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文檔簡介
1、線路板廢水一、線路板廢水的分類1、磨板廢水 磨板廢水來源于磨板機的清洗工序,主要含銅粉、火山灰等。2、銅氨絡合廢水 銅氨絡合廢水來源于堿性蝕刻的清洗工序,廢水中主要污染物為銅離子(以絡合態(tài)存在)、氨氮等。3、化學沉銅廢水 (屬于廢液,不單獨處理) 化學沉銅廢水來源于化學沉銅的清洗工序,廢水中主要污染物為銅離子(以絡合態(tài)存在)、有機物等。4、化學鍍鎳廢水 典型的化學鍍鎳工藝以次磷酸鹽為還原劑,廢水中主要污染物為鎳離子(以絡合態(tài)存在)、磷酸鹽(包括次磷酸鹽、亞磷酸鹽)及有機物。5、含氰廢水 含氰廢水來源于電鍍金、化學沉金、化學沉銀的清洗工序,廢水中主要污染物為氰化物、重金屬離子(以絡合態(tài)存在)等。
2、6、油墨廢水油墨廢水來源于顯影、脫膜工序,含有大量感光膜、抗焊膜渣等成分,COD較高。7、有機廢水除以上所列廢水外,其它CODc濃度高于150mg/l的廢水均應納入有機廢水處理系統(tǒng), 主要包括除油、脫脂和網版清洗等工序產生的廢水,廢水中主要污染物為有機物8、綜合廢水除以上所列廢水外,其它各類廢水統(tǒng)稱為綜合廢水,主要污染物為酸堿、重金屬離子、 懸浮物等。9、廢液線路板廢液中含有高濃度的酸、堿、重金屬等,線路板廢液應委托有資質的危險廢物 處理單位進行處理處置或綜合利用。二、各項廢水的處理工藝設計1、磨板廢水 工藝選擇由于磨板廢水中污染濃度相對較低、污染物種類少,經回收銅粉和簡單沉淀處理后可 直接回
3、用于磨板清洗工序, 也可將沉淀后磨板廢水排入回用水處理系統(tǒng)作深度處理后回用 工藝流程圖磨板廢水一銅粉回收機一調節(jié)池一沉淀池一定期回收沉淀銅粉回用至磨板清洗工序或排入回用水處理系統(tǒng)圖 1 磨板廢水工藝流程圖2、銅氨絡合廢水 工藝選擇銅氨絡合廢水一般先采用硫化物進行破絡和混凝沉淀,然后排入有機廢水處理系統(tǒng)的 pH回調池或經折點加氯除氨后直接排放。 化學反應機理銅氨絡合廢水破絡反應的化學方程式如下:Cu(NI4) 4 2+ +S2- CuS+4NHt 工藝流程圖堿+硫化物 FeSO4 PAM 污泥脫水系統(tǒng)pHJ ORP JJT銅氨絡合廢水調節(jié)池破絡池快混池慢混池沉淀池?J 排放J折點加氯J pH回調
4、池 有機廢水 圖2 銅氨絡合廢水工藝流程圖 主要工藝控制參數(shù)pH 調整池內控制pH值10-10.5。ORPfi 控制 9 100-150mV3、化學沉銅廢水 工藝選擇化學沉銅廢水一般采用硫化物沉淀法。 化學反應機理Cu +S CuSJ 工藝流程圖堿+硫化物 FeSO 4 PAMpHJ ORP J有機廢水化學沉銅廢水一調節(jié)池一破絡池一快混池一慢混池一沉淀池一pH回調池J干泥餅外運-污泥脫水系統(tǒng)污泥濃縮池圖 3 化學沉銅廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)pH調整池內控制pH值10-10.5。ORP 值控制 9 100-150mV4、化學鍍鎳廢水 工藝選擇 化學鍍鎳廢水一般采用“酸性氧化鈣鹽沉淀
5、法”的二級預處理工藝。 化學反應機理 第一級在酸性條件下通過氧化劑將次、亞磷酸鹽氧化成正磷酸鹽,第二級加入石灰,在堿性條件下正磷酸鹽生成磷酸鈣沉淀物, 重金屬鎳離子形成氫氧化鎳的沉淀物得到去除。 氧化劑采用濃度為 10%以上的漂水,其反應方程式如下:NafPO+CIOPO3_+NaCI+ 2H+PO3_+CIO PO3_+ Cl-10Ca+6PO3-+2OFHCao(OH)2(PO)6 JNi 2+2OFH Ni(OH)2j 工藝流程圖酸+氧化劑石灰 PAC PAMpHJ ORP pH JJ J化學鍍鎳廢水調節(jié)池氧化池pH調整池快混池慢混池J干泥餅外運-污泥脫水系統(tǒng)污泥濃縮池-沉淀池J酸pH回
