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文檔簡介

§1.4

場(chǎng)效應(yīng)管1.熟悉場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)、分類2.了解場(chǎng)效應(yīng)管的的工作原理、主要參數(shù)和應(yīng)用絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管的特性曲線

學(xué)習(xí)目標(biāo)學(xué)習(xí)重點(diǎn)2/6/2023模電課件§1.4場(chǎng)效應(yīng)管場(chǎng)效應(yīng)管(FET)是利用輸入回路的電場(chǎng)效應(yīng)來控制輸出回路電流的一種半導(dǎo)體器件,由于它僅靠一種載流子導(dǎo)電,又稱單極型晶體管。場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)N溝道P溝道增強(qiáng)型耗盡型N溝道P溝道N溝道P溝道2/6/2023模電課件1、N溝道增強(qiáng)型MOS管一、絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管(MOSFET)金屬層氧化物層半導(dǎo)體層S(Source):源極G(Gate):柵極D(Drain):漏極B(Substrate):襯底(1)結(jié)構(gòu)符號(hào)2/6/2023模電課件++NNP型襯底u(yù)DSuGS②uDS=0,uGS>0

uGS排斥SiO2附近的空穴,剩下不能移動(dòng)的離子,形成耗盡層;襯底的自由電子吸引到耗盡層與絕緣層之間,形成一個(gè)N型薄層,即反型層,也是d-s之間的導(dǎo)電溝道;

隨著uGS增大,開啟電壓UGS(th):剛剛形成反型層的uGS電壓。SDG2/6/2023模電課件++NNP型襯底u(yù)DSuGS③uGS>UGS(th),uDS>0由于有導(dǎo)電溝道,會(huì)產(chǎn)生漏極電流iD;iD導(dǎo)電溝道存在電位梯度,導(dǎo)電溝道不均勻,沿著s→d方向逐漸變窄;當(dāng)uDS=

UGSUGS(th)時(shí),導(dǎo)電溝道出現(xiàn)預(yù)夾斷;當(dāng)uDS較大,uDS>UGSUGS(th)時(shí),導(dǎo)電溝道出現(xiàn)夾斷;此時(shí),iD的大小與uDS無關(guān),由uGS決定,恒流區(qū)。當(dāng)uDS較小,uDS<

UGSUGS(th)時(shí),uDS增大,iD也增大,可變電阻區(qū);SDG2/6/2023模電課件(3)特性曲線與電流方程①輸出特性曲線uGS1=UGS(th)iD(mA)uDS(V)uGS5uGS4uGS3uGS2可變電阻區(qū)恒流區(qū)夾斷區(qū)預(yù)夾斷軌跡iD=f(uDS)對(duì)應(yīng)不同的UGS下得一簇曲線夾斷區(qū)恒流區(qū)可變電阻區(qū)輸出特性曲線(分三個(gè)區(qū)域)2/6/2023模電課件輸出特性曲線(分三個(gè)區(qū)域)uGS1=UGS(th)iD(mA)uDS(V)uGS5uGS4uGS3uGS2恒流區(qū):uDS>UGSUGS(th)導(dǎo)電溝道出現(xiàn)夾斷,iD取決于uGS

,而與uDS無關(guān);恒流區(qū)2/6/2023模電課件輸出特性曲線(分三個(gè)區(qū)域)

可變電阻區(qū):

導(dǎo)電溝道未夾斷前,,對(duì)應(yīng)不同的uGS,d-s間可等效不同的電阻;uDS<

UGSUGS(th)uGS1=UGS(th)iD(mA)uDS(V)uGS5uGS4uGS3uGS2可變電阻區(qū)2/6/2023模電課件②轉(zhuǎn)移特性曲線與電流方程UGS(th)2UGS(th)IDOuGSiD轉(zhuǎn)移特性曲線:電流方程:IDO:uGS=2UGS(th)時(shí)的iD。恒流區(qū):iD基本上由uGS決定,與UDS關(guān)系不大uGS1=UGS(th)iD(mA)uDS(V)uGS5uGS4uGS3uGS2恒流區(qū)轉(zhuǎn)移特性曲線輸出特性曲線2/6/2023模電課件2、N溝道耗盡型MOS管在G的下方,在SiO2中摻入大量的正離子,即使uGS=0,也會(huì)吸引P中的電子形成溝道。--gs+NdbN++++++++++++P型襯底u(yù)GSuDSiD

想讓溝道消失,必須加足夠負(fù)電壓。

夾斷電壓UGS(off):反型層消失時(shí)的uGS,為負(fù)值。sgdbN溝道符號(hào):

