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2021年全球和中國離子注入機發(fā)展現(xiàn)狀分析一、離子注入機產業(yè)地位及概述1、產業(yè)定位離子注入機主要應用于半導體和光伏領域,半導體領域中屬于晶圓制造設備,主要用于晶圓制造流程中的注入(摻雜)工序,主要方式和目的是通過加入少量雜質使得原本導電性能很差的純凈硅變?yōu)橐环N有用的半導體。通過離子注入機的加速和引導,將需摻雜離子以離子束形式入射到材料中去,發(fā)生一系列理化反應從而優(yōu)化材料表面性能。2、分類狀況離子注入相較以往的高溫熱擴散法存在精確控制能量和劑量、均勻性好、純度高等優(yōu)點,已基本取代高溫熱擴散法成為主流工藝。根據離子束電流和束流能量范圍,一般可以把離子注入機分為低能大束流離子注入機、高能離子注入機和中低束離子注入機,應用存在區(qū)別,如高能離子注入機因電子束能量較高,主要用于深埋層。二、國內離子注入機政策背景在中美持續(xù)對弈、中方政策高度重視、國有基金資金助力的情況下,離子注入機的國產化進程正在加速到來。由于離子注入機在集成電路制造前道設備中的不可替代性和目前被美日龍頭企業(yè)壟斷的市場現(xiàn)狀,我國在政策上對離子注入機重視程度較高,在多項政策中將離子注入機的研發(fā)列為戰(zhàn)略發(fā)展目標。三、全球半導體設備整體現(xiàn)狀下游消費電子需求回暖,疊加汽車電子產業(yè)快速擴張,全球半導體產業(yè)景氣度高漲帶動半導體設備市場規(guī)模持續(xù)擴張,數(shù)據顯示,2021年全球半導體設備市場規(guī)模達1026.4億美元,經歷了2019年產業(yè)的整體萎縮,產業(yè)回彈規(guī)模更快。細分產品類型而言,晶圓制造設備種類眾多且技術壁壘深厚,如光刻機等產品價格極高,是半導體設備的主要組成部分,相較2020年結構(晶圓制造設備占比84%、封裝和測試分別占比9%和6%),封裝設備因銷售額同比增長87%左右,遠高于晶圓設備增速(44%)和測試設備(30%),占比提升至12%左右。離子注入機屬于半導體設備的關鍵設備,占比晶圓制造設備價值量4-6%左右。四、全球離子注入機現(xiàn)狀1、市場規(guī)模隨著下游消費電子領域回升和汽車電子等需求持續(xù)增長,2020-2021年全球半導體產業(yè)景氣度回升,離子注入機市場規(guī)模快速擴張,2019年達18億美元左右,根據半導體設備總體規(guī)模變化情況預測,預計2021年全球離子注入機市場規(guī)模將超過30億美元,2022年上半年來看,主要晶圓廠訂單減少,預計整體半導體設備領域增長將降速,離子注入機需求增長有限。2、市場結構目前,全球離子注入機仍以大束流離子注入機為主,數(shù)據顯示,大束流離子注入機占全部離子注入機市場份額的61%,中低束流離子注入機及高能離子注入機分別占比20%和18%。五、中國離子注入機現(xiàn)狀1、市場規(guī)模2016年中國離子注入機的市場規(guī)模約為23.22億元,2020年增長至44.53億元,年復合增長率為17.68%,近3年復合增長率為28.23%。從過去市場表現(xiàn)來看,國內市場規(guī)模增速均高于行業(yè)增速,未來隨著國內晶圓廠加速擴張,對離子注入機的采購需求將隨之快速增長,中國市場有望持續(xù)領跑全球增速。2、進出口目前高端集成電路離子注入機仍嚴重依賴進口,就數(shù)量而言,進口和出口整體皆表現(xiàn)為穩(wěn)步增長趨勢,進口增速略高于出口增速,尤其2021年國內半導體產也需求大幅度上升背景下,離子注入機進口量增加154臺,進口金額增長48.5%至9.13億美元,出口而言雖然出口量有所上升,但產品主要為中低端產品,對比進出口均價而言,單臺離子注入機進口均價是出口均價的40倍以上。3、進口來源地就我國離子注入機進口來源分布而言,美國是最大供給國,數(shù)據顯示2021年我國從美國進口234臺離子注入機,金額達6.11億美元,除此之外,日韓等半導體發(fā)展較快的發(fā)達國家也是進口關鍵來源國,分別從日本和韓國進口74和35臺。六、離子注入機競爭格局全球離子注入機的領先企業(yè)主要分布在中國、美國和日本,其中,中國大陸擁有凱世通和中科信兩家離子注入機行業(yè)的龍頭企業(yè),凱世通在光伏離子注入機方面遙遙領先。而美國則擁有近乎壟斷IC離子注入機市場的應用材料,以及Axcelis、等企業(yè),前者占據了70%左右的市場份額,而后者則占據了20%左右的市場份額。日本也擁

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