例行簡(jiǎn)易操作步驟(精)

1、JEM-2010例行簡(jiǎn)易操作步驟確定 SIP VACUUM < 5 X 10 -5 Pa 4. FILAMENT ONi 2.升壓加200KV5.檢查試片位置是否歸零確定SF6氣壓6. 確定D V值為+0ii設(shè)定 MAG X 40KTEM 1-3 OR 2-3YES檢查DV是否為0P AGE-1NOIj 調(diào)整 OBJ FOCUS KNOB 使 DV= +0YESBEAM是否在NO使用Bright-Tilt - Shift X. Y 調(diào)至中央11SCREEN CENTER ?YESi TEM 1-3 時(shí)調(diào)GUN i SHIFT X,Y CENTER改變 SPOT-SIZE 由 1-3NOi

2、 TEM 3-3 時(shí)調(diào)BRIGHT-TILT! Shift X, Y CENTER!如此重覆至3-3時(shí)，BEAM是否在 -* CENTER?YES使用Cond STIG-DEF X, Y 來(lái)調(diào)整,NOBEAM 在收放的同時(shí)，是否使BEAM成圓形呈現(xiàn)橢圓形變化?YES轉(zhuǎn)動(dòng) Brightness, Beam 是NOi 使用 CL APERTURE X. Y 來(lái) CENTER BEAM否呈現(xiàn)同心圓收放?使用Z軸來(lái)FOCUS SAMPLEYESVOLTAGE觀(guān)察倍率NOCENTER是否>50K?OK?YESIv=x-* f*y 調(diào)整BRIGHT-TILTi1L_DEF X, Y使其呈最小的晃動(dòng)！

3、11找到所需的位置放入OL APERTUREOL APERTURE 是否在 CENTER?NO/ 調(diào)整 OL APERTURE X.Y 來(lái) CENTER - i In DIFF MODE;是否有OL像差Noj 調(diào)整OBJ STIG存在?；DEF X.Y 至IMAGE最清楚調(diào)整適當(dāng)?shù)钠毓鈺r(shí)間 約 24 Sec.並按下 Photo Twice 送片照相即可儀器及真空狀態(tài)之準(zhǔn)備動(dòng)作1.2.3.4.5.6.TEM 例行操作 JEOL 2010 Alignment )確定 SIP VACUUM < 5 X 10 -5 Pa確定 SF6 氣壓,P1 > 0.01 Mpa, P 2 > 0

4、.3 MpaFILAMENT ON升壓至200 KV檢查試片位置是否歸零（按滑鼠旁之stage panel中之”N”鍵調(diào)整之）確定D V值為+0（以O(shè)BJ-FOCUS鈕調(diào)整之） （一）電子槍線(xiàn)圈傾斜校準(zhǔn)（Gun tilt,在FEG時(shí)為An ode wobbler）1. 試片移開(kāi)螢?zāi)唬堵收{(diào)至15K。2.Spot size 選用1，調(diào)整BRIGHTNESS鈕，將電子束縮為最小亮點(diǎn)，以 panel R2之Gun shift X,Y將亮點(diǎn)移至螢?zāi)恢醒?。（二）電子槍偏移校?zhǔn)（Beam shift）1. 倍率仍設(shè)為15K，Spot size換至3 （或5）。2. 以BRIGHTNESS鈕將電子束縮至最小

5、，以panel L1及panel R1之Beam shift X,Y將電子束移至正中心。3.將Spot size換回1 ,重複（一）-2之步驟以Gun shift X,Y調(diào)整，將電子束移至正中心。4.重覆1、2、3步驟，直到不論是Spot size 1或Spot size 3 （或5）時(shí)電子束皆在螢?zāi)徽行臑橹?。（三）飽和電流校?zhǔn)（Current density saturation, i.e. Gun Tilt 校準(zhǔn),正規(guī)操作步驟請(qǐng)參考備註6）法1：調(diào)Gun tilt （DEF X,Y），注意Page 1小螢?zāi)簧现瓹urrent Density值，當(dāng)達(dá)到最大值時(shí),此時(shí)得到最大亮度，意即達(dá)到飽

