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文檔簡(jiǎn)介
IC設(shè)計(jì)工具原理
(Cadence
第一章IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路設(shè)計(jì)就是根據(jù)電路功能和性能的要求,在正確選擇系統(tǒng)配置、電路形式、器件結(jié)構(gòu)、工藝方案和設(shè)計(jì)規(guī)則的情況下,盡量減小芯片面積,降低設(shè)計(jì)成本,縮短設(shè)計(jì)周期以保全全局優(yōu)化,設(shè)計(jì)出滿足要求的集成電路。其最終的輸出是掩模版圖,通過制版和工藝流片得到所需的集成電路。IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路制造過程示意圖:IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路設(shè)計(jì)層次主要包括五個(gè)層次:(1)系統(tǒng)級(jí)(2)算法級(jí)(3)寄存器傳輸級(jí)(RTL級(jí))(4)邏輯級(jí)(5)電路級(jí)IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)集成電路設(shè)計(jì)特點(diǎn):(1)集成電路對(duì)設(shè)計(jì)正確性提出了更為嚴(yán)格的要求。(2)集成電路對(duì)外引出端的數(shù)目受外形尺寸限制,外形尺寸與封裝內(nèi)芯片的引腳數(shù)目不可能同步增加,給芯片的檢測(cè)帶來困難。(3)集成電路的布局、布線等版圖設(shè)計(jì)更加復(fù)雜,只有最終生成設(shè)計(jì)版圖,通過制作掩模、流片,才能真正實(shí)現(xiàn)集成電路的各種功能。(4)集成電路設(shè)計(jì)必須采用分層次設(shè)計(jì)和模塊化設(shè)計(jì)。IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)避免集成電路設(shè)計(jì)中出現(xiàn)錯(cuò)誤措施有:(1)在芯片中設(shè)置容錯(cuò)電路,使芯片具有一定的修正功能。(2)借助計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)工具(EDA工具)對(duì)設(shè)計(jì)的每個(gè)階段進(jìn)行反復(fù)驗(yàn)證和檢查,并對(duì)物理因素與電學(xué)性能的交織問題進(jìn)行考慮,以保證設(shè)計(jì)的正確性。IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)IC設(shè)計(jì)流程:IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)理想的IC設(shè)計(jì):根據(jù)設(shè)計(jì)要求進(jìn)行系統(tǒng)編譯,得到系統(tǒng)性能和功能描述;由系統(tǒng)性能和功能描述直接編譯出邏輯和電路描述;再由邏輯和電路描述直接編譯出相應(yīng)的物理版圖描述。但由于缺少有效的CAD工具,這種技術(shù)迄今難以實(shí)現(xiàn)。目前硅編譯器是設(shè)計(jì)自動(dòng)化程度最高的一種設(shè)計(jì)技術(shù),可實(shí)現(xiàn)算法級(jí)或寄存器傳輸級(jí)到掩模版圖,但是適用于少數(shù)幾種高度規(guī)則結(jié)構(gòu)的集成電路。IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)典型的實(shí)際分層次設(shè)計(jì)流程:IC設(shè)計(jì)基礎(chǔ)IC設(shè)計(jì)方法(1)全定制設(shè)計(jì)(2)半定制設(shè)計(jì)
通道門陣列法門海法(3)定制設(shè)計(jì)