N溝道耗盡型MOS管的uGS可以為正,也可以為負(fù)。iD2/6/2023模電課件3、P溝道增強(qiáng)型導(dǎo)電溝道是P型,所以襯底是N型。

P溝道MOS的工作原理與N溝道MOS完全相同,只不過導(dǎo)電的載流子不同,供電電壓極性不同而已。iD2/6/2023模電課件4、P溝道耗盡型5、VMOS管(自學(xué))2/6/2023模電課件1、工作原理

N溝道結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管正常工作,應(yīng)在uGS<0,耗盡層承受反向電壓(uGS對(duì)溝道的控制作用,又保證柵-源之間內(nèi)阻很高),uDS>0,形成漏極電流iD。(1)

uGS對(duì)溝道的控制作用耗盡層NP+P+sdg③當(dāng)│uGS│↑到一定值時(shí),溝道會(huì)完全合攏。uGS=UGS(off)夾斷電壓。在柵源間加負(fù)電壓uGS

,令uDS=0①當(dāng)uGS=0時(shí),導(dǎo)電溝道最寬。②當(dāng)│uGS│↑時(shí),溝道電阻增大。

VGG(uGS)2/6/2023模電課件(2)當(dāng)uGS為0~UGS(off)中某一值,uDS對(duì)iD的影響NP+P+dgs

VGG(uGS)

VDD(uDS)iD①當(dāng)uDS=0時(shí),iD=0。②當(dāng)uDS≠0時(shí),從d→s電位依次減小,即耗盡層承受的反向電壓由d→s逐漸減小,故寬度也沿著d→s方向逐漸變窄。uDS→

iD③當(dāng)uGD=UGS(off)時(shí),漏極的耗盡層出現(xiàn)夾斷。+-uDS+-uGS+uGD-uGD+uDS-uGS=0uGD=uGS-

uDS2/6/2023模電課件NP+P+dgs

VGG(uGS)

VDD(uDS)iD③當(dāng)uGD<UGS(off)時(shí),漏極的耗盡層夾斷層加長。uDS增大,電流iD基本不變。(3)當(dāng)uGD<UGS(off)時(shí),uGS對(duì)iD的控制作用當(dāng)uGD<UGS(off)時(shí),當(dāng)uDS為常量時(shí),uGS的大小影響iD的大小,也就是說,可以通過改變uGS控制iD的大小。隨uDS的加大,uGD

越來越負(fù)。2/6/2023模電課件3、結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管的特性曲線(1)輸出特性曲線可變電阻區(qū)恒流區(qū)擊穿區(qū)夾斷區(qū)iD(mA)uDS(V)uGS=0VuGS=-1VuGS=-2VuGS=-3VuGS=-4V預(yù)夾斷軌跡①可變電阻區(qū):導(dǎo)電溝道未夾斷前,uDS與iD線性關(guān)系,對(duì)應(yīng)不同的uGS,d-s間可等效不同的電阻;②恒流區(qū):導(dǎo)電溝道出現(xiàn)夾斷,iD取決于uGS

,而與uDS無關(guān);③預(yù)夾斷軌跡:uGD=uGS-uDS=UGS(off)④夾斷區(qū):uGS<UGS(off)時(shí),導(dǎo)電溝道完全被夾斷,iD≈0。2/6/2023模電課件(2)轉(zhuǎn)移特性曲線iD(mA)uDS(V)uGS=0VuGS=-1VuGS=-2VuGS=-3VuGS=-4V0-3-12iD(mA)uGS(V)1-4-243UGS(off)IDSS恒流區(qū)的轉(zhuǎn)移特性曲線近似一條IDSS:飽和漏電流。uGS=0時(shí),uGD=UGS(off)時(shí)漏極電流;2/6/2023模電課件三、場(chǎng)效應(yīng)管的主要參數(shù)1、直流參數(shù)(1)開啟電壓UGS(th):增強(qiáng)型MOS管的參數(shù)(2)夾斷電壓UGS(off):結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管和耗盡型MOS管的參數(shù)(3)飽和漏極電流IDSS:耗盡型管,在UGS=0時(shí)產(chǎn)生預(yù)夾斷時(shí)的漏極電流P49圖1.4.13場(chǎng)效應(yīng)管的符號(hào)及特性2/6/2023模電課件3、極限參數(shù)(2)極間電容:

