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簡明操作指南冷啟動步驟1UPS翻開墻上空氣開關(guān),確認UPS后面電池開關(guān)翻開,按前面面板上On鍵至兩個綠燈亮。2On1和制冷指示燈亮。檢查出水口壓力在2~3bar。出水口壓力可由壓力表下方閥門調(diào)整。Res鍵。3確認空氣壓縮機上啟動閥門上開關(guān)為“I”狀態(tài)。檢查輸出氣壓為5~6bar。4、確認主機后兩個電源開關(guān)狀態(tài)為On。此時,主機前面板上紅燈亮。5說明:前級真空泵進入工作狀態(tài),分子泵、潘寧計和離子泵自動挨次啟動。6按下綠鍵后,電腦會自動啟動,輸入計算機密碼:7SmartSEM軟件。用戶名:system 密碼:8留意:當SystemVacuum<2×10-5mBar時,會自動翻開CIV閥門(columnisolationvalve),并啟動離子泵。GunVacuum=<5×10-9mBar時,可啟動燈絲。假設(shè)長期停機,需做烘烤。910TV,檢查樣品臺。11、裝樣品(見其次局部)。12、加高壓(EHT)。13、觀看樣品。待機狀態(tài)1(EHT)。2SmartSEM軟件。留意:分兩步,先關(guān)用戶界面UserInterface,后關(guān)后臺程序EMServer。3Windows。4EBSD。5此時,電子光學系統(tǒng)、樣品臺及檢測系統(tǒng)電源關(guān)閉。電鏡真空系統(tǒng)和燈絲連續(xù)工作。待機狀態(tài)啟動1按下綠鍵后,電腦會自動啟動,輸入計算機密碼:2SmartSEM軟件。用戶名:system 密碼:34關(guān)機步驟1(EHT)和燈絲。2SmartSEM軟件。留意:分兩步,先關(guān)用戶界面UserInterface,后關(guān)后臺程序EMServer。3、關(guān)Windows。4、關(guān)能譜、EBSD。5~10秒鐘。等待電子光學系統(tǒng)、樣品臺及檢測系統(tǒng)電源關(guān)閉。6789UPS。10、必要時,關(guān)墻上空氣開關(guān)。烘烤步驟1(EHT)和燈絲關(guān)閉。2先松開四顆螺絲,拔出高壓頭。3GunMonitor。GunVacuumSystemVacuum參數(shù),時間間隔1s。4菜單欄Tools→gotopanel→bakeout,翻開Bakeout界面,設(shè)定加熱時間8~20h,冷卻時間設(shè)為2h,開頭。5完畢后檢查槍真空值,一般小于1×10-9mBar。關(guān)閉GunMonitor。插入高壓頭,鎖緊。二、換樣品1在備用樣品座上裝好樣品,并記錄樣品外形、編號和位置。留意:各樣品觀看點高度根本全都。確認樣品不會脫落,并用洗耳球吹一下。23翻開TV,將EBSD等插入式探測器拉出。4點Vent等待~ 分鐘。留意:確認Zmoveonvent選上,這樣,放氣時樣品臺會自動下降。5留意:拉開艙門前,確認樣品臺已經(jīng)降下來,四周探測器處于安全位置。6留意:抓樣品座時戴手套,避開碰觸樣品。7留意:艙門上O圈有時會脫落,關(guān)門時勿夾到異物。8點擊Pump,等待真空就緒(留意Vacuum面板上真空狀態(tài))。等待過程中,可先移動樣品臺初步定位樣品。9加高壓,觀看樣品三、成像初步1翻開TV,移動樣品臺。升至工作距離約在5~10mm處,平移對準樣品??煞_stagenavigation幫助定位。2依據(jù)檢測要求和樣品特性,設(shè)定加速電壓;3、觀看樣品,定位觀看區(qū)。全屏快速掃描〔點擊工具欄上 選擇Inlens或SE2探頭;縮小放大倍數(shù)至最??;聚焦并調(diào)整亮度和比照度〔b鍵可設(shè)置粗調(diào)e或細調(diào)e;WD數(shù)值;必要時升降樣品臺,WD常用5~10mm;移動樣品臺X、Y,或使用CentrePoint(Ctrl+Tab鍵)定位;聚焦、放大至~5kX、再聚焦、定位;4ApertureWobbleApertureXYWobble。5選區(qū)掃描,依次調(diào)StigmationX、Y和聚焦,直到圖像最清楚。6進一步放大至~50kX、并進一步聚焦和消像散;全屏掃描,調(diào)亮度和比照度;BeamShiftCtrl+Tab定位成像位置;Mag設(shè)置所需放大倍數(shù);g面板選擇消噪模式〔一般用eg;選擇掃描速度和N值〔使ee在s左右為宜;Freezeon=endframeFreeze;等待掃描完成。