標準解讀

《JJF 1967-2022 激光衍射法反射光柵校準規(guī)范》是一份針對利用激光衍射技術(shù)進行反射光柵校準的標準文件。該標準主要適用于通過激光衍射方法對各種類型的反射光柵(包括但不限于平面反射光柵和平凹反射光柵)進行測量與校準工作,旨在確保這些光柵在科學(xué)研究、工業(yè)應(yīng)用等領(lǐng)域中的性能穩(wěn)定可靠。

標準詳細規(guī)定了采用激光衍射法進行反射光柵校準時所需遵循的技術(shù)條件和程序,涵蓋了從實驗準備到數(shù)據(jù)處理的全過程。其中,對于實驗環(huán)境的要求尤為嚴格,比如溫度控制、振動隔離等,以保證測試結(jié)果的準確性不受外界因素干擾。此外,還明確了不同規(guī)格光柵所適用的具體測試參數(shù)設(shè)置及相應(yīng)計算公式,幫助技術(shù)人員準確地完成校準任務(wù)。

在實際操作過程中,《JJF 1967-2022》強調(diào)了對設(shè)備狀態(tài)檢查的重要性,要求在每次使用前都需對相關(guān)儀器進行全面檢查,并記錄下所有可能影響最終結(jié)果的因素。同時,也提出了關(guān)于如何正確處理和保存數(shù)據(jù)的方法指導(dǎo),以及如何根據(jù)實驗結(jié)果來評估反射光柵質(zhì)量等級的標準流程。

此標準不僅為從事反射光柵研發(fā)、生產(chǎn)和檢測的專業(yè)人士提供了科學(xué)依據(jù)和技術(shù)支持,也為促進我國乃至國際上該領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)水平的整體提升發(fā)揮了積極作用。


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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2022-04-29 頒布
  • 2022-10-29 實施
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JJF 1967-2022 激光衍射法反射光柵校準規(guī)范_第1頁
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文檔簡介

中華人民共和國國家計量技術(shù)規(guī)范

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

校準規(guī)范

CalibrationSpecificationforReflectionGratings

byLaserDiffraction

2022-04-29發(fā)布2022-10-29實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

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校準規(guī)范??

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GratingsbyLaserDiffraction

歸口單位全國新材料與納米計量技術(shù)委員會

:

主要起草單位中國計量科學(xué)研究院

:

參加起草單位同濟大學(xué)

:

本規(guī)范委托全國新材料與納米計量技術(shù)委員會負責(zé)解釋

JJF1967—2022

本規(guī)范主要起草人

:

殷聰中國計量科學(xué)研究院

()

石春英中國計量科學(xué)研究院

()

參加起草人

:

王建波中國計量科學(xué)研究院

()

程鑫彬同濟大學(xué)

()

鄧曉同濟大學(xué)

()

JJF1967—2022

目錄

引言

………………………(Ⅱ)

范圍

1……………………(1)

引用文件

2………………(1)

術(shù)語和計量單位

3………………………(1)

光柵

3.1…………………(1)

反射光柵

3.2……………(1)

間距

3.3…………………(1)

平均間距

3.4……………(1)

利特羅結(jié)構(gòu)

3.5…………(1)

利特羅角

3.6……………(1)

二維光柵正交性

3.7……………………(1)

概述

4……………………(2)

計量特性

5………………(2)

校準條件

6………………(2)

環(huán)境條件

6.1……………(2)

測量標準及其他設(shè)備

6.2………………(3)

校準項目和校準方法

7…………………(3)

一維反射光柵平均間距

7.1……………(3)

二維反射光柵平均間距

7.2……………(4)

二維反射光柵正交性

7.3………………(4)

校準結(jié)果表達

8…………(5)

復(fù)校時間間隔

9…………(5)

附錄校準記錄內(nèi)容

A…………………(6)

附錄校準證書內(nèi)頁內(nèi)容

B……………(11)

附錄不確定度評定示例

C……………(13)

附錄衍射法測量反射光柵間距的原理

D……………(22)

JJF1967—2022

引言

本規(guī)范依據(jù)通用計量術(shù)語及定義國家計量校準規(guī)范編寫

JJF1001《》、JJF1071《

規(guī)則編制參考了納米技術(shù)人造光柵的描述測量和幾何

》,IEC/TS62622:2012《,

量的質(zhì)量參數(shù)

》(Nanotechnologies—Description,measurementanddimensionalquality

一維光柵比對

parametersofartificialgratings)、Nano4(Nano4comparisonon1Dgrat-

二維光柵比對測量不確定度的評

ings)、Nano5(Nano5comparisonon2Dgratings),

定按照測量不確定度評定與表示進行

JJF1059.1《》。

本規(guī)范為首次發(fā)布

。

JJF1967—2022

激光衍射法反射光柵

校準規(guī)范

1范圍

本規(guī)范適用于平均間距為能觀測到衍射現(xiàn)象的一維或二維反

(140~2000)nm、

射光柵的校準

。

2引用文件

本規(guī)范引用了下列文件

:

光學(xué)儀器術(shù)語

GB/T13962—2009

凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本規(guī)范凡是不注日期的引用文

,;

件其最新版本包括所有的修改單適用于本規(guī)范

,()。

3術(shù)語和計量單位

光柵

3.1grating

一種表面排列大量精細的相互平行的等距的周期性的相同的結(jié)構(gòu)的光學(xué)器

、、、、

件其周期性結(jié)構(gòu)既可以是直線陣列也可以是沿直線排列的點陣

。,。

注:此處光柵的定義與/—《光學(xué)儀器術(shù)語》中光柵的定義不同。此處的

GBT1396220096.139

定義僅針對被校準對象的特征。

反射光柵

3.2reflectiongrating

入射光與衍射光在光柵工作面同一側(cè)的衍射光柵

。

間距

3.3pitch

光柵上相鄰結(jié)構(gòu)之間的距離

。

注:單位為。

1nm

注:一般用結(jié)構(gòu)的中心距確定間距,有些情況下也可以用結(jié)構(gòu)的邊界確定間距。

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