標(biāo)準(zhǔn)單元法通用單元法第二章EDA概述電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA:ElectronicDesignAutomation)就是利用計(jì)算機(jī)作為工作平臺(tái)進(jìn)行電子自動(dòng)化設(shè)計(jì)的一項(xiàng)技術(shù)。涵蓋內(nèi)容:系統(tǒng)設(shè)計(jì)與仿真,電路設(shè)計(jì)與仿真,印制電路板設(shè)計(jì)與校正,集成電路版圖設(shè)計(jì)數(shù)模混合設(shè)計(jì),嵌入式系統(tǒng)設(shè)計(jì),軟硬件系統(tǒng)協(xié)同設(shè)計(jì),系統(tǒng)芯片設(shè)計(jì),可編程邏輯器件和可編程系統(tǒng)芯片設(shè)計(jì),專用集成電路設(shè)計(jì)等EDA概述高級(jí)硬件描述語言的完善和IP(IntellectualProperty)芯核被廣泛使用,使得電子系統(tǒng)和設(shè)計(jì)方式發(fā)生了根本性的轉(zhuǎn)變。IP是集成電路知識(shí)產(chǎn)權(quán)模塊的簡(jiǎn)稱,定義為:經(jīng)過預(yù)先設(shè)計(jì)、預(yù)先驗(yàn)證,具有相對(duì)獨(dú)立的功能,可以重復(fù)使用在SoC和ASIC中的電路模塊。IP分三類:軟核IP
固核IP
硬核IPEDA概述硬核IP(HardIP)是經(jīng)過布局、布線并針對(duì)某一特定工藝庫優(yōu)化過的網(wǎng)表或物理級(jí)版圖,通常是GDSⅡ-Stream的文件形式。優(yōu)點(diǎn):在功耗、尺寸方面都作了充分的優(yōu)化,有很好的預(yù)知性。缺點(diǎn):由于對(duì)工藝的依賴性使得其靈活性和可移植性都較差。EDA概述固核IP(FirmIP)是已經(jīng)基于一般工藝庫進(jìn)行了綜合和布局IP核,通常以網(wǎng)表的形式提交客戶使用。固核IP在結(jié)構(gòu)、面積以及性能的安排上都已進(jìn)行了優(yōu)化。固核IP提供了介于軟和IP和硬核IP之間的一個(gè)折中方案,比起硬核IP,具有較好的靈活性和可移植性,比起軟和IP在性能和面積上有較好的可預(yù)知性。EDA概述EDA發(fā)展概況:(1)20世紀(jì)60、70年代出現(xiàn)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)(2)隨后出現(xiàn)CAE、CAM、CAT、CAQ。(3)20世紀(jì)80年代,初級(jí)的具有自動(dòng)化功能的EDA出現(xiàn)。(4)20世紀(jì)90年代,EDA技術(shù)滲透到電子設(shè)計(jì)和集成電路設(shè)計(jì)各個(gè)領(lǐng)域,形成了區(qū)別于傳統(tǒng)設(shè)計(jì)的整套設(shè)計(jì)思想和方法。(5)當(dāng)前,深亞微米工藝和SoC設(shè)計(jì)對(duì)EDA技術(shù)提出更高更苛刻的要求。EDA概述EDA技術(shù)特征:(1)硬件采用工作站和PC機(jī)。(2)具有IP模塊化芯核的設(shè)計(jì)和可重復(fù)利用功能。(3)EDA技術(shù)采用高級(jí)硬件描述語言描述硬件結(jié)構(gòu)、參數(shù)和功能,具有系統(tǒng)級(jí)仿真和綜合能力。EDA概述EDA工具一般由兩部分組成:邏輯工具物理工具物理工具主要實(shí)現(xiàn)物理布局布線。邏輯工具基于網(wǎng)表、布爾邏輯、傳輸時(shí)序等概念。該兩部分由不同工具承擔(dān),利用標(biāo)準(zhǔn)化的網(wǎng)表文件進(jìn)行數(shù)據(jù)交換。EDA概述EDA應(yīng)用于三方面:印制電路板的設(shè)計(jì)(PCB)可編程數(shù)字系統(tǒng)設(shè)計(jì)(CPLD、FPGA、SOPC)
IC設(shè)計(jì)(ASIC,Soc)EDA概述設(shè)計(jì)中采用的輸入方法:
數(shù)字IC設(shè)計(jì):硬件描述語言,狀態(tài)機(jī),原理圖模擬IC設(shè)計(jì):圖形輸入,SIPCE語言輸入
PLD設(shè)計(jì):HDL語言輸入,原理圖,狀態(tài)機(jī),波形輸入
PCB設(shè)計(jì):原理圖輸入EDA概述EDA設(shè)計(jì)方法:(1)行為描述法(2)IP設(shè)計(jì)與復(fù)用技術(shù)(3)ASIC設(shè)計(jì)方法(4)SoC設(shè)計(jì)方法(5)軟硬件協(xié)同設(shè)計(jì)方法