6、和電流。法2：調(diào)Gun tilt （DEF X,Y），目視螢?zāi)簧现畇pot亮度，當(dāng)感覺(jué)達(dá)到最大亮度時(shí)即為飽和電流。（四）聚焦鏡孔徑調(diào)整（Condenser Aperture）1.倍率調(diào)至15K ， Spot size 調(diào)至1或3 （或5）。2. 電子束縮至最小並調(diào)至中心。3.調(diào)BRIGHTNESS鈕將電子束重複放大縮小，同時(shí)調(diào)整 Condenser Aperture兩邊之縱軸及橫軸調(diào)整鈕，直到Beam Spot不隨電子束放大縮小而偏離圓心（意即：呈同心圓放大縮?。?。（五）聚焦鏡像差調(diào)整（Condenser Stigmatism）1.倍率調(diào)至15K，Spot size調(diào)至3 （或5）。2.調(diào)BR

7、IGHTNESS鈕將電子束縮至最小，以 Beam shift移亮點(diǎn)至中心。3. 順時(shí)針及逆時(shí)針地旋轉(zhuǎn)BRIGHTNESS，此時(shí)亮點(diǎn)若呈橢圓展開(kāi)，按下panel L1之CondStig鍵，一邊旋轉(zhuǎn)BRIGHTNESS 一邊調(diào)整panel L1及panel R1之DEF X,Y鈕直到亮點(diǎn)呈圓形為止。4. 調(diào)整完後按回Cond Stig鍵還原。（六）a.影像搖擺調(diào)整（Wobbler,功能在使調(diào)beam tilt時(shí)影像不會(huì)shift）1.以brightness將spot縮成直徑約5mm 之亮點(diǎn)，切Image wobbler switch 至X，按右下鍵盤(pán)TILT鈕，調(diào)Image wobbler adj

8、 X（左邊兩個(gè)）使兩亮點(diǎn)重疊在中央，切Image wobbler switch至丫，調(diào)Image wobbler adj 丫（右邊兩個(gè)）使兩亮點(diǎn)重疊在中央。2.將Tilt 鈕及 Image wobbler switch 還原。b.繞射點(diǎn)搖擺調(diào)整（Wobbler,功能在使調(diào)beam shift時(shí)影像不會(huì)tilt;此部分之操作條件不易變化）1.倍率調(diào)至15K。2.以Brightness右轉(zhuǎn)到底，此時(shí)會(huì)聽(tīng)至H ”畢”一聲（代表已超越儀器之過(guò)焦?fàn)顟B(tài)極限），調(diào)DIFF-focus使呈Caustic Spot亮點(diǎn)（一般為逆時(shí)針?lè)较颍?，此時(shí)Caustic Spot呈現(xiàn)一類(lèi)似 Benzu 的 mark形狀，切

9、 COND DEF ADJ 至X,按右下鍵盤(pán) SHIFT 鈕，調(diào) Image Wobbler adj X （左邊兩個(gè)，Shift-X 及DEF-X）使Caustic Spot亮點(diǎn)重疊，切 COND DEF ADJ 至Y，調(diào) Image wobbler adj Y （ _右邊兩個(gè),Shift-Y 及DEF-Y）使Caustic Spot 重疊。3. 將DIFF-focus, BRIGHTNESS, SHIFT鈕及COND DEF ADJ X, Y 還原。（七）電流中心調(diào)整（Current center,低倍率校準(zhǔn)）1.首先做影像聚焦 （Image Focus）法1:將最尖點(diǎn)移至中央，按下Imag

10、 X或Imag 丫，此時(shí)會(huì)見(jiàn)到影像成雙影，是為defocus狀態(tài)，以Z-N及Z-A調(diào)整stage高度，使雙影之影像重疊成單一影像，此時(shí)試片影像為 in-focus狀態(tài)（以上稱(chēng)之為試片初步聚焦）。法2:將試片薄區(qū)邊緣置入spot中，以ZR及Z調(diào)整stage高度，直到薄區(qū)邊緣之稜線(xiàn)模 糊時(shí)即已聚焦。法3 :將試片置入spot中，調(diào)BRIGHTNESS使spot縮到最小，此時(shí)會(huì)見(jiàn)到除中間亮點(diǎn)外 尚有其他圍繞的繞射亮點(diǎn)或光圈，以 ZR及Z調(diào)整stage高度，直到繞射圖譜上的繞射點(diǎn)或繞射環(huán)縮到只有一個(gè)單點(diǎn)為止（本法適用於晶型材料）。2.選擇試片緣尖端處,按panel R2之WOBBLER-OBJ後，再按

