GB/T 19921-2005硅拋光片表面顆粒測試方法

ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標準GB/T？19921—2005硅拋光片表面顆粒測試方法Testmethodofparticlesonsiliconwafersurfaces2005-09-19發(fā)布2006-04-01實施中華人民共和國國家質量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標準化管理委員會

GB/T19921-2005前本標準是參照SEMIM25—95《用于硅片檢驗系統(tǒng)的相對于乳膠球直徑的光點缺陷的校準片規(guī)程》、SEMIM35-0299F《使用自動檢查系統(tǒng)探測硅片表面特性的發(fā)展中的規(guī)范指南》、SEMIM50-1101《使用覆蓋的方法確定掃描表面檢查系統(tǒng)捕獲率和虛假計數(shù)率的測試方法》.ASTMF1620—96《應用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準掃描表面檢查系統(tǒng)的標準規(guī)程》ASTMF1621—96《對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準確性能力測定的標準規(guī)程》及SEMATECH技術轉移文件SEMATECH99083800D-TR《一個改進的高精度掃描校準標準的先進顆粒尺寸測量技術》等標準編制。本標準由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出，本標準由全國有色金屬標準化技術委員會歸口本標準起草單位：北京有色金屬研究總院本標準主要起草人：孫燕、盧立延、董慧燕、劉紅艷、翟富義本標準由全國有色金屬標準化技術委員會負責解釋，本標準為首次發(fā)布。

GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒沽污是影響半導體器件制造的重要因素，也是一個重要的材料驗收參數(shù)。但是到目前為止.國際上還沒有拋光片表面顆粒的測試方法標準,只有相關的幾個專業(yè)標準。為滿足我國硅材料的生產(chǎn)使用的需求，同時考慮到與國際相關標準的接軌.我們在對國際相關標準充分理解、吸收的基礎上.綜合我國硅材料的生產(chǎn)使用情況及國際上硅材料的生產(chǎn)和微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和現(xiàn)狀編制了本標準。本標準是一個硅拋光片表面顆粒測試的指導文件。從應用角度提出了對顆粒檢測的環(huán)境、設備、?；醇皽y量等方面的要求。

GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒測試方法范圍本標準規(guī)定了應用掃描表面檢查系統(tǒng)（SSIS)對硅拋光片表面顆粒進行測試、計數(shù)和報告的程序本標準適用于硅拋光片.也可適用于硅外延片或其他鏡面拋光片(如化合物拋光片)。本標準也可適用于觀測硅拋光片表面的劃痕、桔皮、凹坑、波紋等缺陷,但這些缺陷的檢測、分類依賴于設備的功能，并與檢測時的初始設暨有關?。罕緲藴噬婕暗姆椒ㄍǔ＿x用波長（488~633)nm的激光光源，最常用的是488nm的氬離子激光器；目前可測量的最小顆粒直徑約為0.06km或更小些。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標準,然而，鼓勵根據(jù)本標準達成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。ASTMF1620—96應用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準掃描表面檢查系統(tǒng)的標準規(guī)程(所有部分)ASTMF1621—96對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準確性能力測定的標準規(guī)程(所有部分)SEMIM1-0302硅單品拋光片規(guī)范3術語和定義下列術語和定義適用于本標準捕獲率Capturerate掃描表面檢查系統(tǒng)在一-確定的設置下運行時，檢查系統(tǒng)探測到的局部光散射體的乳膠球當量信號的概率。3.2動態(tài)范圍dynamicrange隨著一種測試條件的設定，掃描表面檢查系統(tǒng)可收集信號的覆蓋范圍33等效尺寸準確度cquivalentsizingaccuracy在拋光片上沉積的、特定標稱尺寸的、單個分散的聚苯乙烯乳膠球的測量尺寸分布的變化系數(shù)與由聚苯乙烯乳膠球狀懸浮體供應商所提供的球的標稱尺寸分布的變化系數(shù)之比、3.4延伸光散射體extendedlightscatterer種特征,比檢測設備的空間分辨率大。位于品片表面或近表面，因而引起了相對于品片周圍光