EDI設(shè)備組件的清洗及維護(hù)

1、EDI 設(shè)備組件的清洗及維護(hù)EDI 設(shè)備 ,EDI 裝置 ,EDI 系統(tǒng)注意事項(xiàng)：1. 在操作和維護(hù)坎貝爾 TM EDI 系統(tǒng)時(shí)必須始終遵守使用手冊(cè)中的有關(guān)規(guī)定2. 該使用手冊(cè)中文版與英文版有分歧時(shí)以英文版為準(zhǔn)3. 必須完全理解本手冊(cè)內(nèi)容或經(jīng)過(guò)相關(guān)技術(shù)培訓(xùn)才能操作坎貝爾 TM EDI 系統(tǒng)4. 對(duì)于不符合本手冊(cè)要求所造成的損失，北京易蒂艾公司不承擔(dān)任何責(zé)任5. 坎貝爾 TMEDI 模塊在使用期間出現(xiàn)異?，F(xiàn)象，用戶不得自行拆裝，應(yīng)立即通知售后服務(wù) 商6. 我們保留不斷改進(jìn)產(chǎn)品的權(quán)利，如有變動(dòng)恕不另行通知 離子交換膜和離子交換樹脂的工作原理相近 , 可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離 子

2、透過(guò)，不允許陽(yáng)離子透過(guò) ; 而陽(yáng)膜只允許陽(yáng)離子透過(guò)，不允許陰離子透過(guò)。在一對(duì)陰陽(yáng)離子交 換膜之間充填混合離子交換樹脂就形成了一個(gè) EDI 單元。陰陽(yáng)離子交換膜之間由混合離子交換樹 脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。 將一定數(shù)量的 EDI 單元羅列在一起， 使陰離子交換膜和陽(yáng)離子交換 膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個(gè) EDI 單元隔開，形成濃水室。 在給定的直流電壓的推動(dòng)下， 在 淡水室中，離子交換樹脂中的陰陽(yáng)離子分別在電場(chǎng)作用下向正 / 負(fù)極遷移，并透過(guò)陰陽(yáng)離子交換 膜進(jìn)入濃水室， 同時(shí)給水中的離子被離子交換樹脂吸附而占據(jù)由于離子電遷移而留下的空位。 事 實(shí)上離子的遷移和吸附是同時(shí)并連續(xù)發(fā)生的。 通過(guò)這

3、樣的過(guò)程， 給水中的離子穿過(guò)離子交換膜進(jìn) 入到濃水室被去除而成為除鹽水。帶負(fù)電荷的陰離子 （ 例如 OH-、Cl-） 被正極 （+） 吸引而通過(guò)陰離子交換膜，進(jìn)入到鄰近的濃水 室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到鄰近的陽(yáng)離子交換膜， 而陽(yáng)離子交換不允許其通過(guò)， 這些離子即被阻隔在濃水中。淡水流中的陽(yáng)離子（例如Na+、H+）以類式的方式被阻隔在濃水中。在濃水中，透過(guò)陰陽(yáng)膜的離子維持電中性。EDI 組件電流量和離子遷移量成正比。 電流量由兩部分組成， 一部分源于被除去離子的遷移， 另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和0H-離子的遷移。在EDI組件中存在較高的電壓梯度，在其作用下，水會(huì)電解產(chǎn)生大量

4、的 H+和OH-o這些就地產(chǎn)生的H+和0H-對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生。EDI 阻件中的離子交換樹脂可以分為兩部分， 一部分稱作工作樹脂， 另一部分稱作拋光樹脂， 二者的界限稱為工作前沿。工作樹脂主要起導(dǎo)電作用，而拋光樹脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)， 而拋光樹脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的 任務(wù)。EDI 給水的預(yù)處理是 EDI 實(shí)現(xiàn)其最優(yōu)性能和減少設(shè)備故障的首要的條件。 給水里的污染物會(huì) 對(duì)除鹽組件有負(fù)面影響，增加維護(hù)量并降低膜組件的壽命。1.1 EDI 描述連電除鹽續(xù) （EDI ， Electrodeionizatio或 CDI， Continuo

5、us Electrodeionization），是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽(yáng)離子， 同時(shí)這些被吸附的離子又在直流電壓的作用下，分別透過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜而被去除的過(guò)程。 通過(guò)這樣的技術(shù)更新可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)的離子交換裝置，生產(chǎn)岀電阻率高達(dá) 18 MQ ?cm的超純水。1.2 EDI 技術(shù)是的水處理工業(yè)的革命和傳統(tǒng)離子交換 （DI） 相比， EDI 所具有的優(yōu)點(diǎn)：EDI 無(wú)需化學(xué)再生EDI 再生時(shí)不需要停機(jī)提供穩(wěn)定的水質(zhì)能耗低操作管理方便，勞動(dòng)強(qiáng)度小運(yùn)行費(fèi)用低利用反滲透技術(shù)進(jìn)行一次除鹽， 再用 EDI 技術(shù)進(jìn)行二次除鹽就可以徹底使純水制造過(guò)程連續(xù) 化并避免使用酸堿再生，因此 EDI 技術(shù)給水處理

6、工業(yè)帶來(lái)了革命性的進(jìn)步。1.3 EDI 過(guò)程細(xì)節(jié)一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物，這些化合物由帶負(fù) 電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透（RO） 的處理， 98%以上的離子可以被去除。R0純水（EDI給水）電阻率的一般范圍是 0.05- 0.25 M Q ?cn,即電導(dǎo)率的范圍為20-4卩S/cm。根據(jù)應(yīng)用的情況，去離子水電阻率的范圍一般為1-18.2 MQ ?cm另外，原水中也可能包括其它微量元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅），這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中 也必須被除掉。但是反滲透過(guò)程對(duì)于這些雜質(zhì)的清除效果較差。下圖表示了 ED

7、I 的工作過(guò)程。 在圖中， 離子交換膜用豎線表示， 并標(biāo)明它們?cè)试S通過(guò)的離子 種類。這些離子交換膜是不允許水穿過(guò)的，因此，它們可以隔絕淡水和濃水水流。1.4 污染物對(duì)除鹽效果的影響對(duì) EDI 影響較大的污染物包括硬度 （鈣、鎂）、有機(jī)物、 固體懸浮物、 變價(jià)金屬離子 （鐵、錳）、 氧化劑（氯，臭氧）和二氧化碳（CO2）以及細(xì)菌。設(shè)計(jì) RO/EDI 系統(tǒng)時(shí)應(yīng)在 EDI 的預(yù)處理過(guò)程除掉這些污染物。給水中這些污染物的濃度限制 見 3.2 節(jié)。在預(yù)處理中降低這些污染物的濃度可以提高 EDI 性能。 其它有關(guān) EDI 設(shè)計(jì)策略將在本 手冊(cè)其它部分詳述。氯和臭氧會(huì)氧化離子交換樹脂和離子交換膜，引起EDI