6、調池J生化剩余污泥進污泥濃縮池-生化處理系統(tǒng)J排放圖 4 化學鍍鎳廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)氧化池內控制pH值2-3、ORPfi 450-500mVpH 調整池內控制pH值10-11。pH回調池內控制pH值7.0-8.5 。5、含氰廢水 工藝選擇 含氰廢水的處理方法包括堿性氯化法、臭氧氧化法、離子交換法、電解法等,根據(jù)深圳電鍍企業(yè)的實際情況,一般采用兩級堿性氯化法處理工藝。該處理方法具有穩(wěn)定、可靠, 易于實現(xiàn)自動控制的特點,堿性氯化法所采用的氧化劑一般為漂白水、漂白粉等。 化學反應機理兩級堿性氯化法破氰反應的化學方程式如下:CN+OC-+HX CNCI+20HCNCI+20HH C
7、NGC+HO2CN0+4OH+3CI2 2CG+N+6C+2H2O 工藝流程圖水量較大的含氰廢水一般采用連續(xù)處理方式,工藝流程見圖5。若水量較少,則可采用間歇式的氧化破氰方式。堿氧化劑 酸氧化劑pHJ ORPpH J ORP含氰廢水調節(jié)池一級氧化池中間水池二級氧化池綜合廢水調節(jié)池圖 5 含氰廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)一級氧化池內控制pH值為10-11、ORPfi為300-350mV二級氧化池內控制 pH值為7-8,ORPS為600-650mV6、油墨廢水 工藝選擇油墨廢水中有機物含量較高,一般先采用酸化預處理,然后排入有機廢水處理系統(tǒng)。 工藝流程圖酸 / PAMpH J油墨廢水一調
8、節(jié)池一酸化池一有機廢水處理系統(tǒng)浮渣撈出打包圖 6 油墨廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)酸化池內控制pH值為2-3。7、有機廢水芬頓+混凝沉淀 /氣浮堿PAC PAMpHJJJ 衰減池 pH 調整池 快混池 慢混池J綜合廢水J沉淀池酸 H2O2 +FeSO4pHJJ有機廢水pH調整池芬頓反應池JORP空制為350mV左右8、綜合廢水綜合廢水一般采用圖 8 所示的處理工藝流程,該工藝流程選用氫氧化物沉淀法,綜合 廢水經處理達標后可進入回用水處理系統(tǒng) (或排放),回用水處理系統(tǒng)產生的濃水可經獨立 處理系統(tǒng)處理后達標排放, 也可將濃水排入生化處理系統(tǒng)或綜合廢水調節(jié)池作進一步處理。堿 PAC PA
9、MJ pHJJJ綜合廢水一調節(jié)池一 pH調整池-快混池-慢混池- 沉淀池- pH 回調池( 7)(10)JJ泥餅外運-污泥脫水系統(tǒng)- 污泥濃縮池回用水處理系統(tǒng)(或排放)圖8 綜合廢水典型處理工藝流程電鍍廢水一電鍍廢水的分類1、前處理廢水前處理廢水包括鍍前準備過程中的脫脂、除油等工序產生的清洗廢水,主要污染物為 有機物、懸浮物、石油類、磷酸鹽以及表面活性劑等。2、含氰廢水含氰廢水來源于氰化鍍銅、堿性氰化物鍍金、中性和酸性鍍金、氰化物鍍銀、氰化鍍 銅錫合金、仿金電鍍等含氰電鍍工序,廢水中主要污染物為氰化物、重金屬離子(以絡合 態(tài)存在)等。3、含六價鉻廢水含六價鉻廢水主要來源于鍍鉻、鍍黑鉻以及鈍化等
10、工序,廢水中主要污染物為六價鉻、 總鉻等。4、焦銅廢水焦銅廢水主要來源于焦磷酸鹽鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅錫合金等電鍍工序,廢水中主要污 染物為銅離子、磷酸鹽、氨氮及有機物等。5、化學鍍鎳廢水典型的化學鍍鎳工藝以次磷酸鹽為還原劑,廢水中主要污染物為鎳離子(以絡合態(tài)存 在)、磷酸鹽(包括次磷酸鹽、亞磷酸鹽)及有機物。6、化學鍍銅廢水典型的化學鍍銅工藝以甲醛為還原劑,廢水主要污染物為銅離子(以絡合態(tài)存在) 、有 機物。7、綜合廢水除上述六種廢水外, 其它各類電鍍廢水統(tǒng)稱為綜合廢水。 綜合廢水中主要污染物為酸、 堿、游離重金屬離子、有機物等。二 處理工藝設計1、前處理廢水 工藝選擇由于待鍍工件材質、表面狀態(tài)
