標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 16943-1997 是一項(xiàng)中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，全稱為《電子工業(yè)用氣體 氦》。這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)所使用的氦氣的質(zhì)量要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和儲(chǔ)存要求，旨在確保氦氣作為電子工業(yè)原材料時(shí)的純度與質(zhì)量，滿足該領(lǐng)域?qū)Ω呒兌葰怏w的嚴(yán)格需求。

標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容概覽：

  1. 范圍：明確了本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)生產(chǎn)中使用的氦氣，規(guī)定了其技術(shù)條件及試驗(yàn)方法。

  2. 規(guī)范性引用文件：列出了實(shí)施本標(biāo)準(zhǔn)時(shí)所依據(jù)或參考的其他相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和文件，這些文件對(duì)于理解和執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容是必要的。

  3. 術(shù)語(yǔ)和定義：雖然具體定義未列出，通常會(huì)包括氦氣純度、雜質(zhì)含量等基本概念的界定。

  4. 要求：

    • 純度：詳細(xì)規(guī)定了氦氣的最低純度要求，可能包括總雜質(zhì)含量的最大允許限值。
    • 雜質(zhì)含量：指定了氦氣中可能含有的各種雜質(zhì)元素（如氮、氧、氬等）的具體含量限制。
    • 物理化學(xué)性質(zhì)：可能包括了氦氣的壓力、溫度條件下的物化特性要求。

  5. 試驗(yàn)方法：

    • 描述了如何通過(guò)科學(xué)方法檢測(cè)氦氣的純度和雜質(zhì)含量，包括氣相色譜分析、光譜分析等手段。
    • 規(guī)定了采樣、預(yù)處理、分析過(guò)程的具體步驟和條件。

  6. 檢驗(yàn)規(guī)則：

    • 包括了產(chǎn)品出廠前的檢驗(yàn)項(xiàng)目、抽樣方案、判定規(guī)則等，確保每批產(chǎn)品的質(zhì)量符合標(biāo)準(zhǔn)要求。
    • 可能還包括了型式檢驗(yàn)和監(jiān)督檢驗(yàn)的具體安排。

  7. 標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、儲(chǔ)存：

    • 規(guī)定了氦氣容器上應(yīng)標(biāo)注的信息，如產(chǎn)品名稱、規(guī)格、批號(hào)、純度等級(jí)、生產(chǎn)日期等。
    • 對(duì)包裝材料、方式以及在運(yùn)輸和儲(chǔ)存過(guò)程中的環(huán)境條件（如溫度、壓力）提出了要求，以防止污染或變質(zhì)。

實(shí)施意義：

該標(biāo)準(zhǔn)的制定和實(shí)施有助于統(tǒng)一電子工業(yè)用氦氣的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)，保證生產(chǎn)過(guò)程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品的可靠性，促進(jìn)電子元器件和半導(dǎo)體制造業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。同時(shí)，也為氦氣供應(yīng)商提供了明確的質(zhì)量控制指標(biāo)，便于國(guó)內(nèi)外貿(mào)易中的品質(zhì)鑒定與交流。


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  • 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替，建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 16943-2009
  • 1997-08-13 頒布
  • 1998-05-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

Te71.100.20G86中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)CB/T16943一1997電子工業(yè)用氣體Gasesforelectronicindustry-Helium1997-08-13發(fā)布1998-05-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T16943-1997前本標(biāo)準(zhǔn)是根據(jù)SEMIC3.20-一92《鋼瓶裝氮標(biāo)準(zhǔn)》（1995年版）制定的，在技術(shù)要求上與之等同，檢驗(yàn)方法與之等效。在將SEMIC3.20—92轉(zhuǎn)化為本國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，結(jié)合我國(guó)的實(shí)際情況，刪去了SEMIC3.20—92中僅作為參考的物理常數(shù)和注釋等內(nèi)容，試驗(yàn)方法中增加了抽樣和氮?dú)饧兌葍蓷l，各項(xiàng)雜質(zhì)含量的測(cè)定，分別采用我國(guó)相應(yīng)的通用試驗(yàn)方法國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，同時(shí)對(duì)檢測(cè)限和標(biāo)樣要求按SEMI標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定進(jìn)行了適當(dāng)?shù)恼{(diào)整。以上變動(dòng)與SEMI標(biāo)準(zhǔn)無(wú)實(shí)質(zhì)性差異,并使標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)內(nèi)容更加完整。本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國(guó)化學(xué)工業(yè)部提出。本標(biāo)準(zhǔn)由化學(xué)工業(yè)部西南化工研究院歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：化學(xué)工業(yè)部西南化工研究院、四川石油管理局六菱化工公司。本標(biāo)準(zhǔn)主娶起草人：余中玉、戴啟文

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)電子工業(yè)用氣體GB/T16943-1997Gasesforelectronicindustry-Helium1范園本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)用氨氣的技術(shù)要求、檢驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志等,適用于以深冷法從天然氣、空氣或工廠弛放氣提取的高純度氮，在半導(dǎo)體及其器件生產(chǎn)中用作清洗氣、加壓氣，也用作載氣和保護(hù)氣等：分子式：He相對(duì)分子質(zhì)量：4.003(按1991年國(guó)際相對(duì)原子質(zhì)量)2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過(guò)在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí),所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB/T4844.1-1995工業(yè)氮?dú)釭B/T5832.1-86氣體中微量水分的測(cè)定電解法GB/T5832.2—86氣體中微量水分的測(cè)定露點(diǎn)法GB/T6285—86氣體中微量氧的測(cè)定電化學(xué)法GB/T8984.1一1997氣體中一氧化碳、二氧化碳和甲烷的測(cè)定氣相色譜法GB/T8984.3-1997氣體中總烴的測(cè)定火焰離子化法3要求電子工業(yè)用氮?dú)獾募夹g(shù)指標(biāo)應(yīng)符合表1的要求。表1技術(shù)指標(biāo)VM日指標(biāo)氨氣純度,10-99.9995一氧化碳和二氧化碳總含量,10-1.0氮含量,10-“2.0氧含量,10-0.5總烴(以甲烷計(jì))含量，10

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