11、Brightness tilt 鍵，調(diào)整panelL1及R1之Bright tilt-DEF X,Y 使尖端置於中央且最不易晃動(dòng)的狀態(tài)。（八）中間鏡、投影鏡校準(zhǔn)（INT stig and Projector）1.調(diào)BRIGHTNESS將spot散開(kāi)，試片移開(kāi)。2.壓DIFF鈕，聚焦DIFFRACTION mode，調(diào)整DIF focus使繞射點(diǎn)變小。3.壓STIGMATOR-INT，調(diào)整Gun Shift之DEF X,Y鈕，使繞射點(diǎn)成正圓。4.壓DEFLECTOR-PROJ，調(diào)整Gun Shift之SHIFT X,Y鈕，移動(dòng)繞射點(diǎn)至正中心。註：DIFF-FOCUS之聚焦:置入試片使繞射點(diǎn)產(chǎn)生，

12、套入 Obj Aperture輔助聚焦，於Diffraction Mode下調(diào)整DIFF鍵旁之DIFF-FOCUS旋鈕直到外光暈之Obj Aperture輪廓最明顯時(shí)退除Obj Aperture（詳細(xì)步驟請(qǐng)考備註7）。（九）電壓中心校準(zhǔn)（Voltage center,高倍率校準(zhǔn)x 100K以上）1.執(zhí)行此步驟前需先確定步驟（七）-1，以確定影像是否聚焦。2.倍率調(diào)至100K，調(diào)整影像在in focus狀態(tài)。3.在試片上找一處尖銳處，將其尖端移至螢?zāi)恢醒搿?.按下panel R1之HI鍵（wobbler），觀(guān)察影像閃動(dòng)時(shí)該尖端是否離開(kāi)中心點(diǎn)。5.若是，則按下 panel L1 之Brightne

13、ss tilt 鍵，調(diào)整panel L1 及panel R1 之DEF X,Y 鈕使尖端在螢?zāi)婚W動(dòng)時(shí)仍不偏離中心點(diǎn)。6.調(diào)整電子束至最小亮點(diǎn)，並將亮點(diǎn)移至中心。（十）物鏡像差調(diào)整（OBJ Stig,高倍率校準(zhǔn)咒200K以上）1.執(zhí)行此步驟前需先確定步驟（七）-1，以確定影像是否聚焦。2.倍率調(diào)在200K。3.在試片上選擇一邊緣處厚度較薄但均勻區(qū)，再搜尋一小洞或小突起物做為成像標(biāo)的物。4.初步調(diào)整panel R1之Brigh-Focus 鈕,使小洞或突起物影像一半在under focus狀態(tài)另一 半在overfocus 狀態(tài)。注意：一般小洞或突起物之邊緣在 underfocus邊會(huì)產(chǎn)生一道亮（白

14、）線(xiàn)，而在overfocus邊會(huì)產(chǎn)生一道暗（黑）線(xiàn)。5.按下OBJ STIG鍵，旋轉(zhuǎn)DEF X,Y鈕，使小洞或突起物邊緣均轉(zhuǎn)為亮線(xiàn)或均轉(zhuǎn)為暗線(xiàn),再調(diào)整OBJ-Focus鈕使小洞或突起物邊緣之明線(xiàn)或暗線(xiàn)同時(shí)消失，此時(shí)影像是在in-focus 狀態(tài)。6.按除OBJ STIG 鍵，去除 Objective stigmator 校正功能。備註1.本機(jī) 型之Con de nser Ap erture size除全開(kāi) 外共有 五種,每置換一個(gè)Co nde nserAperture 後必需重新 alignment。2.不同之spot size校正情況略有差別，一旦選定某一 spot size做校正後，若需換

