干膜培訓(xùn)講義

干膜培訓(xùn)講義第一頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日第一部分干膜基本知識(shí)1、干膜結(jié)構(gòu)

覆蓋膜（聚乙稀膜,Polyethylene，

即PE膜）光阻膜（Photo-resistDryFilm）支撐膜（聚酯膜,PolyesterPET膜，

俗稱(chēng)保護(hù)膜）第二頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、干膜的主要成分粘結(jié)劑(Binder,Epoxy-AcrylateOligomer)單體(Monomer，AcrylicSpecialMonomer)光引發(fā)劑(Photo-Initiator)染料(Dye)增塑劑(Plasticizer)增粘劑(AdhesionPromoter)

第三頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日3、干膜的反應(yīng)機(jī)理干膜在曝光(Exposure)過(guò)程中，波長(zhǎng)在310~430nm的紫外光光子,將其本身的能量(hν)傳寄給光引發(fā)劑,使其激活產(chǎn)生自由基，自由基與單體發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)(Cross-Linking)

,使光阻膜(Photoresist)由線形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化為立體交叉結(jié)構(gòu),將可溶性的-COOH官能團(tuán)包埋在立體結(jié)構(gòu)的中間,在堿性碳酸鈉溶液中不會(huì)溶解,達(dá)到圖形轉(zhuǎn)移的目的。

第四頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日4、HT-312干膜的基本性能內(nèi)層干膜使用的長(zhǎng)興干膜是HT-312干膜，它有以下一些特性：厚度：30±2μm顏色：曝光前綠色

曝光后藍(lán)色

附著力：25μm（曝光能量：7級(jí)/21級(jí)

曝光尺）解像度：LW/LS=25μm/25μm

（曝光能量：7級(jí)/21級(jí)曝光尺)

第五頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日以上所表達(dá)的附著力及解像度是指干膜在最佳曝光能量下得到的，當(dāng)曝光能量變化時(shí)其性能表現(xiàn)也隨之變化，這些變化關(guān)系可由以下圖表表現(xiàn)：曝光尺級(jí)數(shù)與附著力關(guān)系圖曝光尺級(jí)數(shù)與解像度關(guān)系圖第六頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日內(nèi)層工序流程圖第二部分內(nèi)層工序流程及原理基板前處理剝除PE膜貼膜曝光剝除PET膜顯影蝕刻褪膜第七頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日一、基板前處理1、原理或目的用化學(xué)或物理的方法去除油污、無(wú)機(jī)鹽類(lèi)及氧化物，達(dá)到重構(gòu)銅箔表面,使其有最大表面積的目的，以增加壓膜后干膜附著力,以提升后續(xù)制程之操作性。

第八頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、流程

化學(xué)處理

除油目的：去除銅面油污。噴淋壓力：2.0±0.5Kg/cm2其它：根據(jù)具體的除油藥水設(shè)定微蝕目的：去除表面氧化物，粗化銅面，使其表面積達(dá)到最大化。噴淋壓力：2.0±0.5Kg/cm2H2SO4濃度：1%~3%NPS濃度：100~150g/L溫度：35±2℃微蝕速率：30~60μinch水膜測(cè)試：≥15sec.烘干目的：烘干銅面水跡，使其保持一個(gè)

新鮮的銅表面。溫度：60~80℃水洗水洗第九頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日

磨板

酸洗目的：去除銅面無(wú)機(jī)氧化物。噴淋壓力：2.0±0.5Kg/cm2H2SO4濃度：3%~5%機(jī)械磨板目的：粗化銅面，使其表面積達(dá)到最

大化。

磨轆規(guī)格：500目磨痕要求：8~12mm水膜測(cè)試：≥15sec.烘干目的：烘干銅面水跡，使其保持一個(gè)

新鮮的銅表面溫度：60~80℃水洗水洗第十頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日二、貼膜1、原理或目的借由機(jī)械壓力及一定的溫度，使干膜緊密的附著于銅箔之上，以完成后工序作業(yè)。

PE膜卷轆銅面板熱轆干膜軸轆第十一頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、流程

預(yù)熱目的：加熱板面溫度，為貼膜做準(zhǔn)備。溫度：70~90℃速度：2.0~2.5m/min貼膜目的：將干膜貼在干凈的銅面上。壓力：3.5±0.5Kg/cm2溫度：105±5℃速度：2.0~2.5m/min出板溫度：45~65℃冷卻目的：將貼好膜的板通過(guò)翻板機(jī)冷卻