EDA概述IC設(shè)計(jì)工具按其用途分類:(1)設(shè)計(jì)輸入與仿真工具(Cadence公司的Virtuosocomposer、Verilog-XL、NC-verilog)(2)綜合工具(Synopsys公司的DCExpert,Cadence公司的BuilderGates,Magma公司的BlastRTL)(3)布局和布線(CadencePKS和SE-PKS,Synopsys的PhysicalCompiler,Magma公司的BlastFusion)(4)物理版圖設(shè)計(jì)和驗(yàn)證工具(Cadence公司的VirtuosoLayoutEditor,Synopsys公司的ComsSE,Tanner公司的L-edit)(5)模擬電路編輯與仿真(Synopsys公司的HSpice,Cadence公司的SpectreSimulator,Tanner公司的S-edit)EDA概述EDA業(yè)界三強(qiáng):
Cadence,強(qiáng)項(xiàng)為IC版圖設(shè)計(jì)和PCB設(shè)計(jì)
Synopsys,強(qiáng)項(xiàng)為邏輯綜合
MentorGraphics,強(qiáng)項(xiàng)為PCB設(shè)計(jì)和深亞微米IC設(shè)計(jì)驗(yàn)證和測(cè)試EDA概述Cadence公司簡(jiǎn)介:成立于1988年,公司總部位于美國(guó)加利福尼亞州的SanJose,是全球最大的EDA供應(yīng)商。產(chǎn)品涵蓋領(lǐng)域:包括系統(tǒng)頂層設(shè)計(jì)與仿真、信號(hào)處理、電路設(shè)計(jì)與仿真、PCB設(shè)計(jì)與分析、FPGA及ASIC設(shè)計(jì)以及深亞微米IC設(shè)計(jì)等。EDA概述CadenceEDA工具分類:
1、板級(jí)電路設(shè)計(jì)系統(tǒng)工具
ConceptHDL原理圖設(shè)計(jì)輸入工具
CheckPlusHDL原理圖設(shè)計(jì)規(guī)則檢查工具
SPECTRAQuestEngineerPCB版圖布局規(guī)劃工具
AllegroExpert專家級(jí)PCB版圖編輯工具
SPECTRAExpertAutoRouter專家級(jí)pcb自動(dòng)布線工具
SigNoise信噪分析工具
EMControl電磁兼容性檢查工具
EDA概述2、邏輯設(shè)計(jì)與驗(yàn)證工具
Verilog-xl仿真器
LeapfrogVHDL仿真器
AffirmaNCVerilog仿真器
AffirmaNCVHDL仿真器
Verifault-XL故障仿真器
VeriSure代碼覆蓋率檢查工具
EnvisiaBuildGates綜合工具
EDA概述3、全定制IC設(shè)計(jì)工具
VirtuosSchematicComposerAnalogDesignEnvironmentVirtuosLayoutEditorSpectraVirtuosoLayoutSynthesizerAssuradraculaDivaEDA概述Synopsys公司簡(jiǎn)介:是為全球集成電路設(shè)計(jì)提供電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)軟件工具的主導(dǎo)企業(yè)。為全球電子市場(chǎng)提供技術(shù)先進(jìn)的IC設(shè)計(jì)與驗(yàn)證平臺(tái),致力于復(fù)雜的芯片上系統(tǒng)(SoCs)的開發(fā)。總部設(shè)在美國(guó)加利福尼亞州MountainView,有超過60家分公司分布在北美、歐洲、日本與亞洲。提供前后端完整IC設(shè)計(jì)方案的領(lǐng)先EDA工具供應(yīng)商。是EDA歷史上第一次由一家EDA公司集成了業(yè)界最好的前端和后端設(shè)計(jì)工具。
EDA概述Sysnopsys公司主要產(chǎn)品
Apollo-II(為SoC設(shè)計(jì)服務(wù)的布局布線系統(tǒng))Hercules(層次化的物理驗(yàn)證)PrimeTime(全芯片,門級(jí)靜態(tài)時(shí)序分析)Saber(混合信號(hào)、混合技術(shù)仿真器)SaberDesigner(簡(jiǎn)單易用、交互能力強(qiáng)的設(shè)計(jì)工具)VCS(先進(jìn)的RTL及門級(jí)驗(yàn)證平臺(tái))Vera(為功能驗(yàn)證提供測(cè)試向量自動(dòng)生成)Cosmos-Scope(圖形化波形分析儀)CosmosLE(自動(dòng)化的版圖全定制)ComosSE(全定制的自動(dòng)化仿真環(huán)境)HSPICE(高精度電路仿真)NanoSim(存儲(chǔ)器和混合信號(hào)驗(yàn)證)
