原子力顯微鏡探針-基于原子力顯微鏡

1、原子力顯微鏡探針-基于原子力顯微鏡    前言顯微觀測技術(shù)是人類視覺感官功能的延伸與增強，論文發(fā)表以光學顯微鏡、電子顯微鏡為代表的1系列先進顯微技術(shù)的出現(xiàn)與應用，為人類科技和社會的進步做出了巨大貢獻論文代寫然而1切都還沒有結(jié)束，科技是無止境的。1982年，IBM 公司蘇黎世實驗室的 G.Binning 和 H.Rohrer 發(fā)明了世界上第1臺掃描隧道顯微鏡( Scanning Tunnelling Microscope，簡稱 STM )。STM 儀器能夠提供人們前所未有的高空間分辨率，利用 STM，人類有史以來第1次在實空間觀察到了原子的晶格結(jié)構(gòu)圖像，為

2、人類認識微觀世界的奧秘提供了有力的觀察和研究工具。掃描隧道顯微鏡以它優(yōu)異的功能激起各國學者的極大關(guān)注，在它出現(xiàn)后的幾年中，已經(jīng)在物理學、材料科學、光電子學和微電子技術(shù)等領域中得到廣泛應用。但是，STM 的工作原理要求樣品必須是電的良導體，所以它只能用于研究導體和半導體材料。而大部分的材料是不導電的，在研究它們時必須在樣品表面覆蓋1層導電薄膜。這既大大地增加了制樣的難度，而且在很大程度上損失了樣品的細節(jié)信息1?？萍嫉倪M步往往是在對問題的不斷解決中實現(xiàn)的。1986年，IBM 公司的 G.Binning 和斯坦福大學的 C.F.Quate 及 C.Gerber 合作發(fā)明了原子力顯微鏡( Atomic

3、 Force Microscope，簡稱 AFM )，它是在掃描隧道顯微鏡基礎上，為了能夠直接觀察和研究非導電材料的表面形貌，經(jīng)過改進而發(fā)展起來的分子和原子級顯微工具。其不僅能從原子尺度上對導體、半導體表面進行成像，而且能獲得諸如玻璃、陶瓷等非導電材料的表面形貌，并能在真空、大氣和水中無損地直接觀察物體, 特別是能應用于生物樣品，可以進行活性的動態(tài)研究，幾乎無需進行樣品制備，因此是對 STM 應用的強有力發(fā)展。與此同時，掃描探針顯微技術(shù)也得到了蓬勃發(fā)展，相繼誕生了1系列在主要結(jié)構(gòu)和工作方式上與 STM 和 AFM 相類似的顯微儀器，例如，橫向力顯微鏡( LFM )，磁力顯微鏡( MFM )等儀

4、器技術(shù)，形成了1個掃描探針顯微鏡( SPM ) 家族。AFM 無疑是 SPM 家族中應用領域最為廣泛的表面觀察與研究工具之1。對比于現(xiàn)有的其它顯微工具，原子力顯微鏡以其高分辨率、制樣簡單、操作易行等特點而備受關(guān)注1,2。近年來，由于光電子器件潛在的巨大市場，使光電材料成為研究的重點，其中 ZnO 薄膜材料的研究是光電領域中國際前沿課題的熱點。如何提高異質(zhì)外延生長的 ZnO 薄膜的晶質(zhì)是當前這1國際熱點課題中的關(guān)鍵問題之1。現(xiàn)在用 AFM 觀測 ZnO 生長過程中幾個主要階段的表面形貌來探求優(yōu)化工藝與改善晶質(zhì)的方法，是1個前沿性課題。分析晶粒生長取向、大小、分布狀況等工作有利于研究 ZnO 的微

5、觀生長機理， 改善晶質(zhì)。為優(yōu)化生長工藝提出建議是目前 ZnO 薄膜制備研究的1個方向，相對于其它常規(guī)顯微鏡 AFM 在這方面起著舉足輕重的作用3,4。本文簡述了AFM 探測物體表面形貌的基本原理，闡述了AFM 的主要構(gòu)件、工作模式、功能及相對于其它顯微鏡的優(yōu)點；并利用原子力顯微鏡在常溫、常壓及大氣氛圍下采用輕敲模式掃描出 ZnO 薄膜表面形貌圖，然后利用 AFM 圖像處理及分析軟件對掃描圖像進行處理及分析，從而得到了 ZnO 薄膜表面形貌的特征，體現(xiàn)了AFM 在研究材料表面形貌方面的優(yōu)越性。     目 錄     