至室溫，再疊放一起，避免壓

傷干膜。第十二頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日三、曝光1、原理或目的通過(guò)紫外線感光，將曝光菲林的圖形轉(zhuǎn)移到板面的干膜上，受紫外線感光的部分將發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)。第十三頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、流程

曝光目的：

通過(guò)感光成像完成圖形轉(zhuǎn)移。曝光能量：25~60mj/cm2曝光尺：6~9級(jí)蓋膜（ETERTEC21級(jí)

曝光尺）第十四頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日四、顯影1、原理或目的將未曝光之干膜溶解，已曝光的部分則被保留下來(lái)，初

步形成內(nèi)層線路圖形。顯影的機(jī)制：干膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與弱堿溶液反應(yīng)生成可溶性物質(zhì)而溶解下來(lái)，顯影時(shí)活性基團(tuán)羧基-COOH在弱堿溶液如碳酸鈉的CO32-作用下，生成親水性集團(tuán)-COONa，從而把未曝光的部分溶解下來(lái)，曝光部分的干膜則不被溶解。-COOH+Na+CO32-

-

COONa+H+第十五頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、流程

顯影目的：未曝光之干膜溶解,顯現(xiàn)圖形。顯影液濃度：0.8?1.2%Na2CO3?H2O顯影溫度：28?32℃

顯影點(diǎn)：顯影缸長(zhǎng)的45?65%顯影時(shí)間：24?30seconds(30℃,50%b.p.)顯影壓力：1.5?2.0kg/cm2

水洗烘干目的：烘干銅面水跡，使其保持一個(gè)

新鮮的銅表面。溫度：60~80℃第十六頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日五、蝕刻HT-312干膜適用于酸性直接蝕刻的流程，參數(shù)根據(jù)板面

銅厚及線寬要求來(lái)調(diào)整。六、褪膜1、原理或目的蝕刻后將發(fā)生了交聯(lián)反應(yīng)的干膜從銅面上剝除，從而完

成整個(gè)內(nèi)層干菲林流程。第十七頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、流程

褪膜目的：蝕刻后將發(fā)生了交聯(lián)反應(yīng)的干膜從銅

面上剝除褪膜時(shí)間：20?60sec.褪膜溫度：40?60℃褪膜壓力：1.0?3.0kg/cm2

褪膜溶液濃度：2?4%NaOHsolution水洗烘干目的：烘干銅面水跡，使其保持一個(gè)

新鮮的銅表面溫度：60~80℃第十八頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日第三部分內(nèi)層各工段常見(jiàn)問(wèn)題及控制一、前處理

問(wèn)題描述問(wèn)題后果控制方法微蝕速率、磨痕測(cè)試不足影響干膜附著力，造成甩膜開(kāi)路每班定時(shí)測(cè)試微蝕速率、分析微蝕藥水或磨痕測(cè)試，發(fā)現(xiàn)不足立刻進(jìn)行調(diào)整。微蝕速率、磨痕測(cè)試過(guò)高表面銅厚損失過(guò)多，造成完成銅厚不足每班定時(shí)測(cè)試微蝕速率、分析微蝕藥水或磨痕測(cè)試，發(fā)現(xiàn)不足立刻進(jìn)行調(diào)整。板面未烘干板面有水跡，干膜不能附著于板面，造成甩膜開(kāi)路調(diào)整烘干溫度，清洗或更換烘干前的吸水海綿轆第十九頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日二、貼膜

問(wèn)題描述問(wèn)題后果控制方法板面垃圾、銅粉多形成膜下垃圾，造成開(kāi)路定時(shí)切割貼膜前銅面清潔膠紙（如每60塊切一次）。膜屑多形成膜下垃圾，造成開(kāi)路每次更換干膜時(shí)用酒精擦拭熱圧轆，并定時(shí)擦拭刀槽、吸盤(pán)，定時(shí)擦拭及更換切割刀片。出板溫度不足影響干膜附著力，造成甩膜開(kāi)路定時(shí)測(cè)量出板溫度，不足時(shí)調(diào)整預(yù)熱溫度或熱轆溫度或貼膜速度。第二十頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日三、曝光