EDA概述MentorGraphics公司簡(jiǎn)介:
MentorGraphics公司成立于1981年,總部位于美國(guó)俄勒岡州的Wilsonville。Mentor提供完整的軟件和硬件設(shè)計(jì)解決方案。EDA概述
Mentor公司的主要產(chǎn)品
MentorDFT(深亞微米集成電路的設(shè)計(jì)測(cè)試)Calibreproductsuite(深亞微米集成電路的版圖驗(yàn)證)ModelSim,Eldo,MentorGraphics(深亞微米集成電路的系統(tǒng)設(shè)計(jì)仿真)BlastRTL(高容量,快速的邏輯綜合器和靜態(tài)時(shí)序分析模塊)BlastFusion(完整的從門級(jí)網(wǎng)表到芯片的物理設(shè)計(jì)系統(tǒng))第三章Cdence的系統(tǒng)組織結(jié)構(gòu)大多數(shù)Cadence工具使用同樣的庫模型,庫結(jié)構(gòu)按目錄結(jié)構(gòu)組織數(shù)據(jù),這利于不同工具之間的數(shù)據(jù)交互和一致操作。物理組織邏輯組織目錄庫子目錄單元子目錄視圖系統(tǒng)組織結(jié)構(gòu)DDMS(DesignDataManagementSystem)DDMS物理路徑Path/lib/cell_1/layout_3.0邏輯名稱{cell_1layout3.0}Library.lib
系統(tǒng)組織結(jié)構(gòu)TermsandDefinitions庫(library):特定工藝相關(guān)的單元集合單元(cell):構(gòu)成系統(tǒng)或芯片模塊的設(shè)計(jì)對(duì)象視圖(view):?jiǎn)卧囊环N預(yù)定義類型的表示CIW:命令解釋窗口屬性(attributes):預(yù)定義的名稱-值對(duì)的集合搜索路徑(searchpath):指向當(dāng)前工作目錄和工作庫的指針系統(tǒng)啟動(dòng)環(huán)境設(shè)置1.cshrc文件設(shè)置.cshrc文件中指定Cadence軟件和licence文件所在的路徑
2.cdsenv文件設(shè)置
.cdsenv文件包含了Cadence軟件的一些初始設(shè)置,該文件用SKILL語言寫,Cadence可直接執(zhí)行3.cdsinit文件設(shè)置系統(tǒng)啟動(dòng)5工藝文件(technologyfile)
技術(shù)文件包含了設(shè)計(jì)必需的很多信息,對(duì)設(shè)計(jì),尤其是版圖設(shè)計(jì)很重要。它包含層的定義,符號(hào)化器件定義,幾何、物理、電學(xué)設(shè)計(jì)規(guī)則,以及一些針對(duì)特定Cadence工具的規(guī)則定義,如自動(dòng)布局布線的規(guī)則,版圖轉(zhuǎn)換成GDSII時(shí)所使用層號(hào)的定義。6顯示文件(display.drf)系統(tǒng)啟動(dòng)系統(tǒng)啟動(dòng)1前端啟動(dòng)命令命令規(guī)模功能icdes基本數(shù)字模擬設(shè)計(jì)輸入icdssicde加數(shù)字設(shè)計(jì)環(huán)境icmsm前端模擬、混合、微波設(shè)計(jì)iccaxl前端設(shè)計(jì)加布局規(guī)劃系統(tǒng)啟動(dòng)2版圖工具啟動(dòng)命令命令規(guī)模功能layouts基本版圖設(shè)計(jì)(具有交互DRC功能)layoutPlusm基本版圖設(shè)計(jì)(具有自動(dòng)化設(shè)計(jì)工具和交互驗(yàn)證工具)系統(tǒng)啟動(dòng)3系統(tǒng)級(jí)啟動(dòng)命令命令規(guī)模功能swbsPcb設(shè)計(jì)msfbl混合型號(hào)IC設(shè)計(jì)icfbxl前端到后端大多數(shù)工具系統(tǒng)啟動(dòng)
系統(tǒng)啟動(dòng)
CommandInterpreterWindow(CIW)Log文件菜單欄窗口號(hào)輸出域命令提示行輸入域鼠標(biāo)按鈕提示幫助系統(tǒng)兩種方式尋求幫助1openbook
