GB/T 9798-2005金屬覆蓋層鎳電沉積層

ICS25.220.40A29中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T9798-2005/ISO1458:2002代替GB/T9798-1997金屬覆蓋層鎳電沉積層Metalliccoatings-Electrodepositedcoatingsofnickel（ISO1458:2002,IDT)2005-10-12發(fā)布2006-04-01實(shí)施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T9798-2005/ISO1458：2002次前言引言1范圍2規(guī)范性引用文件3術(shù)語和定義·4需方應(yīng)向電鍍方提供的信息5服役條件號………6標(biāo)識7要求8抽樣附錄A(資料性附錄)各種服役條件號相對應(yīng)的服役條件舉例附錄B(規(guī)范性附錄)厚度測試方法·附錄C(規(guī)范性附錄）延延展性試驗(yàn)…附錄D(規(guī)范性附錄）鎳電沉積層含硫量的測定參考文獻(xiàn)

GB/T9798-2005/ISO1458:2002本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO1458：2002（金屬覆蓋層鎳電沉積層）本標(biāo)準(zhǔn)按（B/T1.1—2000的編輯要求對ISO1458:2002進(jìn)行了重新起草本標(biāo)準(zhǔn)對1SO1458:2002作了如下修改：-取消了ISO1458:2002的前言，重新起草了本標(biāo)準(zhǔn)前言;用"本標(biāo)準(zhǔn)"代替“本國際標(biāo)準(zhǔn)"：-其引用的國際標(biāo)準(zhǔn)中已有對應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)的改為對應(yīng)的國家標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)代替GB/T9798一1997《金屬覆蓋層鎳電沉積層》.本標(biāo)準(zhǔn)與GB/T9798一1997相比主要變化如下：增增加了引言部分：本版第5.6部分包含1997版第5部分內(nèi)容(1997版的5.1相當(dāng)本版的5:1997版的5.2.5.3相當(dāng)本版的6.1）.內(nèi)容作了適當(dāng)變動：-本版第7部分相當(dāng)于1997版第6、7、9部分.內(nèi)容作了適當(dāng)變動：-附錄內(nèi)容作了相應(yīng)的變動(1997版的附錄A、B、C、D、E、F；本版的附錄A、B、C、D)本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A是資料性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄B、附錄C、附錄D是規(guī)范性附錄本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國金屬與非金屬覆蓋層標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口。本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：武漢材料保護(hù)研究所、廣州市達(dá)志化工科技有限公司本標(biāo)準(zhǔn)起草人：楊真雷、蔡志華、何杰、毛祖國。本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：GB/T9798-1997。

GB/T9798-2005/IS01458：2002引無銅底層、有銅底層及無鉻面層的裝飾鍍鎳層適用于防止使用中的摩擦或觸摸導(dǎo)致鍍層變色或取代鉻作面層的鍍件。也適用于對變色要求不高的鍍件。耐蝕性取決于覆蓋層的種類和厚度。一般來說，相同厚度的多層鎳比單層鎳防護(hù)性能更好。

GB/T9798-2005/ISO1458:2002金屬覆蓋層鎳電沉積層范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾性和防護(hù)性鎳電沉積層的要求,以及在鋼鐵、鋅合金上銅-鎳電鍍層的要求。給出了不同厚度和種類鍍層的標(biāo)識,以及鍍件暴露于相應(yīng)服役條件下鍍層選擇的指南。本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定電鍍前基體金屬的表面狀態(tài),本標(biāo)準(zhǔn)不適用于未加工成形的板材、帶材、線材上的鍍層,也不適用于螺紋緊固件或密圈彈簧上的鍍層。GB/T9797規(guī)定了金屬基材上鎳+鉻、銅+鎳十鉻電鍍層的要求。GB/T12600規(guī)定了塑料上鎳十鉻、銅十鎳十鉻電鍍層的要求。GB/T12332和GB/T11379分別規(guī)定了工程用鎳、鉻電鍍層的要求規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件.其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件.其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB/T3138金屬鍍覆和化學(xué)處理與有關(guān)過程術(shù)語(GB/T3138—1995.neqISO2079:1981)GB/T4955金屬覆蓋層覆蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法(GB/T4955—1997,idtISO2177:1985）GB/T5270金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學(xué)沉積層)附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法（GB/T5270-1985.eqvISO2819:1980）GB/T6461—2002金屬基體上金屬和其他無機(jī)覆蓋層經(jīng)腐蝕試驗(yàn)后的試樣和試件的評級（ISO10289:1999.IDT)GB/T6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法（GB/T6462—1986,eqvISO1463：1982）GB/T6463金屬和其他無機(jī)覆蓋層度測量方法的評述（GB/T6463-1986.eqvISO3882:1986)GB/T10125—1997人造氣氮腐蝕試驗(yàn)鹽霧試驗(yàn)(eqvISO9227:1990)GB/T12334金屬和其他非無機(jī)覆蓋層關(guān)于厚度測址的定義和一般規(guī)則(idtISO2064:1996)GB/T12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計數(shù)抽樣檢查程序（GB/T12609—2005,ISO4519:1980.IDT)GB/T13744磁性及非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測量（GB/T13744—1992,idtISO2361:1982）金屬覆蓋層GB/T16921覆蓋層厚度測量X射線光譜方法（GB/T16921-2005.ISO3497：2000.IDT)GB/T19349金屬和其他無機(jī)覆蓋層為減少氫脆危險的鋼鐵預(yù)處理(GB/T19349-2003.1SO9587:1999.IDT)GB/T19350金屬和其他