問(wèn)題描述問(wèn)題后果控制方法曝光垃圾多形成曝光垃圾，造成開(kāi)路定時(shí)清潔曝光機(jī)臺(tái)、曝光框及曝光菲林（如每小時(shí)清潔一次）。曝光不良造成短路每班開(kāi)機(jī)前檢查：機(jī)臺(tái)抽真空度，要求≥80%抽真空延時(shí)設(shè)置，5-15秒曝光尺，6級(jí)-7級(jí)殘膠第二十一頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日四、顯影

問(wèn)題描述問(wèn)題后果控制方法顯影點(diǎn)過(guò)于靠前（＜45%）顯影過(guò)度，造成甩膜開(kāi)路定時(shí)測(cè)試顯影點(diǎn)及分析顯影藥水，調(diào)整顯影速度在要求范圍內(nèi)顯影點(diǎn)過(guò)于靠后（＞65%）顯影不凈，造成短路定時(shí)測(cè)試顯影點(diǎn)及分析顯影藥水，調(diào)整顯影速度在要求范圍內(nèi)第二十二頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日五、腿膜

問(wèn)題描述問(wèn)題后果控制方法褪膜不凈板面殘留干膜，影響AOI檢測(cè)添加NaOH在3%以上，適當(dāng)減慢褪膜速度。第二十三頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日第四部分內(nèi)層返工板的控制內(nèi)層返工板主要是注意板面銅厚損失過(guò)度造成完成表面銅厚不足，每次前處理?yè)p失的表面銅厚約為0.03-0.06mil,因此返工次數(shù)建議不要超過(guò)三次，此時(shí)損失的銅厚約為0.1mil。一、經(jīng)過(guò)前處理未貼膜的返工板

此類(lèi)板可直接再次前處理進(jìn)貼膜機(jī)，但建議再次前處理

在板邊打字嘜或打凹位做標(biāo)記。第二十四頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日二、已經(jīng)貼膜但未曝光的返工板

建議返工流程：全板曝光褪膜全檢板面打返工標(biāo)記再次進(jìn)入前處理其中全檢板面若發(fā)現(xiàn)有褪膜不凈等問(wèn)題時(shí)需要對(duì)其處理干凈后在進(jìn)入下一步。第二十五頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日三、已經(jīng)曝光的返工板

雖然是已經(jīng)曝光，但板面上還是有一些部位沒(méi)有曝光，

因此建議的返工流程還是如下：全板曝光褪膜全檢板面打返工標(biāo)記再次進(jìn)入前處理其中全檢板面若發(fā)現(xiàn)有褪膜不凈等問(wèn)題時(shí)需要對(duì)其處理干凈后在進(jìn)入下一步。第二十六頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日第五部分內(nèi)層干菲林常見(jiàn)缺陷及分析1、開(kāi)路

造成開(kāi)路的主要原因有：膜下垃圾（列舉為案例）曝光垃圾擦花干膜菲林松（甩膜）板面凹陷（板折）第二十七頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日判斷標(biāo)準(zhǔn)：這是一個(gè)比較典型的膜下垃圾的開(kāi)路，斷口兩頭有明顯的側(cè)蝕痕跡（俗稱(chēng)沙灘位），是干膜與板面之間有垃圾將干膜頂起，形成空隙，蝕刻時(shí)藥水滲入攻擊到銅面形成的。膜下垃圾來(lái)源改善方法板面垃圾1、定時(shí)保養(yǎng)、清潔前處理烘干段，包括風(fēng)

刀即風(fēng)機(jī)2、定時(shí)切割貼膜前銅面清潔膠紙，并清潔清

潔機(jī)的靜電轆。菲林碎1、更換干膜時(shí)用酒精擦拭熱圧轆；2、定時(shí)清潔、更換刀片；3、定時(shí)對(duì)貼膜機(jī)進(jìn)行保養(yǎng)，清潔吸盤(pán)及刀槽。膜下垃圾（案例）第二十八頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日2、短路、凸銅造成短路、凸銅的主要原因有：曝光不良(（列舉為案例）)顯影不凈顯影段垃圾反粘蝕刻段垃圾反粘蝕刻不凈第二十九頁(yè)，共三十二頁(yè)，2022年，8月28日判斷標(biāo)準(zhǔn)：這是由于曝光不良造成短路，形成大面積的短路，短路銅面與線路面平齊。曝光不良原因改善方法抽真空度不足抽真空度需達(dá)到真空滿程的80%以上，不足的通知維修部進(jìn)行調(diào)整。抽真空延時(shí)不足線寬＞3.0mil:抽真空延時(shí)設(shè)置5-8秒;