在UNIX提示符下輸入命令openbook:host>openbook&2工具在線幫助
每個(gè)工具右上角的“help”菜單
第四章模擬IC設(shè)計(jì)環(huán)境ADEADE環(huán)境下可以:選擇仿真器選擇仿真類型設(shè)置設(shè)計(jì)變量提取網(wǎng)表運(yùn)行仿真快速改變仿真設(shè)置并重新運(yùn)行仿真在波形顯示器中顯示仿真波形用波形表達(dá)式評(píng)估仿真結(jié)果進(jìn)行其他仿真,如Corners,MonteCarlo,etc
SchematicComposorSchematicComposorSchematicComposor新建一個(gè)CellviewIntheCIWorLibraryManager,selectSchematicComposor添加器件SelectAdd-instancetodisplaytheAddInstanceformSchematicComposor添加連線并給連線命名SelectAdd-WireorpressitoaddwiresforinstancesSelectAdd-WirenametodisplaytheviewofaddwirenameSchematicComposor添加管腳SelectAdd-pinorpressp
每一個(gè)管腳都有確定的名字和方向(input,output,orinputoutput)。
管腳有三種類型:
SchematicpinsSymbolpinsOffsheetpinsSchematicComposor添加激勵(lì)源Sourceandgroundcellsareintheanalogliblibrary.SchematicComposor電路檢查Pressthebuttonofcheckandsave.在電路檢查過程中會(huì)執(zhí)行以下的程序:UpdateConnectivitySchematicRulesCheckLogicalchecksPhysicalChecksNamechecksCross-ViewCheckerExecuteCheck-RulesSetuptoeditthecheckingrulesAnalogSimulation模擬仿真流程:AnalogSimulation啟動(dòng)仿真環(huán)境SelectTools-AnalogEnvironmentfromtheschematicmenubanner,orselectTools-AnalogEnvironment–SimulationfromtheCIWAnalogSimulation設(shè)置仿真器Select–Simulator/Directory/HostAnalogSimulation設(shè)置模型文件Selectthemodelfilesinsimulationwindow,SelectSetup-ModelLibrariesAnalogSimulation設(shè)置設(shè)計(jì)變量SelectVariables-EditorclicktheEditVariablesiconAnalogSimulation設(shè)置仿真類型SelectAnalyses-ChooseorclicktheChooseAnaysesiconAnalogSimulation選擇信號(hào)輸出Select:Output-ToBePlotted-SelectOnSchematicAnalogSimulation提取網(wǎng)表AnalogSimulation運(yùn)行仿真SelectSimulation-RunorSelecttheRuniconontherightsideofthesimulationwindowSimulationResultsDisplayTools波形顯示工具用于顯示仿真數(shù)據(jù),Cadence中波形顯示及相關(guān)工具包括:WaveScanWaveformWindow(AWD)WaveformCalculator(WaveScan&AWD)ResultsBrowserSnapshotToolAnnotatingComponentDisplaySimulationResultsDisplayTools波形顯示工具選擇:
AccessiblefromtheSession-OptionscommandwindowinADEtoswitchbetweenAWDandWavescanSimulationResultsDisplayToolsTheWaveScanResultsBrowser