8、組件功能減低。氧化還會(huì)使TOC含量明顯增加，污染離子交換樹脂和膜，降低離子遷移速度。另外，氧化作用使得樹脂破裂, 通過(guò)組件的壓力損失將增加。鐵和其它的變價(jià)金屬離子可對(duì)樹脂氧化起催化作用，永久地降低樹脂和膜的性能。硬度能在反滲透和 EDI 單元中引起結(jié)垢。 結(jié)垢一般在濃水室膜的表面發(fā)生， 該處 pH 值較高。 此時(shí)， 濃水入水和出水間的壓力差增加， 電流量降低。 坎貝爾 ?組件設(shè)計(jì)采取了避免結(jié)垢的措施。 不過(guò)，使入水硬度降到最小將會(huì)延長(zhǎng)清洗周期并且提高EDI 系統(tǒng)水的利用率。懸浮物和膠體會(huì)引起膜和樹脂的污染和堵塞，樹脂間隙的堵塞導(dǎo)致EDI 組件的壓力損失增加。有機(jī)物被吸引到樹脂和膜的表面導(dǎo)致其被

9、污染，使得被污染的膜和樹脂遷移離子的效率降 低，膜堆電阻將增加。二氧化碳有兩種效果。首先，CO32不口 Ca2+、Mg2+形成碳酸鹽類結(jié)垢，這種垢的形成與給水的離子濃度和pH有關(guān)。其次，由于 CO2的電荷與pH值有關(guān)，而其被 RO和EDI的去除都依賴于 其電荷，因此它的去除效率是變化的。即使較低的CO2都能顯著地降低產(chǎn)品水的電阻率。細(xì)菌導(dǎo)致藻類生長(zhǎng)和粘垢形成，使模塊的壓力損失增大，水質(zhì)下降。2.1 EDI 的應(yīng)用領(lǐng)域超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。EDI 純水也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐補(bǔ)給水，以及其它應(yīng)用超純水的工業(yè)。坎貝爾？ ED

10、I組件單件流量范圍從 2 gpm到16 gpm。每個(gè)組件都有一個(gè)推薦的流量范圍。組 件并行排列可以產(chǎn)生一個(gè)幾乎無(wú)限規(guī)模的系統(tǒng)。 根據(jù)給水和運(yùn)行的條件， 組件可生產(chǎn)出電阻率達(dá) 10-18.2 M Q ?cm 的純水。2.2 EDI 的組件結(jié)構(gòu)EDI 主要由以下幾個(gè)部分組成 :(1) 淡水室 將離子交換樹脂填充在陰、陽(yáng)離子交換膜之間形成淡水單元。(2) 濃水室 用網(wǎng)狀物將每個(gè) EDI 單元隔開，形成濃水室。(3) 極水室(4) 絕緣板和壓緊板（5）電源及水路連接2.3 EDI組件優(yōu)勢(shì)坎貝爾？ EDI組件和其它的 EDI組件相比，有下列優(yōu)勢(shì)：獨(dú)特的淡水室、濃水室和極水室設(shè)計(jì)低電壓、低能耗并排排列管線

11、，連接更簡(jiǎn)單結(jié)實(shí)的機(jī)械設(shè)計(jì)安裝、維護(hù)、運(yùn)行簡(jiǎn)單所有水路和電源均在一側(cè)防水電源接頭不斷追求技術(shù)創(chuàng)新EDI設(shè)備,EDI裝置,EDI系統(tǒng)第3章運(yùn)行條件3.1標(biāo)準(zhǔn)運(yùn)行條件EDI組件運(yùn)行結(jié)果取決于各種各樣的運(yùn)行條件，其中包括系統(tǒng)設(shè)計(jì)參數(shù)。用于測(cè)試組件的水經(jīng)活性炭、精密過(guò)濾器、一級(jí)或雙級(jí)反滲透處理，TDS = 2.54.0 ppm。測(cè)試電壓和流量按下表各組件范圍中間值。型號(hào)CP-500CP-1000CP-2000CP-3000電壓(V,DC)30-6080-120160-240220-330電流(A,DC)2-32-32-32-3產(chǎn)品水流 量（m/h）0.3-0.50.7-1.01.6-2.03.0-3.

12、6產(chǎn)品水流量（gpm）1-24-57-912-16濃水流量（H7h）0.03-0.150.07-0.300.16-0.600.30-1.08極水流量3（m/h ）0.04-0.060.04-0.060.04-0.060.04-0.063.2 給水要求以下是保證 EDI 正常運(yùn)行的最低條件，為了使系統(tǒng)運(yùn)行結(jié)果更佳，系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)適當(dāng)提高。給水：通常為一級(jí)反滲透+軟化或二級(jí)反滲透來(lái)水，一般電導(dǎo)率為1-40卩S/cm。進(jìn)水的電導(dǎo)率值是參考性指標(biāo)，還需要詳細(xì)的水質(zhì)報(bào)告。TEA（總可交換陰離子）：小于25ppm,以CaCO3計(jì)。由于進(jìn)水中所含的CO2會(huì)轉(zhuǎn)化成HCO3-或CO32-，因此TEA（總可交換陰離

13、子）中應(yīng)包括 CO2的量。TEC（總可交換陽(yáng)離子）：小于25ppm,以CaCO3計(jì)。pH : 6.09.0（最佳電阻率性能對(duì)應(yīng)的pH范圍為7.09.0 ,但是，在此pH條件下，硬度不能太高 ） 。溫度： 5- 35°C。進(jìn)水壓力：最大為 4bar（60psi） 。注意：組件壓力損失取決于流量。出水壓力：濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。硬度（以CaCO3計(jì)）:最大為1.0 ppm，取決于回收率高低。注意： EDI 工藝需要限定進(jìn)水硬度以免結(jié)垢。在進(jìn)水硬度 <0.1 ppm 時(shí)坎貝爾 ? EDI 系統(tǒng)最 高的回收率是 95%;而當(dāng)進(jìn)水硬度 >0.1 ppm 時(shí)濃

14、水中需要加鹽，而且需要定期清洗。在進(jìn)水硬 度超過(guò) 0.5 ppm 時(shí)必須事先得到易蒂艾公司的書面確認(rèn)，否則坎貝爾 ? EDI 的質(zhì)量保證無(wú)效。若 在超過(guò)允許的最大回收率下運(yùn)行坎貝爾 ? EDI 模塊，會(huì)造成結(jié)垢和不可修復(fù)的損壞。有機(jī)物 （TOC） ：最大為 0.5 ppm 。氧化劑：Cl2最大為0.05 ppm，O3最大為0.02 ppm。變價(jià)金屬：Fe最大為0.01 ppm ，Mn最大為0.01 ppm 。H2S ：最大為 0.01 ppm 。二氧化硅 ：一般應(yīng)小于 0.5 ppm 。SDI 15min ：小于 1.0 。色度 : 小于 5 APHA 。二氧化碳的總量：二氧化碳含量和pH值將