6、; 中文摘要及關(guān)鍵詞1前言1    1 原子力顯微鏡（AFM）21.1 AFM的物理基礎21.2 原子力顯微鏡的成像原理31.3 原子力顯微鏡的主要構(gòu)件和性能.31.3.1 激光器單元31.3.2 微懸臂單元31.3.3 壓電掃描單元41.3.4 光電檢測與反饋單元41.4 原子力顯微鏡的成像模式及特點41.4.1 接觸模式(Contact Mode)51.4.2 非接觸模式(Non-contact Mode)51.4.3 輕敲模式(Tapping Mode)51.5 原子力顯微鏡的功能61.5.1 表面形貌的表征61.5.2 表面物化屬性的表征61.5

7、.3 AFM的功能拓展61.6 原子力顯微鏡的優(yōu)點61.6.1 高的空間分辨率61.6.2 廣泛的試驗對象61.6.3 簡單易行的制樣過程71.6.4 多樣的試驗環(huán)境72 利用 AFM 對 ZnO 薄膜表面形貌進行研究72.1 ZnO 的基本結(jié)構(gòu)、特性及用途7    2.2 ZnO 薄膜的制備72.3 用 AFM 對樣品進行掃描82.4 利用AFM離線軟件系統(tǒng)對掃描圖像進行處理及分析92.4.1 AFM 離線軟件系統(tǒng)簡介92.4.2 掃描圖像的處理92.4.3 掃描圖像的分析113 結(jié)論與展望15參考文獻15英文摘要及關(guān)鍵詞16致謝16基于原子力顯微鏡（

8、AFM）的ZnO薄膜表面形貌研究摘要：本文簡述了原子力顯微鏡探測物體表面形貌的基本原理，具體地介紹了原子力顯微鏡4大核心構(gòu)件的性能：激光器、微懸臂、壓電掃描器、光電檢測器；簡單介紹了該儀器探測運行的3種模式：接觸模式、非接觸模式、輕敲模式，并指出了輕敲模式的獨到之處；強調(diào)了原子力顯微鏡所能進行的參數(shù)分析和數(shù)據(jù)處理功能，同時將原子力顯微鏡同其它表面探測儀器進行了比較，突出了原子力顯微鏡的優(yōu)越性。 ZnO 薄膜作為1種新功能材料，具有廣闊的應用前景，研究 ZnO 薄膜表面形貌的特征具有非常重要的意義。本文利用原子力顯微鏡研究了 CVD 法制備的 ZnO 薄膜的表面形貌特征，包括結(jié)晶取向、表面缺陷、

9、表面平整度、表面粗糙度、顆粒大小、顆粒形狀及其分布狀況等，同時也對原子力顯微鏡的圖像處理及分析軟件系統(tǒng)的1些功能作了簡要的介紹。 關(guān)鍵詞: 原子力顯微鏡（AFM）；ZnO 薄膜；表面形貌；圖像分析 Study on the surface topography of ZnO thin filmsby Atomic Force Microscope (AFM)Abstract：This paper has introduced the basic principles of Atomic Force Microscope (AFM) in detecting the surface topogr

10、aphy of samples shortly, and has reviewed the properties and functions of the four key components of AFM such as Laser, cantilevers, piezoelectric scanner and photoelectric diode concretely. It has also expatiated three kinds of running modes of this equipment such as contact mode, non-contact mode

11、and tapping mode in details, and has given the unique point of tapping mode, and has stressed on the idiographic function of the instruments parameter-analysis and data-processing, and has given prominence to the superiority of AFM according to the comparison and analysis between AFM and other surfa

12、ce detectors. ZnO is a new function material which will be widely used in the future. So studying the surface topography of ZnO thin films has great value. In this paper, ZnO thin films are prepared by CVD method, and the properties of their surface topography have been studied completely by AFM, including the direction of the grain growth, surface deficient, surface flatness,