處。保持呼吸道通暢。如呼吸困難,給輸氧。如呼吸停止,立即進(jìn)行人工呼吸。就醫(yī)。 食入: 用水漱口,無腐蝕癥狀者洗胃。忌服油類。就

28、醫(yī)。 附:設(shè)備儀器一覽表:(1)精餾塔位號名稱塔徑(mm)塔總高(mm)塔板數(shù)板間距(mm)靈敏板AK100TCS/STC 分離塔1000511858535075AK200TCS提純塔1100580549935015AK300STC提純塔800510809435083AK400MDCS分離塔800370806425026AK500TCS/MDCS 分離塔80050996118250塔釜(或108)AK120尾氣精餾塔20004428068350需確認(rèn)(2)換熱器位號名稱換熱介質(zhì)設(shè)備尺寸(mm)殼體管束AW100TCS/STC分離塔冷凝器TCS冷水4499 x Ø 600AW110AK100精餾塔二級冷凝器不凝氣體冷水3482 x Ø 219AW150TCS/STC 分離塔再沸器蒸汽STC5074x

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