15、明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2大于10 ppm，坎貝爾? EDI 系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)品水。可以通過(guò)調(diào)節(jié)反滲透進(jìn)水pH 值或使用脫氣裝置來(lái)降低 CO2 量。3.3 濃水循環(huán)坎貝爾? EDI 系統(tǒng)一般需要濃水循環(huán)。但在某些條件下也可以不循環(huán)，例如EDI 給水硬度<0.1 ppm 并且電導(dǎo)率較高的情況。濃水室的進(jìn)出口壓力必須小于淡水室的進(jìn)出口壓力，所以濃水的流量由壓力決定。在運(yùn)行過(guò)程中，濃水循環(huán)可以增加濃水室的導(dǎo)電性，同時(shí)有助于提高濃水的流速以避免結(jié)垢?？藏悹? EDI 模塊的濃水流量最小不能低于產(chǎn)品水的10%。低于該流量運(yùn)行時(shí)， 濃水室容易結(jié)垢，也可能造成模塊內(nèi)部組成受熱變形而漏水。為

16、避免濃水中離子過(guò)度積累，需要排放少量濃水，排放掉的濃水由進(jìn)水補(bǔ)充。S/cm 之間。 控制濃水的電導(dǎo)率在 50 到 6003.4 系統(tǒng)加鹽進(jìn)水電導(dǎo)率低時(shí)，坎貝爾 ? EDI 模塊的電流較小，這樣會(huì)影響產(chǎn)品水水質(zhì)。這時(shí)可以選擇加 鹽裝置，來(lái)提高濃水電導(dǎo)率。加鹽裝置一般包括計(jì)量泵、鹽箱和低液位開關(guān)。計(jì)量泵最好由PLC控制自動(dòng)運(yùn)行，當(dāng)濃水循環(huán)泵啟動(dòng)并且濃水電導(dǎo)率低于設(shè)定值時(shí)計(jì)量泵開始 工作。加鹽的規(guī)格如下：氯化鈉 >99.00%鈣和鎂（以Ca計(jì)）<0.05%鐵 <0.1ppm重金屬 （ 以 Pb 計(jì)算 ） <0.1ppm注意 : 某些雜質(zhì)可能引起模塊結(jié)垢。第 4 章 運(yùn)行參數(shù)及

17、影響4.1 供電電壓電壓是使離子從淡水室進(jìn)入濃水室的推動(dòng)力。同時(shí)，局部的電壓梯度使得水電解為H+和OH-并使這些離子遷移，由此實(shí)現(xiàn)組件中的樹脂再生。4.1.1 純水質(zhì)量與電壓的關(guān)系獲得高質(zhì)量的純水對(duì)應(yīng)著一個(gè)最佳電壓。 若低于此電壓， 在產(chǎn)品水離開組件前， 因推動(dòng)力不 足，部分離子將不能遷移入濃水室，而殘留于淡水室中。若高于此電壓，多余的電壓將電解水， 從而增大電流 ; 同時(shí)引起離子極化并產(chǎn)生反向擴(kuò)散，降低產(chǎn)品水的電阻率。4.1.2 電流與給水電導(dǎo)率的關(guān)系當(dāng)給水的電導(dǎo)率為 5-8uS/cm ，在給定電壓下，坎貝爾 ? EDI 組件的一般電流為 1.5-3A 。電流與離子遷移數(shù)量基本上成正比， 這

18、些離子包括給水中雜質(zhì)離子， 如 Na+、Cl-, 也包括 由水電解產(chǎn)生的 H+、0H-。水的電離速率取決于電壓梯度，因此施加于淡水室的電壓較高時(shí)，H+、0H-遷移量也大。一部分電流與給水的離子含量(TDS) 或者電導(dǎo)率成正比， 另一部分的電流隨電壓增加非線性地增加。在每個(gè)組件建議的電壓范圍內(nèi)，最佳電壓取決于給水電導(dǎo)率和水的回收率。給水中較多的離子遷移流量和較高的水回收率使得離子在濃水室中高度濃縮，這將降低膜堆的電阻， 從而使最佳電壓降低。4.1.3 穩(wěn)定運(yùn)行狀態(tài)運(yùn)行條件改變后，組件將需要運(yùn)行 8-24 個(gè)小時(shí)才能達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài)。穩(wěn)定狀態(tài)是指進(jìn)出組件 的離子達(dá)到物料平衡。如果電壓降低或給水離子濃度

19、增加， 樹脂將會(huì)吸收多余的離子。 在這種狀態(tài)下， 離開組件的 離子數(shù)將小于進(jìn)入組件的離子數(shù)。 最后達(dá)到新的穩(wěn)定狀態(tài)時(shí)離子遷移速率和給水離子相協(xié)調(diào)。此時(shí)，離子交換樹脂的工作前沿將向出水端移動(dòng)。如果電壓升高或給水離子濃度減小， 樹脂將會(huì)釋放一些離子進(jìn)入濃水， 離開組件的離子數(shù)將 大于進(jìn)入組件的離子數(shù)。 最后達(dá)到新的穩(wěn)定狀態(tài)時(shí)離子遷移速率和給水離子相協(xié)調(diào)。此時(shí)， 離子交換樹脂的工作前沿將向給水端移動(dòng)。進(jìn)出組件的離子達(dá)到物料平衡是判斷 EDI 組件是否處于穩(wěn)定運(yùn)行狀態(tài)的有效手段。4.2 離子性質(zhì)EDI 從水中去除離子的能力與離子的特性有關(guān)。與傳統(tǒng)混床一樣，樹脂對(duì)某種離子的吸收能 力與離子的大小、水合度

20、以及樹脂類型有關(guān)。此外，在 EDI 中，離子的電荷數(shù)量更為重要 , 因?yàn)樗峭苿?dòng)離子沿著樹脂表面遷移并透過(guò)膜 的原動(dòng)力。4.2 .1 離子大小下表是在25°C的溶液中離子的有效尺寸，其中包括了水合分子。離子的有效尺寸越大，離 子擴(kuò)散速率越低，越難以被EDI除去。另外，離子有效尺寸越大，電荷越分散，越不易被樹脂吸收。Ionic Radius, ?Cati onsAnions<3.0K+, NH 4+Cl-, NOJ3.5OH, F-4.0-4.5Na+SO2-, CO 32-6.0+2+2+Li , Ca , Fe8.0-9.0H, Mg , Fe4.2 .2離子電荷離子所帶電荷