11、、污染物質和生產工藝不同,所產生的前處理廢水污染 物種類和濃度差別較大,所以應根據(jù)車間前處理工藝和擬鍍工件的實際情況進行分析,確 定合理的前處理廢水處理工藝。 若前處理廢水中CODc濃度低于250mg/L,則該廢水可以直接排入綜合廢水處理系 統(tǒng)合并處理。 若前處理廢水中CODc濃度高于800mg/L,應設計生化處理系統(tǒng)。除前處理廢水外, 電鍍車間其它工序產生的含有較高濃度 CODcr廢水(如經預處理后的化學鍍鎳廢水、化學 鍍銅廢水、焦銅廢水等)也應一并納入該生化處理系統(tǒng)。 若前處理廢水中CODcr濃度介于250mg/L800mg/L,則需根據(jù)前處理廢水占總廢 水量的百分比,及混凝沉淀或氣浮的
12、CODc去除率,確定是否增加生化處理工藝 若前處理廢水中石油類含量大于50mg/L,需隔油預處理;若廢水中的石油類以乳化油形式存在,則需進行破乳預處理,破乳可采用酸化破乳、混凝劑破乳或電解破乳。 工藝流程圖水量較大,石油類和COD濃度較高的前處理廢水一般采用圖1所示的處理工藝流程,該工藝選用水解酸化 +接觸氧化的生化處理工藝,但也根據(jù)實際情況選用其它生化處理工 藝。酸/堿 PAC PAMpHJJJ前處理廢水隔油池調節(jié)池pH調整池快混池慢混池J干泥餅外運-污泥脫水系統(tǒng)污泥濃縮池-沉淀池/氣浮機J排放生化沉淀池接觸氧化池水解酸化池pH回調池酸圖 1 前處理廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)pH
13、 調整池內控制pH值10-10.5。pH 回調池內控制pH值7.0-8.0 。水解酸化池內控制溶解氧小于 0.3mg/L。接觸氧化池內控制溶解氧在 2.0-4.0mg/L 之間。2、含氰廢水3、含六價鉻廢水 工藝選擇含六價鉻廢水的處理方法包括化學還原法、離子交換法、電解法等,根據(jù)深圳電鍍企 業(yè)的實際情況,一般采用化學還原法處理工藝。 化學反應機理在酸性條件下還原劑將六價鉻還原成三價鉻,還原劑可采用硫酸亞鐵、亞硫酸鈉、亞 硫酸氫鈉、焦亞等。六價鉻的還原反應方程式如下:2HCr2O+6NaHSO3HSA 2Cr2(SO) 3+3NaSO+8HOHCr2O+3NaSO+3HSQ Cr2(SO) 3+
14、3NaSO+4HOCr22-+6Fe2+14HI 2Cr3+6FeT+7HO 工藝流程圖水量較大一般采用連續(xù)處理方式,工藝流程見圖3。若水量較少,則可采用間歇式還原方式。酸+還原劑PAC PAMpHJ ORP JJ含鉻廢水調節(jié)池f還原池f快混池f慢混池f沉淀池J綜合廢水調節(jié)池圖 3 含六價鉻廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)還原池內控制pH值為2-3 , ORPfi為250-300mV4、焦銅廢水 工藝選擇焦銅廢水的處理方法包括鈣鹽沉淀法、硫化物沉淀法、酸性水解法等,根據(jù)深圳電鍍企業(yè) 的實際情況,一般采用鈣鹽沉淀法處理工藝。 化學反應機理焦銅廢水的破絡反應方程式如下:P2O4-+2Ca+
15、Ca2RO J焦銅廢水的化學混凝反應方程式如下:CiT+2OFW Cu(OH); 工藝流程圖水量較大的焦銅廢水一般采用圖 4 所示的處理工藝流程, 本工藝流程選用水解酸化 +接觸氧 化的生化處理工藝,但也可根據(jù)實際情況選用其它生化處理工藝。 水量較小的焦銅廢水可 經物化預處理后并入綜合廢水處理系統(tǒng)。石灰 PAC PAMpH焦銅廢水調節(jié)池pH調整池快混池慢混池沉淀池pH回調池干泥餅外運-污泥脫水系統(tǒng)污泥濃縮池生化處理系統(tǒng)排放圖 4 焦銅廢水典型處理工藝流程 主要工藝控制參數(shù)pH 調整池內控制pH值10-11 0pH 回調池內控制pH值7.0-8.55、化學鍍鎳廢水6、化學鍍銅廢水 工藝選擇化學鍍銅廢水一般采用硫化物沉淀法0 化學反應機理化學鍍銅廢水反應的化學方程式如下:CiT+sTCuSj 工藝流程圖水量較大的化學鍍銅廢水一般采
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