SelectTools-ResultsBrowserfromADESimulationResultsDisplayToolsCalculatorinWaveScanSimulationResultsDisplayToolsTheWaveformWindow(AWD)SKILLandOCEANSKILL是DFⅡ和ADE環(huán)境的基本描述語言。OCEAN命令語言是基于SKILL語言的,并且很多SKILL和OCEAN命令是相似而且可以互換的。SKILLandOCEANSKILL語言是一種基于圖形界面的程序語言。DFⅡ和ADE環(huán)境下大多數(shù)的特征和應(yīng)用都是用SKILL代碼描述的。ADE環(huán)境及相關(guān)工具可以通過使用SKILL語言定制化。SKILL語言是OCEAN命令語言的基礎(chǔ)。SKILLandOCEAN執(zhí)行SKILL命令和程序的方法:(1)CIW窗口的命令行接收SKILL命令。(2)CIW窗口的命令行可以執(zhí)行SKILL程序(3)Waveform計(jì)算器的輸入行可以執(zhí)行由SKILL語言描述的算術(shù)運(yùn)算表達(dá)式。第五章版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLEVirtuosoLayoutEditor-版圖編輯大師
Cadence最精華的部分在哪里VirtuosoLayoutEditor界面漂亮友好功能強(qiáng)大完備操作方便高效版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE目標(biāo)理解LayoutEditor環(huán)境學(xué)會(huì)如何使用LayoutEditor學(xué)會(huì)運(yùn)行交互DRC&LVS學(xué)會(huì)將設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)為Streamformat學(xué)會(huì)定制版圖編輯環(huán)境版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE單元設(shè)計(jì)具體流程VirtuosoLE使用介紹第一步:建庫執(zhí)行:CIW->Tools->LibraryManager…LM->File->New->Library…
VirtuosoLE使用介紹第二步:指定工藝文件VirtuosoLE使用介紹第三步:建立版圖單元執(zhí)行:LM->File->New->CellView…
VirtuosoLE使用介紹第四步:打開版圖單元執(zhí)行:CIW->File->Open…
選擇庫選擇視圖選擇單元版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE版圖編輯環(huán)境版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLEVirtuosoLayoutEditing版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLELSW-層選擇窗口版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE設(shè)置有效Drawing層
執(zhí)行:LSW->Edit->SetValidLayers…
版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLEDisplayResourceEditor版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLELayersanddisplay.drf版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLESetDisplayOptions版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLESetEditorOptions版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE鼠標(biāo)用法版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE工藝文件流圖版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLETechnologyFile命令版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE主要編輯命令Undo-取消Redo-恢復(fù)Move-移動(dòng)Copy-復(fù)制Stretch-拉伸Delete-刪除Merge-合并Search-搜索編輯命令非常友好,先點(diǎn)擊命令,然后對(duì)目標(biāo)圖形進(jìn)行操作版圖設(shè)計(jì)工具-VirtuosoLE主要?jiǎng)?chuàng)建命令Rectangle-矩形Polygon-多邊形Path-互聯(lián)Label-標(biāo)簽Instance-例元Contact-通孔現(xiàn)在LSW中選中層,然后點(diǎn)擊創(chuàng)建命令,在畫相應(yīng)圖形繪制反相器版圖INVExample
首先回顧一下CMOS反相器制作流程:Stage1:NwellPwell繪制反相器版圖Stage2:PdiffusionNdiffusion繪制反相器版圖Stage3:Polygate繪制反相器版圖Stage4:P+implantN+implant
繪制反相器版圖Stage5:contact繪制反相器版圖Stage6:Metal1繪制反相器版圖Stage7:via繪制反相器版圖Stage8:Metal2繪制反相器版圖
版圖編輯工具使用器件加工工藝流程OK?。?!繪制反相器版圖1繪制反相器版圖2繪制反相器版圖3繪制反相器版圖4繪制反相器版圖5繪制反相器版圖6繪制反相器版圖7繪制反相器版圖8繪制反相器版圖9VirtuosoLayoutEditor
現(xiàn)在,你已經(jīng)掌握版圖編輯大師的基本操作,通過上機(jī)實(shí)驗(yàn)鞏固和提高!設(shè)計(jì)流程
版圖驗(yàn)證版圖驗(yàn)證的必要性?確保版圖繪制滿足設(shè)計(jì)規(guī)則確保版圖與實(shí)際電路圖一致確保版圖沒有違反電氣規(guī)則可供參數(shù)提取以便進(jìn)行后模擬版圖驗(yàn)證IC后端流程圖:Cadence版圖驗(yàn)證工具Diva
Diva是Cadence的版圖編輯大師Virtuoso集成的交互式版圖驗(yàn)證工具,具有使用方便、操作快捷的特點(diǎn),非常適合中小規(guī)模單元的版圖驗(yàn)證。
Dracula
Dracula(吸血鬼)是Cadence的一個(gè)獨(dú)立的版圖驗(yàn)證工具,按批處理方式工作,功能十分強(qiáng)大,目前是完整芯片驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn)。版圖驗(yàn)證工具-DIVA
Diva-DesignInteractiveVerificationAutomation
DIVA是Cadence軟件中的驗(yàn)證工具集,用它可以找出并糾正設(shè)計(jì)中的錯(cuò)誤.它除了可以處理物理版圖和準(zhǔn)備好的電氣數(shù)據(jù),從而進(jìn)行版圖和線路圖的對(duì)查(LVS)外。還可以在設(shè)計(jì)的初期就進(jìn)行版圖檢查,盡早發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤并互動(dòng)地把錯(cuò)誤顯示出來,有利于及時(shí)發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤所在,易于糾正。
版圖驗(yàn)證工具-DIVA
Diva工具集組成:1.設(shè)計(jì)規(guī)則檢查(iDRC)2.版圖寄生參數(shù)提?。╥LPE)3.寄生電阻提取(iPRE)4.電氣規(guī)則檢查(iERC)5.版圖與電路圖一致比較(iLVS)版圖驗(yàn)證工具-DIVARemark:Diva中各個(gè)組件之間是互相聯(lián)系的,有時(shí)候一個(gè)組件的執(zhí)行要依賴另一個(gè)組件先執(zhí)行。例如:要執(zhí)行LVS就先要執(zhí)行DRC。
運(yùn)行Diva之前,要準(zhǔn)備好規(guī)則驗(yàn)證文件,這些文件有默認(rèn)名稱:做DRC時(shí)的文件應(yīng)以divaDRC.rul命名,版圖提取文件以divaEXT.rul命名。做LVS時(shí)規(guī)則文件應(yīng)以divaLVS.rul命名。版圖驗(yàn)證工具-DIVADIVA功能DRCExtractorERCLVS版圖驗(yàn)證工具-DIVADRC:對(duì)IC版圖做幾何空間檢查,以確保線路能夠被特定加工工藝實(shí)現(xiàn)。ERC:檢查電源、地的短路,懸空器件和節(jié)點(diǎn)等電氣特性。LVS:將版圖與電路原理圖做對(duì)比,以檢查電路的連接,與MOS的長(zhǎng)寬值是否匹配。LPE:從版圖數(shù)據(jù)庫提取電氣參數(shù)(如MOS的W、L值