21、越多， 使之通過(guò)離子交換膜需要供給的電壓越大，另外，這些離子有較高的水合度，而較大并較重的離子擴(kuò)散速度也較慢。4.2 .3離子相對(duì)樹脂的選擇系數(shù)這是離子被樹脂吸收強(qiáng)度的一種量度，較強(qiáng)的選下面的表格顯示了離子相對(duì)樹脂的選擇性 擇性使之不易從混床或EDI泄露岀來(lái)。離子交換樹脂對(duì)離子的選擇性系數(shù)表CationSelectiveCoefficie ntAnionSelectiveCoefficie ntLi +0.8HSiOJ訂1.0F-0.12+Mg1.2HCO-0.5Na+1.6OH0.6Ca2+1.8Cl-1.0+NH2.0NO-3.3k+2.3I-7.34.2 .4 大而弱的帶電離子在常見的p

22、H值和一般的運(yùn)行條件下，二氧化硅（Si02），硼（H3BO3）和二氧化碳（C02）都帶有較弱的負(fù)電荷。它們不易被樹脂吸收，而電壓對(duì)它們遷移幾乎沒(méi)有推動(dòng)力為了有效地除掉這些離子，要使用其他的系統(tǒng)戰(zhàn)略。增加給水的pH值(注意先除硬)，使之電荷增加，也就增加了它們被除去的可能性。在R0之前或之后，C02可作為氣體被除去。硅酸(H2SiO3)的PK1是9.77;硼酸的PK1是9.28;碳酸的PK1是6.35，所以，在稍高的pH值時(shí)，碳酸氫鹽離子能被除去，而除去二氧化硅和硼就必須使pH值大于10。4.3溫度4.3.1 壓力損失與溫度的關(guān)系壓力損失與溫度有關(guān)，主要是由于水粘性的改變。下面的表格顯示了在不同

23、溫度下水的粘度。壓力損失和水的粘度成比例關(guān)系。水的粘度與溫度的關(guān)系表Temperature ,° CViscosity51.51151.14201.00250.89300.80350.72水質(zhì)與溫度的關(guān)系運(yùn)行有一個(gè)最佳溫度。當(dāng)溫度增加到接近 35°C時(shí)，由于離子“泄漏”的增加，產(chǎn)品水水質(zhì)將降低。該現(xiàn)象源于離子交換膜對(duì)離子的吸收率的降低。當(dāng)溫度降低時(shí)，產(chǎn)水的表觀水質(zhì)可以得到改善。其中有電阻儀溫度補(bǔ)償?shù)恼`差的原因，也有由離子交換樹脂對(duì)離子吸收率增強(qiáng)的原因。 但是，如果溫度進(jìn)一步降低，離子通過(guò)膜的擴(kuò)散能力會(huì)按指數(shù)規(guī)律降低，因此使水質(zhì)下降。在較低的溫度下，可以降低電壓以節(jié)省能源。在

24、更低的溫度下，為了繼續(xù)有效地電解水，需要較高的電壓。4.3.3 電阻率儀表的溫度補(bǔ)償電阻率/電導(dǎo)率測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)溫度為25° G在較高的溫度下，因?yàn)殡x子的遷移加快，含有離子的水的電導(dǎo)率增高。對(duì)于超純水，較高溫度時(shí)，水分解岀來(lái)的 H+和OH-的量更多，電導(dǎo)率增高。自來(lái)水和反滲透水的電導(dǎo)率隨溫度變化率大約為2%/° G超純水電阻率的變化率約為5-7%/。G因此如果工作溫度不是25° C,溫度補(bǔ)償很重要。較熱純水的電阻率是很難準(zhǔn)確測(cè)量的，下表是不同溫度下純水的理論電阻率不同溫度下純水電阻率表Temperature ， ° CResistivity， MQ .cm1

25、531.82518.23511.14.4流量4.4.1 壓力損失與流量的關(guān)系。有三種膜壓力損失需考慮：1. 產(chǎn)品水對(duì)給水的壓降2. 濃水岀口對(duì)入口的壓降3. 極水岀口對(duì)入口的壓降每個(gè)水流的流量增加均會(huì)使該水流的壓降增加。4.4.2 極水壓力損失在每個(gè)組件流量為60 Iph時(shí)，壓力損失大致是 20 psi。如果壓力損失大于該值，極水入水處可能有異物堵塞。由于每個(gè)組件只有一個(gè)陽(yáng)極/陰極對(duì)，該流量與組件的尺寸以及型號(hào)無(wú)關(guān)。4.4.3 濃水壓力損失濃水流量與系統(tǒng)設(shè)計(jì)、運(yùn)行設(shè)置和組件本身有關(guān)。濃水流量大致與組件的單元數(shù)量成正比。若運(yùn)行期間濃水的壓力損失增加，則需要清洗組件；也可能是濃水進(jìn)口有異物，濃水進(jìn)

26、水需經(jīng)過(guò)精濾。下表給岀了坎貝爾？ EDI新組件的壓力損失。組件的壓力損失表型號(hào)單元數(shù)濃水流量(m/h)壓力損失(psi)CP-50060.032-50.1510-20CP-1000120.072-50.3010-20CP-2000240.162-50.6010-20CP-3000420.302-51.0810-204.4.4 給水-純水的壓力損失：對(duì)每個(gè)膜組件，壓力損失隨流量的增加而增加，如上所述，壓力損失將隨水溫的降低而增加。對(duì)一個(gè)新組件，在流量下限（例如CP-2000），最初的壓力損失將接近5 psi。當(dāng)流量增加時(shí)，壓力損失也增加，可以咼達(dá)30 psi。壓力損失和流量增加接近正比。值得注意

27、的是以上討論的是組件前后的壓力損失，如果管道選用不當(dāng)，壓力的管道損失也可能是非?？捎^的。4.4.5 岀口壓力損失對(duì)水質(zhì)和內(nèi)部泄露的影響為了保證內(nèi)部泄漏不影響純水水質(zhì)，產(chǎn)品水岀口壓力應(yīng)當(dāng)比濃水和極水岀口壓力高。依此， 任何內(nèi)部泄漏將會(huì)稀釋濃水，而不是離子泄漏到純水中。濃水岀口應(yīng)當(dāng)沒(méi)有任何的背壓。設(shè)計(jì)系統(tǒng)時(shí)，應(yīng)當(dāng)選用足夠粗的管子和盡量短的流程。濃水排放的部分如果送到反滲透入口或做它用，最好先進(jìn)入一個(gè)儲(chǔ)水罐，然后再用泵打?qū)缛ァ?.5 給水電導(dǎo)率純水水質(zhì)取決于組件從淡水室中除去離子的能力，單位時(shí)間內(nèi)給水離子總量過(guò)高通常會(huì)導(dǎo)致較低的產(chǎn)品水水質(zhì)。無(wú)論對(duì)強(qiáng)電解質(zhì)（NaCI）還是弱電解質(zhì)（二氧化硅、碳以及碳酸