15、另一 spotsize觀(guān)察時(shí)，需將alignment做微調(diào)。3.視使用者之需要條件而定，若觀(guān)察影像倍率不大，可忽略”十）物鏡像差調(diào)整”之校正。4. 於上述每一步驟完成之後，需再回頭反覆確定之前校正的每一步驟之校正情況。5.6.拍照有兩種模式供應(yīng)用 a.自動(dòng)模式：此時(shí)AUTO鍵亮b.手動(dòng)模式：由使用者自訂曝光時(shí)間，此時(shí)AUTO鍵不亮；拍照之程序必須按AUTO鍵兩次（第一次進(jìn)片，第二次才是 曝光），建議調(diào)整降Beam Current以增加曝光時(shí)間為25分鐘（注意：Beam Current與Exp Time之乘績(jī)?yōu)槌?shù)）。電流值過(guò)大而減短燈絲壽命，注意電流值勿超過(guò)112uA。燈絲飽和電流調(diào)整：本步驟

16、為正規(guī)但不建議，一般初學(xué)者常會(huì)因?yàn)椴徽２僮?，?dǎo)致a.先將放大倍率加大到約250K。b. 將Filament值降到零，從小電流值開(kāi)始調(diào)起，再慢慢加大電流值。c. 當(dāng)螢?zāi)簧嫌胁粚?duì)稱(chēng)的燈絲投影形狀時(shí)（對(duì)稱(chēng)的燈絲投影形狀為外圈邊緣四塊，中間為一亮點(diǎn)），調(diào)整bias使燈絲在螢?zāi)簧鲜蛊涑尸F(xiàn)發(fā)光時(shí)的幾何形狀（COARSE及FINE同時(shí)調(diào)大會(huì)使中間亮點(diǎn)與外圍環(huán)帶分開(kāi)，反之，則會(huì)合在一起），按Gun調(diào)整DEF X, Y使燈絲的幾何呈現(xiàn)對(duì)稱(chēng)此時(shí)亦可調(diào)整 COND-STIG之DEF X, Y修飾燈絲形狀。d. 稍微加大電流值，使對(duì)稱(chēng)的形狀消失而呈單一的亮點(diǎn)。7.e. 固定 Filament scale 的stop

17、per。 聚焦 DIFFRACTION Mode 步驟法 1： a.第一步取薄區(qū)按 DIFF進(jìn)入 DIFFRACTION MODE, 置入 OBJECTIVE-APERTURE轉(zhuǎn) DIFF-FOCUS 鈕 ,使得 DIFFRACTION-BEAM 外圍之光暈出現(xiàn),並轉(zhuǎn)動(dòng)DIFF-FOCUS鈕直到外圍之光暈達(dá)到最明顯為止。b.第二步去除OBJECTIVE-APERTURE 之後,再轉(zhuǎn)BRIGHTNESS使繞射點(diǎn)變小變細(xì), 此時(shí)可再微調(diào)DIFF-FOCUS使繞射點(diǎn)變小。法2: a.第一步取薄區(qū)按SAM/ROCK,置入FIELD-LIMITING-APERTURE, 此時(shí)需注意以FIELD-LIMI

18、TING-APERTURE 的邊緣作聚焦,調(diào)整DIFF-FOCUS鈕,使得邊緣之稜線(xiàn) 清楚為止。b.第二步去除 FIELD-LIMITING-APERTURE 之後，再進(jìn)入 DIFFRACTION MODE,轉(zhuǎn)BRIGHTNESS使繞射點(diǎn)變小變細(xì),此時(shí)可再微調(diào)DIFF-FOCUS使繞射點(diǎn)變小。8.恢復(fù)各功能原設(shè)定值：當(dāng)儀器操作參數(shù)被嚴(yán)重修改後，此時(shí)儀器狀況幾乎完全找不到BEAM 了,請(qǐng)按遭修改過(guò)之功能鍵活化該功能後 ,再按pan el R2中之” N ”鍵（n ature.回復(fù)之意）,若此時(shí)仍不見(jiàn)BEAM,則代表其餘功能鍵亦遭修改,請(qǐng)逐次按各功能鍵後 再按”鍵,以回復(fù)各功能之原設(shè)定值。Micro-area illumination mode(EDS, NBD, CBD) alignment :a. TEM mode alig nment 做完b.押CBD, spot size最大，«角順時(shí)針調(diào)最大c. 用 shift(Br