7點擊鼠標中鍵〔滾輪〕或右鍵,彈出快捷菜單→Sendto→Tifffile;Save;同一樣品圖片再次存儲,直接左鍵點擊工具欄上 存儲完畢后,點擊unfreeze,點擊 快速掃描。四、根本應用1要求樣品枯燥;各樣品觀看點高度根本全都;確認樣品不會脫落,并用洗耳球吹一下;高真空模式觀看需確保樣品導電性和接地。枯燥方法:對一般潮濕樣品,直接晾干或用烘箱烘干。對生物樣品,先用液氮冷凍后,再用冷凍枯燥儀枯燥。固定方法:對一般塊體樣品,用碳膠帶粘在樣品樁上。也可用帶彈簧夾的樣品座夾住。對粉末樣品,粘著在碳膠帶上后,需用洗耳球吹一下。導電處理:不導電樣品高真空模式下觀看,一般需蒸碳或鍍金。2EHT選擇。對于重元素樣品,一般選擇EHT>5kV,以獲得較好區(qū)分率。對于輕元素樣品,為減小電子穿透深度,可選擇EHT<5kV,以增加淺外表信號。3探測器EHTWD成像特點Inlens≤20kV2~10mmEHT效果好SE2無限制>5mm具有陰影效應,立體感較好,低倍效果好AsB一般≥10kV5~10mm反響元素襯度VPSE5~15mm低真空模式下形貌像4AsB背散射探測器使用步驟。InlensSE2探測器調(diào)好圖像,再切換至AsB探測器,翻開D把握界面〔菜單欄→D,設(shè)置Dh;80%左右。5VP模式使用。適用于不導電樣品形貌觀看,步驟如下:VacuumGotoVPVPtarget=60Pa左右。選擇VPSE探測器,可調(diào)高VPSE偏壓至~80%,以增加信號強度,假設(shè)消滅亮暗條紋,則適當降低VPSE偏壓。VPtarget60~80Pa可完全消退。拍照完成后,需退出VP模式,Vacuum面板中點擊GotoHV。6適用于巖石、斷口等凹凸起落較大的樣品。使用時,Aperture面板中選上HighCurrent。使用完畢后,取消HighCurrent。730um標準光闌:束流強度適中,區(qū)分率最好,適用于拍高倍圖像。另外,低EHT效果較好。60、120um光闌:束流較強,區(qū)分率稍差,適用于拍低倍圖像和采集EDX、EBSD譜。五、常見問題問題樣品臺無法移動樣品臺移動無法停頓樣品臺狀態(tài)始終是Busy抽真空時間太長電子槍真空較差圖像無法存盤停電
解決方案Stage面板上點Stagestop,報告蔡司效勞工程師。F12Break鍵強制停頓。檢查操縱桿能否復位,并嘗試禁用操縱桿。放氣,取出樣品,檢查樣品倉門O圈,重抽真空。假設(shè)15分鐘內(nèi)未能到就緒狀態(tài),報告蔡司效勞工程師。檢查水位,加水,按Res鍵。假設(shè)缺水報警頻繁,有漏水,報告蔡司效勞工程師。Gunvacuum5×10-9mBar以下,需做烘烤。燈絲正常工作時,Gunvacuum一般小于5×10-9mBar按下黃鍵待機,等待~20s后,再按綠鍵重啟,一般重啟后需做樣品臺初始化。樣品外表導電性或接地不好,重制樣,可蒸碳或鍍金改善導電性。場地有振動或磁場干擾,也可能減震氣墊系統(tǒng)漏氣。清理磁盤。鼠標右鍵點擊C盤→屬性→清理磁盤,刪除全部垃圾文件。停電前關(guān)機。假設(shè)停電時間較短,UPS電量夠用,可關(guān)至待機狀態(tài)。六、日常維護房間溫度房間濕度房間衛(wèi)生電子槍真空引出電流樣品倉氮氣電腦
周期 說明每天 記錄,嚴格把握在17~25oC每天 記錄,相對濕度<65%每周 清理房間灰塵每周 記錄,極限系統(tǒng)真空值<5×10-6mBar每周 記錄,燈絲開時Gunvacuum<5×10-9mBar每周 記錄EHT開關(guān)前后引出電流值,EHT=10kV每月 測試并記錄,由放氣狀態(tài)抽到就緒狀態(tài)的時間。一般不超過10分鐘。每月 檢查清理,樣品倉內(nèi)或樣品臺上假設(shè)有異物,可用吸塵器清理,或用無塵布擦。留意勿碰觸探測器。每月 假設(shè)覺察樣品臺導航器或坐標值不準確,馬上做樣品臺初始化。每月 出口輸出氣壓0.2~0.3Bar每季 出口輸出氣壓5~6Bar每季 檢查水位。翻開水箱旋鈕,檢查并加水。工作時,水壓在2~3Bar,水溫在18~22oC每季 檢查油位,必要時,加油。每年 整理文件夾;清理磁盤,刪除全部臨時文件和舊壓縮文件。附錄一、專業(yè)詞匯Airlock樣品交換室Annotation標注Aperture光闌Bakeout烘烤Column鏡筒ColumnchambervalveColumnIsolationvalve(CIV)鏡筒隔離閥Cycletime
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