28、鹽 ），均如此。過(guò)高的給水離子總量導(dǎo)致兩個(gè)結(jié)果：第一是在EDI組件內(nèi)部樹脂工作界限向?qū)缢诉w移，這導(dǎo)致拋光樹脂量減小，因此引起弱電解質(zhì)清除率降低；第二是引起組件電流量增加。降低給水電導(dǎo)率，有助于改善二氧化硅的去除。增加給水電導(dǎo)率將增加電流量。4.6優(yōu)化運(yùn)行條件如上所述，在岀水水質(zhì)中，樹脂的工作界限的位置是很重要的。為了得到較高電阻率和較低二氧化硅含量的產(chǎn)品水，則必須有較大量的拋光樹脂。為此：產(chǎn)品水流量應(yīng)該在給定范圍的下限。電壓應(yīng)該在給定范圍的上限。濃水流量應(yīng)為給定范圍的上限。二氧化碳的含量應(yīng)該盡量減少。pH 值接近上限。如果較低質(zhì)量的純水也能滿足要求，為節(jié)約能量，可以：提高產(chǎn)品水流量降低電壓降

29、低濃水流量以提高水利用率給水預(yù)處理對(duì) EDI 極其重要， 對(duì) EDI 的重要性和對(duì)反滲透的重要性一樣， 組件的壽命、 性能 及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量。參考 EDI 給水的具體要求。如果給 EDI 提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗頻率將會(huì)降低。5.1 EDI 系統(tǒng)保護(hù)和控制為了保護(hù) EDI 組件， 使之有較長(zhǎng)的使用壽命， 一些系統(tǒng)保護(hù)是必要的。 最關(guān)鍵的保護(hù)是當(dāng)沒(méi) 有水流量時(shí)，要斷電停機(jī)，否則，會(huì)對(duì) EDI 組件造成致命的破壞。 以下是 EDI 正常運(yùn)行的必要條 件：極水流量超過(guò)最小值 。濃水的流量超過(guò)最小值 。預(yù)處理正常。反滲透運(yùn)行正常。反滲透純水的電導(dǎo)率低于允許最大值。溫度在限制范圍之

30、內(nèi)。5.2 EDI 給水處理5.2.1 活性碳除掉氯和氯消毒副產(chǎn)物， 以保護(hù)反滲透膜、 離子交換樹脂和離子交換膜。 活性碳還可以除去 很多的有機(jī)物和殺菌劑以免這些化合物透過(guò)反滲透進(jìn)入EDI。通?？梢允褂妙w粒狀活性碳 （GAC）。但是在給水被有機(jī)污染物高度污染的情況下，有必要使 用其它除有機(jī)物設(shè)施。5.2.2 軟化器為防止在反滲透和 EDI結(jié)垢，需要從給水中除去硬度 (Ca2+、Mg2+)。軟化可以提高反滲透系 統(tǒng)水利用率和提高給水 pH 值。并因此使反滲透和 EDI 更有效地除掉碳酸鹽和硅。軟化還可以去 除鐵和其它過(guò)渡金屬，保護(hù)反滲透膜和 EDI 組件。軟化不是必須要有的設(shè)施， 可以用阻垢劑解

31、決硬度在反滲透膜上結(jié)垢的問(wèn)題。但是， 使用阻垢劑將增加反滲透純水的硬度， 給 EDI 帶來(lái)壓力。 另外， 軟化也可以放在一級(jí)反滲透之后去除硬 度。5.2.3 沉淀物過(guò)濾器為防止反滲透膜被堵塞，需從給水中除去不溶物質(zhì)。5.2.4 除氣裝置為了得到高電阻率的純水，氣體應(yīng)該從給水中被去除。其中，CO2的去除尤其重要。 CO2含量低時(shí) EDI 組件會(huì)更有效地去除二氧化硅。 除氣裝置可用脫氣膜或除碳塔。 該裝置最好放置在反 滲透之后，也可以放在反滲透之前。5.2.5 反滲透系統(tǒng)除掉大部分溶解鹽類。 正常情況下單級(jí)或雙級(jí)反滲透可以有效的除去高達(dá)99%的離子和有機(jī)物。反滲透將給水分成反滲透純水和濃水，只有反

32、滲透純水才能進(jìn)入EDI。反滲透剛剛開機(jī)幾分鐘內(nèi)水質(zhì)很差，這一部分水不能進(jìn)入EDI。5.3 EDI 系統(tǒng)組成壓力表測(cè)定R0和EDI水的運(yùn)行壓力。流量計(jì)測(cè)量純水、濃水、極水流量。水質(zhì)監(jiān)視器測(cè)量并顯示來(lái)自反滲透和EDI的水質(zhì)，反滲透水一般用電導(dǎo)率測(cè)量，或用TDS(ppm)來(lái)表示。EDI 純水一般用電阻率來(lái)表示。水質(zhì)監(jiān)視器作為系統(tǒng)的保護(hù)裝置的一部分，可以提供給水超標(biāo)、 純水超標(biāo)信號(hào)，以便實(shí)施報(bào)警保護(hù)?？刂浦行奶峁┌ㄗ詣?dòng)和人工運(yùn)行在內(nèi)的系統(tǒng)控制 可以直接控制電源，使其達(dá)到最佳狀態(tài)。如果 EDI 給水流量過(guò)低，應(yīng)當(dāng)關(guān)閉電源。在反滲透純水的電導(dǎo)率上升到高于一定值時(shí)， EDI 停機(jī)，發(fā)出警報(bào)，并將反滲透純水

33、排放。當(dāng) EDI 給水壓力過(guò)高時(shí)，瀉流電磁閥啟動(dòng)，將水排放，報(bào)警。EDI 設(shè)備 ,EDI 裝置 ,EDI 系統(tǒng)電源直流電源，配有電壓調(diào)節(jié)裝置、電壓表和電流表。還應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護(hù) EDI 組件，當(dāng)流經(jīng) EDI 組件的水流量低于某一點(diǎn)時(shí)，應(yīng)關(guān)閉電源。流量開關(guān)如果流入 EDI 組件的濃、極水流量過(guò)低，流量開關(guān)會(huì)促使系統(tǒng)關(guān)閉。EDI 組件EDI為二級(jí)除鹽設(shè)施，反滲透純水經(jīng)過(guò) EDI 后分為三股水流： EDI 產(chǎn)品水、 EDI 濃水和一小部分 極水。將 EDI 并聯(lián)運(yùn)行，可取得更大流量。EDI 濃水一部分循環(huán) ( 當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率高時(shí)，可以不循環(huán)) ，另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可回

34、收作為它用或直接排至下水道。EDI 純水入水壓力應(yīng)比 EDI 濃水壓力高，這樣可以防止?jié)馑?EDI 組件內(nèi)泄露。使用調(diào)節(jié)閥和轉(zhuǎn)子式流量計(jì)來(lái)控制和指示純水、濃水和極水的流量。應(yīng)將濃水和極水出口壓力降到最小。排氣口電極廢水中包含 CI2、H2和02氣體，需被安全地排放岀去。注意： H 2的爆炸極限是 4%(v/v), 因此氣體必須被稀釋排放。一般的安全界線是1%。6.1 安全請(qǐng)?jiān)诎惭b前讀懂本手冊(cè)的安全部分。特別值得注意的是，EDI設(shè)備是一個(gè)水電并存系統(tǒng)。另外極水包含危險(xiǎn)氣體。6.2組件安裝組件安裝請(qǐng)參考裝配圖?？藏悹?？ EDI系列組件直接用螺絲固定。搬動(dòng)組件時(shí)不能讓水管道或電連接著力，也不要讓兩