場(chǎng)效應(yīng)管的三個(gè)極之間均存在極間電容。高頻電路中,考慮極間電容的影響。管子的最高工作頻率fM是綜合考慮了三個(gè)電容的影響而確定的工作頻率的上限值。(1)最大漏極電流IDM:管子正常工作時(shí)漏極電流的上限值。(2)擊穿電壓:U(BR)DS:管子進(jìn)入恒流區(qū)后,使iD驟然增大的uDS。U(BR)GS:結(jié)型管:使柵極與溝道間PN結(jié)反向擊穿的uGS。MOS管:使絕緣層擊穿的uGS。2/6/2023模電課件(3)最大耗散功率PDM:PDM決定管子允許的溫升。PDM確定后,可在管子的輸出特性曲線上畫出臨界最大功耗線,再根據(jù)由IDM和U(BR)DS可得到管子的安全工作區(qū)。四、MOS管使用注意事項(xiàng)2、在使用場(chǎng)效應(yīng)管時(shí),要注意漏源電壓、漏源電流及耗散功率等,不要超過規(guī)定的最大允許值。1、保存MOS管應(yīng)使三個(gè)電極短接,避免柵極懸空;2/6/2023模電課件

MOS場(chǎng)效應(yīng)管的輸入阻抗非常高,這本來是它的優(yōu)點(diǎn),但在使用上卻帶來新的問題.由于輸入阻抗高,當(dāng)帶電荷物體一旦靠近柵極時(shí),在柵極感應(yīng)出來的電荷就很難通過這個(gè)電阻泄放掉,電荷的累積造成了電壓的升高,尤其是在極間電容比較小的情況本下,少量的電荷就會(huì)產(chǎn)生較高的電壓,以至管子還沒使用或者在焊接時(shí)就已經(jīng)擊穿或者出現(xiàn)指標(biāo)下降的現(xiàn)象,特別是MOS管,其絕緣層很薄,更易擊穿損壞。

保存MOS管應(yīng)使三個(gè)電極短接,避免柵極懸空2/6/2023模電課件晶體管噪聲

在晶體管內(nèi),載流子的不規(guī)則運(yùn)動(dòng)引起不規(guī)則變化的電流起伏,因而產(chǎn)生不規(guī)則變化的電壓起伏,這種不規(guī)則變化的電流和電壓形成晶體管的噪聲。晶體管噪聲是晶體管的重要參數(shù)。

晶體管按工作原理可分為兩大類,一類是雙極型晶體管;另一類是單極型晶體管,即場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)。雙極型晶體管的噪聲按物理來源通常分為四類:熱噪聲、散粒噪聲、配分噪聲和1/f噪聲。

熱噪聲

晶體管的基區(qū)或各項(xiàng)電阻上載流子的不規(guī)則熱運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的電流起伏,即為熱噪聲。由于熱噪聲頻譜是均勻分布的,又稱為白噪聲。

散粒噪聲

晶體管中少數(shù)載流子通過發(fā)射極-基極結(jié)注入到基區(qū)時(shí),少數(shù)載流子的數(shù)目和速度都有起伏,引起通過結(jié)的電流的微小變化。同時(shí),少數(shù)載流子在基區(qū)內(nèi)的不規(guī)則運(yùn)動(dòng),包括所產(chǎn)生的復(fù)合過程也將引起電流起伏,這些都屬于晶體管的散粒噪聲。散粒噪聲與頻率無關(guān)。

配分噪聲

在晶體管基區(qū)中,發(fā)射極電流的一部分變?yōu)榧姌O電流,另一部分變?yōu)榛鶚O電流,有一個(gè)由空穴-電子復(fù)合作用而定的電流分配系數(shù)。復(fù)合現(xiàn)象本身同樣受到熱起伏效應(yīng)的影響,因此分配系數(shù)不是恒定的。它的微小變化也會(huì)引起集電極電流的起伏,這就是晶體管的配分噪聲。

參考資料:2/6/2023模電課件1/f噪聲

在晶體管噪聲頻譜(圖)中,低頻時(shí)噪聲急劇上升,呈1/fn關(guān)系。隨工藝條件、表面處理和環(huán)境氣氛等的不同,n取1~2之間,故常稱為1/f噪聲。低頻噪聲產(chǎn)生的原因和機(jī)理很復(fù)雜,尚待深入研究。

噪聲系數(shù)

晶體管的噪聲系數(shù)有多種定義方法。常用輸入信噪比與輸出信噪比的相對(duì)比值作為晶體管的噪聲系數(shù),即

。噪聲系數(shù)通常以分貝為單位來表示。降低晶體管噪聲的主要途徑是提高截止頻率和

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