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文檔簡介
1、Lab-on-a-chip汶顥芯片1微結(jié)構(gòu)的形成1經(jīng)典的光刻技術(shù)Photolithograph procedures for making glass template. (a) Spine coating of photoresist, (b) covered with photo mask, (c) exposure, (d) developing, (e) etching, and (f) removal of photoresist. 適合硅、玻璃、石英等材料,與傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工業(yè)的方法一致。 分為濕法和干法兩種,干法的分辨率較濕法高,相應(yīng)的制造成本也高。Analyst, 2004, 1
2、29, 305308芯片制作與修飾22模版澆注法(模塑法)Process overview for mass manufacturing of plastic microfluidic systems 適合聚合物材料。 大批量生產(chǎn)時成本低。Anal. Chem., 2002, 74, 78A-86A3微結(jié)構(gòu)的形成3模版熱壓法Schematic representation of the fa b r i cat i o n m e t h o d i nvo l v i n g hotembossing of thermoplastic polymer pellets and thermal
3、bonding. 適合熱塑性聚合物。Applied Physics Letters, 2002, 80, 3614-36164微結(jié)構(gòu)的形成微結(jié)構(gòu)的形成2022-7-8http:/5用激光直接在聚合物或玻璃上加熱形成微結(jié)構(gòu).Anal. Chem., 1997, 69, 2035 -2042 光刻機:光刻機/紫外曝光機(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準(zhǔn)光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、等工序Photolithograp
4、hy(光刻) 意思是用光來制作一個圖形(工藝);在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程。2022-7-86等離子清洗機(plasma cleaner):也叫等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,從而實現(xiàn)清潔等目的。2022-7-8http:/7數(shù)控機床:是數(shù)字
5、控制機床(Computer numerical control machine tools)的簡稱,是一種裝有程序控制系統(tǒng)的自動化機床。該控制系統(tǒng)能夠邏輯地處理具有控制編碼或其他符號指令規(guī)定的程序,并將其譯碼,用代碼化的數(shù)字表示,通過信息載體輸入數(shù)控裝置。經(jīng)運算處理由數(shù)控裝置發(fā)出各種控制信號,控制機床的動作,按圖紙要求的形狀和尺寸,自動地將零件加工出來。數(shù)控機床較好地解決了復(fù)雜、精密、小批量、多品種的零件加工問題,是一種柔性的、高效能的自動化機床,代表了現(xiàn)代機床控制技術(shù)的發(fā)展方向,是一種典型的機電一體化產(chǎn)品。2022-7-8http:/8注射泵:注射泵由步進(jìn)電機及其驅(qū)動器、絲桿和支架等構(gòu)成,具有往復(fù)移動的絲桿、螺母,因此也稱為絲桿泵
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