35、端不銹鋼板著力。不要將組件的前端和后端同時(shí)固定，因?yàn)檫@樣會(huì)影響模塊極板間距離的調(diào)整?？藏悹?？ EDI系列組件的外觀尺寸表型號(hào)CP-500CP-1000CP-2000CP-3000尺寸(mm570 X 240 X 95570 X 240 X 130570 X 240 X 200570 X 240 X 300A (mm3570140240B (mm95130200300單元數(shù)6122442注意：以上模塊尺寸僅供參考6.3組件方向坎貝爾？ EDI組件應(yīng)垂直安裝。如果組件以水平位置安裝，在間隔室，氣體會(huì)被封住，將影 響離子的去除。6.4管件的連接標(biāo)準(zhǔn)組件為純水提供了1寸內(nèi)絲管件，為濃水和極水提供了 4

36、分內(nèi)絲管件，這些連接部分由PVC制成，在安裝前應(yīng)將內(nèi)絲保護(hù)好。將管件與組件連接時(shí)，應(yīng)用扳手卡住組件上的管件，以免 其在扭力作用下被損壞。坎貝爾？ EDI組件的電源和管路連接參考下頁(yè)圖。6.5接地組件本身通過(guò)電源線接地。由于水也導(dǎo)電，電流可通過(guò)水接地，應(yīng)該在各個(gè)給水和岀水水流安裝三通，將一個(gè)導(dǎo)體通過(guò)三通與水流接觸，并把該導(dǎo)體接地。如果水流接地不當(dāng)可能引起電導(dǎo)率和電阻率儀讀數(shù)不準(zhǔn)。6.6電源連接和接線直流電源要適當(dāng)?shù)亟拥浇M件的正極和負(fù)極上。正極吸引陰離子，負(fù)極吸引陽(yáng)離子。負(fù)極 (-) 為綠色正極 (+) 為紅色或者白色地線為黃色6.7 螺母扭力組件在出廠以前， 兩端的螺母已扭好。 組件在安裝后，

37、運(yùn)行之前應(yīng)當(dāng)將螺母緊度再次調(diào)整到20 ft- lbs(2.76Kgf?m) ，最大不超過(guò) 25 ft- lbs(3.45Kgf?m) 。緊螺母程序可參考附錄。第 7 章 組件的清洗及維護(hù)在運(yùn)行中，如果將較差的給水引進(jìn)組件，或者電源不足，就會(huì)增加維修工作量。給水中主要引起結(jié)垢的是TOG硬度和鐵。給水硬度較高將引起離子交換膜濃水側(cè)結(jié)垢，而使純水水質(zhì)降低。給水硬度、溶解的CO2和高pH會(huì)加速結(jié)垢?？梢杂眠m當(dāng)?shù)乃崛芤呵逑次酃浮Ｇ逑催^(guò)程請(qǐng)參考附錄。給水中的有機(jī)物污染，會(huì)在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜，因而將嚴(yán)重影響 離子遷移速率，因此影響純水水質(zhì)。當(dāng)發(fā)生此現(xiàn)象時(shí)，純水室需用適當(dāng)?shù)那逑磩┣逑?。有機(jī)

38、物清洗過(guò)程請(qǐng)參考附錄。如果 EDI 組件在無(wú)電或給電不足的情況下運(yùn)行，混床內(nèi)離子處于離子飽和狀態(tài)，純水的 純度會(huì)降低。為了再生離子交換樹脂，將水流通過(guò)組件， 并慢慢增加電源供應(yīng)電壓， 使被吸附的 離子遷移出系統(tǒng)。樹脂再生時(shí)，組件將通過(guò)比正常運(yùn)行更多的電流。警告：如果電源沒(méi)有過(guò)電流保護(hù)，注意不要超過(guò)電源的供電容量。電極連接器應(yīng)該定期檢查，以防由周圍條件引起腐蝕或松弛，以免增加電阻，阻礙電流渡過(guò)， 導(dǎo)致純水水質(zhì)下降。一段時(shí)間后，需重新設(shè)置螺冒松緊度。螺冒太緊將導(dǎo)致膜堆的變形，太松將導(dǎo)致內(nèi)、 外部泄漏。最大的扭力為 25ft-lbs ，旋轉(zhuǎn)螺母應(yīng)參考附錄。如果組件外部需要清洗，請(qǐng)僅使用溫和的清潔劑水

39、溶液，不可使用溶劑。為了防止觸電，在清 洗之前，要確定電源已斷開。清洗時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：禁止使用丙酮或其他的溶劑。當(dāng)電源開啟時(shí)禁用水。擦洗時(shí)使用潮濕的布，可浸少量清潔劑。保護(hù)安全標(biāo)簽8.1 開機(jī)準(zhǔn)備1) 準(zhǔn)備好數(shù)據(jù)表格和運(yùn)行記錄本，記錄起始數(shù)據(jù)和觀察到的任何現(xiàn)象。2) 通讀坎貝爾 ? EDI 的設(shè)計(jì)與使用手冊(cè)，并明確控制面板的內(nèi)容。3) 完成所有的水管道和電路連接。4) 開機(jī)運(yùn)行RO系統(tǒng)。在運(yùn)行 EDI之前，先將R0系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行一段時(shí)間，待水質(zhì)穩(wěn)定并能 滿足 EDI 入水要求之后，再準(zhǔn)備 EDI 開機(jī)。5) 將電導(dǎo)率儀設(shè)定在 40卩S/cm,電阻率儀設(shè)定在適當(dāng)位置，直流電壓設(shè)定為“ 0”。8

40、.2 組件啟動(dòng)1) 打開 EDI 系統(tǒng)控制電源。2) 開啟 EDI 給水泵，將純水入水和濃水補(bǔ)水調(diào)節(jié)閥緩慢旋開。3) 觀察 EDI 入水的電導(dǎo)率，超過(guò)設(shè)定值時(shí)自動(dòng)排放，水質(zhì)合格后入水電磁閥打開，排水電 磁閥關(guān)閉。4) 開啟 EDI 濃水循環(huán)泵，慢慢旋開濃水和極水調(diào)節(jié)閥。5) 對(duì)濃水、純水和極水管道實(shí)行脈沖供水以進(jìn)一步從EDI 系統(tǒng)中排出空氣。在啟動(dòng)時(shí)除去空氣很重要，因?yàn)榻M件里的氣體會(huì)影響流量和產(chǎn)品水電阻率。6) 將 EDI 模塊電源打開。應(yīng)盡快啟動(dòng)電源供電，如果在供電前，過(guò)量的水被送到組件中， 那么模塊有可能要進(jìn)行再生以達(dá)到水質(zhì)要求。7) 調(diào)節(jié)使純水壓力和流量、濃水流量、極水壓力和流量均達(dá)到設(shè)

41、計(jì)范圍。8) 檢查純水出口壓力是否大于濃 / 極水的出口壓力。9) 檢查極水、濃水和純水的壓力損失是否大致正常。10) 檢查濃水電導(dǎo)率是否正常。11) 慢慢旋動(dòng)“電壓調(diào)節(jié)”鈕至規(guī)定電壓。12) 觀察純水的產(chǎn)量及出水水質(zhì)，水質(zhì)超過(guò)設(shè)定值時(shí)，超標(biāo)排放電磁閥自動(dòng)打開。13) 檢查組件的初始電流。 初始電流一般要高于正常運(yùn)行電流， 多個(gè)組件并聯(lián)時(shí)， 兩個(gè)組件 的初始電流應(yīng)當(dāng)近似。14）檢查組件進(jìn)出離子的物料平衡。如果正在再生則排出離子數(shù)多于進(jìn)入的離子數(shù)，如果給電不足則相反。15）檢查所有開關(guān)裝置、流量傳感器，設(shè)置是否合理且正確信號(hào)被送到控制中心。16）EDI運(yùn)行一個(gè)小時(shí)之后，水質(zhì)、電流應(yīng)趨于穩(wěn)定。17

42、）記錄電壓、電流、進(jìn)岀水水質(zhì)和產(chǎn)品水、濃水、極水的流量以及運(yùn)行時(shí)間。18）運(yùn)行中如果岀現(xiàn)過(guò)載保護(hù)，按下復(fù)位開關(guān)重新工作。如果過(guò)載保護(hù)頻繁岀現(xiàn)，應(yīng)停機(jī)仔細(xì)檢查，并對(duì)運(yùn)行參數(shù)做適當(dāng)調(diào)整。8.3關(guān)機(jī)1）將EDI模塊電源“電壓調(diào)節(jié)”旋至“ 0”。2）關(guān)閉有關(guān)閥門。3）切斷EDI給水泵、濃水循環(huán)泵的電源。4）關(guān)閉EDI系統(tǒng)控制電源（SYSTEM POWER）組件的故障處理故障可能原因解決辦法產(chǎn)品水流量-模塊堵塞參考附錄清洗模塊閥門關(guān)閉確認(rèn)所有需要開啟的閥門都正常開啟注戸F平流量開關(guān)檢查流量開天疋否設(shè)定正確、運(yùn)作正吊進(jìn)水壓力低判斷原因，加以解決產(chǎn) 品 水 水 質(zhì) 差電源極性接反立即切斷供電，核實(shí)接線電壓太

43、低或太高把直流電壓調(diào)到規(guī)定范圍一個(gè)或多個(gè)模塊沒(méi)有電流或電流低檢查電路連接是否正確電流太低檢查濃水的電導(dǎo)率是否過(guò)低溫度補(bǔ)償不準(zhǔn)確校驗(yàn)電導(dǎo)率或電阻率表及其溫度補(bǔ)償螺栓扭矩不夠或不均勻參考附錄調(diào)整扭矩離子交換膜結(jié)垢或污染參考附錄清洗模塊進(jìn)水水質(zhì)超出允許值檢查進(jìn)水水質(zhì)，CQ是水質(zhì)差的常見影響因素濃水壓力比給水和產(chǎn)品水壓力 高重新設(shè)定濃水壓力以獲得0.30到1.0 bar 的壓差給水流量不正常把流量調(diào)到規(guī)定范圍濃水 電導(dǎo) 率低回收率低檢查濃水排放量是否過(guò)大進(jìn)水電導(dǎo)率下降濃水中加鹽液以提高電導(dǎo)率加鹽裝置確保鹽箱里有鹽液，計(jì)量泵正常工作模塊 壓差 高模塊堵塞判別污染類別，按照相對(duì)應(yīng)的流程清洗流量過(guò)冋調(diào)節(jié)流量

44、到規(guī)定范圍模塊壓差低流量過(guò)低調(diào)節(jié)流量到規(guī)定范圍濃水流量低濃水循環(huán)泵檢查濃水循環(huán)泵是否運(yùn)行正常模塊堵塞參考附錄清洗模塊閥門關(guān)閉檢查濃水出口閥注戸F平流量開關(guān)檢查流量開關(guān)的位置和接線濃水循環(huán)泵檢查濃水循環(huán)泵是否運(yùn)行正常極水流量低注戸F平流量開關(guān)檢查流量開關(guān)的位置和接線模塊堵塞參考附錄清洗模塊閥門關(guān)閉檢查極水出口閥附錄1:濃水側(cè)結(jié)垢酸清洗工藝建議：通過(guò)軟化，盡可能減小給水的硬度，以最大限度減少EDI模塊濃水側(cè)結(jié)垢。注意：酸及阻垢劑的添加導(dǎo)致鈣、鎂離子和C02穿過(guò)R0膜的量增加，并順流至EDI內(nèi)。軟化的另一個(gè)好處是從 R0給水中除去了鐵和錳，延長(zhǎng)了R0的壽命并防止了其對(duì) EDI的污染。輔助設(shè)備和消耗品

45、：一臺(tái)泵：流量 0.5gpm(0.114m3/hr)，壓力 30psi(21m)，耐酸。兩個(gè)塑料容器：5-10加侖。塑料管件/管。配方1：(藥品徹底混合)這是一個(gè)簡(jiǎn)單、安全、商用的方案。一份用無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸和螯合劑配制的2%酸度的溶液。去離子水5.0 L清力公司 Diamite LpH 清洗液125 ml配方 2: （ 藥品徹底混合 ） 這是一個(gè)僅使用有機(jī)酸的方案。一份5%弱酸溶液， pH 約為 9。去離子水 5.0 L檸檬酸 250 g配方 3： （藥品徹底混合 ）這個(gè)方案配制一份 2.5% 的強(qiáng)酸溶液，再加入一種非離子表面活性劑以協(xié)助除垢。這是三個(gè) 方案中最強(qiáng)有力的一種。去離子水 5.0

46、L37% 分析純 HCl 溶液 350 mlEDI 設(shè)備 ,EDI 裝置 ,EDI 系統(tǒng)酸洗流程 :測(cè)量并記錄通過(guò)極水室和濃水室的水流量和壓力降，直排口 （ 極水室與濃水室出水口 ） 通向一個(gè)大小合適的耐酸廢液回收池。 將泵的出口連接到極水和濃水的入水口，調(diào)節(jié)流量為0.5gpm ，壓力為 30psi 。不要將酸打入淡水室，否則需用很長(zhǎng)的運(yùn)行時(shí)間來(lái)再生樹脂。將泵的入口連接到裝滿上述一種清洗液的 5 加侖塑料箱里。 用泵使清洗液循環(huán)清洗EDI 60 秒，然后停泵用清洗液浸泡 EDI 5 分鐘以上。當(dāng) EDI 內(nèi)清洗液消耗完時(shí)再次啟動(dòng)泵清洗。避免將空氣抽入 EDI 中。在清洗箱中裝滿去離子水，然后用

47、泵來(lái)沖洗殘留的清洗液。更換箱中去離子水，直到?jīng)_洗岀水的TDS降至5ppm以下、pH在日常運(yùn)行的范圍內(nèi)。此時(shí)測(cè)定并記錄壓力降、流量、 pH 和 TDS。將清洗臨時(shí)管路斷開，恢復(fù)原樣。在再生模式下運(yùn)行 EDI，直到離子進(jìn)岀平衡。在標(biāo)準(zhǔn)模式下運(yùn)行 EDI，直到岀水品質(zhì)恢復(fù)到正常水平。注意 ! 安全混合酸液的步驟：先加水后加酸。附錄 2: 淡水側(cè)有機(jī)物污染的表面活性劑清洗有機(jī)物清洗液必須是單一的非離子表面活性劑，例如 :去離子水 9.9 LTriton X（ 羅門哈斯 ） ，或其它商用的等效藥品 100 ml流程：推薦：通過(guò)RO和R0預(yù)處理系統(tǒng)，最大程度減少入水TOC使EDI內(nèi)樹脂的有機(jī)物污染降到最小

48、。建議：在控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)中采用三通閥門來(lái)避免清洗時(shí)用手?jǐn)嚅_EDI 的管路。斷開淡水進(jìn)水口和產(chǎn)品水出水口管路連接。將一臺(tái)化工輸送泵的出口連接到淡水入水口，調(diào)整流量為0.5gpm ，壓力為 30psi 。F（38 C）非離子表面活性清洗劑的箱子上。將泵的入口連接到一個(gè)裝滿5加侖（19升）100將產(chǎn)品水出囗連接到清洗箱里。用泵使清洗液循環(huán)清洗 EDI 60 秒，然后停泵用清洗液浸泡 5 分鐘以上。當(dāng) EDI 內(nèi)清洗液消耗完時(shí)再次啟動(dòng)泵清洗。F 的去離子水，打開泵將殘余清洗藥液沖清洗干凈。在清洗箱中裝滿 100讓至少20加侖室內(nèi)溫度的水循環(huán)沖洗EDI。如果沖岀液 TOC高于系統(tǒng)要求值，重復(fù)這一步驟。淡水

49、入水囗和產(chǎn)品水出水囗恢復(fù)清洗前的連接運(yùn)行系統(tǒng) 4 個(gè)小時(shí)，使清洗液全部排岀。附錄 3: 重新設(shè)置 XL 系列 EDI 模塊螺栓扭力矩螺銓扭力矩對(duì) EDI 模塊很重要。 它不僅關(guān)系到維持內(nèi)部壓力以保證岀水水質(zhì)， 而且關(guān)系到防 止 EDI 模塊的內(nèi)部和外部泄漏。必須在 EDI 安裝完之后、使用之前重新設(shè)置螺銓扭力矩。通常在產(chǎn)品水水質(zhì)下降時(shí)要檢查螺銓 扭力矩。至少每三個(gè)月檢查一次螺銓扭力矩，必要時(shí)作調(diào)整。下面是一個(gè)重新設(shè)置螺銓扭力矩用的插圖。依圖均勻地調(diào)整螺銓扭力矩，消除局部應(yīng)力。每個(gè) 模塊共有20根螺銓，需要一個(gè) 16mm的六角形扳手。依圖示數(shù)字順序?qū)⒙菟〝Q緊，每次增加的扭力矩不要超過(guò)2 磅尺 (

50、0.276Kgf?m) ，直到所有的螺栓的扭力矩都設(shè)置在 20 磅尺(2.76Kgf?m) 。調(diào)整次序圖如下：附錄 4: 模塊的除菌清潔過(guò)程對(duì)傳統(tǒng)的離子交換床來(lái)說(shuō)， 最好也最簡(jiǎn)單的清潔方法是將樹脂分離， 然后再生。 強(qiáng)酸和強(qiáng)堿 可以殺滅細(xì)菌并清除其繁殖的場(chǎng)所。工作電壓下的EDI 模塊不斷地分解水，從而造成局部的 pH很高或者很低。這種 pH 值有人認(rèn)為能起到殺菌的作用，尤其在產(chǎn)品水側(cè)。Millipore 在 1990 年發(fā)表了關(guān)于這個(gè)課題的一個(gè)研究成果。 他們發(fā)現(xiàn)每周清洗的 RO-EDI 系 統(tǒng)能維持較低的微生物數(shù)量， EDI 濃水側(cè)的微生物數(shù)量與純水側(cè)相同。 當(dāng)中斷清潔維護(hù)三個(gè)月時(shí)， 濃水側(cè)

51、的微生物數(shù)量會(huì)上升，產(chǎn)品水側(cè)則尚未污染。他們因而得出結(jié)論：EDI 模塊，特別是產(chǎn)品水側(cè)起著殺菌的作用。模塊的除菌清潔方法EDI 沒(méi)有理想的清潔方法。清潔劑包括氧化型、離子型和有機(jī)型。有機(jī)清潔劑需要較長(zhǎng)的沖 洗時(shí)間以使岀水的 TOC符合要求。離子型清潔劑清洗后需要再生樹脂。氧化型殺菌劑可降解樹脂和膜，減短模塊壽命。定期清潔可以用以下我們推薦的方法：1. 產(chǎn)品水側(cè)用 Triton-X 表面活性劑清潔，之后需用水沖洗干凈并使模塊再生。2. 1%的Triton-x 表面活性劑與 20%USF級(jí)丙二醇(propylene glycol)混合清洗。3. 像清洗反滲透膜一樣使用過(guò)氧醋酸。例如 Minntech 生產(chǎn)的 Minncare 殺菌劑。使用 1%的 Minncare 循環(huán)清洗 1 小時(shí)。模塊的長(zhǎng)期停機(jī)保存 我們推薦：用一種合適的殺菌清潔劑清洗，然后沖洗、排盡、將模塊密封。啟動(dòng)時(shí)沖洗并再 生。注意：我們雖然知道哪一種清潔劑可以控制細(xì)菌生長(zhǎng)并且不會(huì)對(duì)EDI 造成損害。 但應(yīng)該知道，任何一種藥品都有一定的副作用。1%的 Minncare 過(guò)氧醋酸效果不錯(cuò)。20%的丙二醇+1%Trit on-x 表面活性劑會(huì)防止細(xì)菌生長(zhǎng)，但它對(duì)于長(zhǎng)期保存的效果我們還不是太了解，而且這種方法需要長(zhǎng)時(shí)間的沖洗，以