BJT、二極管的面積,周長(zhǎng),結(jié)點(diǎn)寄生電容等)并以Hspice網(wǎng)表方式表示電路。
版圖驗(yàn)證工具-DIVADIVA工具流程版圖驗(yàn)證工具-DIVADesignRuleChecking版圖驗(yàn)證工具-DIVADRC界面版圖驗(yàn)證工具-DIVACheckingMethod指的是要檢查的版圖的類型:Flat
表示檢查版圖中所有的圖形,對(duì)子版圖塊不檢查。Hierarchical利用層次之間的結(jié)構(gòu)關(guān)系和模式識(shí)別優(yōu)化,檢查電路中每個(gè)單元塊內(nèi)部是否正確。hierw/ooptimization利用層次之間的結(jié)構(gòu)關(guān)系而不用模式識(shí)別優(yōu)化,來檢查電路中每個(gè)單元塊。CheckingLimit可以選擇檢查哪一部分的版圖:Full表示查整個(gè)版圖Incremental查自從上一次DRC檢查以來,改變的版圖。byarea是指在指定區(qū)域進(jìn)行DRC檢查。一般版圖較大時(shí),可以分塊檢查。
版圖驗(yàn)證工具-DIVASwitchNames在DRC文件中,我們?cè)O(shè)置的switch在這里都會(huì)出現(xiàn)。這個(gè)選項(xiàng)可以方便我們對(duì)版圖文件進(jìn)行分類檢查。這在大規(guī)模的電路檢查中非常重要。EchoCommands
選上時(shí)在執(zhí)行DRC的同時(shí)在CIW窗口中顯示DRC文件。RulesFile
指明DRC規(guī)則文件的名稱,默認(rèn)為divaDRC.rulRulesLibrary
這里選定規(guī)則文件在哪個(gè)庫里。Machine
指明在哪臺(tái)機(jī)器上運(yùn)行DRC命令。local
表示在本機(jī)上運(yùn)行。對(duì)于我們來說,是在本機(jī)運(yùn)行的,選local。remote
表示在遠(yuǎn)程機(jī)器上運(yùn)行。RemoteMachineName
遠(yuǎn)程機(jī)器的名字。
版圖驗(yàn)證工具-DIVA
Diva查錯(cuò):錯(cuò)誤在版圖文件中會(huì)高亮顯示,很容易觀察到。另外也可以選擇Verify-Markers-Find菜單來幫助找錯(cuò)。單擊菜單后會(huì)彈出一個(gè)窗口,在這個(gè)窗口中單擊apply就可以顯示第一個(gè)錯(cuò)誤。同樣,可以選擇Verify-Markers-Explain來看錯(cuò)誤的原因提示。選中該菜單后,用鼠標(biāo)在版圖上出錯(cuò)了的地方單擊就可以了。也可以選擇Verify-Markers-Delete把這些錯(cuò)誤提示刪除。
版圖驗(yàn)證工具-DIVA
版圖驗(yàn)證工具-DIVA分析錯(cuò)誤(Explain)版圖驗(yàn)證工具-DIVA
版圖驗(yàn)證工具-DIVAExtractor版圖驗(yàn)證工具-DIVAExtractor功能提取器件和互聯(lián)信息用于ERC或LVS提取網(wǎng)表提取有寄生參數(shù)的版圖網(wǎng)表用于模擬提取層次FlatHierarchicalMicro版圖驗(yàn)證工具-DIVAExtractor界面版圖驗(yàn)證工具-DIVA
版圖驗(yàn)證工具-DIVALVS版圖驗(yàn)證工具-DIVA
LVS版圖驗(yàn)證工具-DIVA
LVSCheck版圖驗(yàn)證工具-DraculaDracula(吸血鬼)是
Cadence的一個(gè)獨(dú)立的版圖驗(yàn)證工具,它采用批處理的工作方式。Dracula功能強(qiáng)大,目前被認(rèn)為布局驗(yàn)證的標(biāo)準(zhǔn),幾乎全世界所有的
IC公司都拿它作
sigh-off的憑據(jù)。特別是對(duì)整個(gè)芯片版圖的最后驗(yàn)證,一定要交由
Dracula處理。
版圖驗(yàn)證工具-DraculaBasicsofDraculaVerication版圖驗(yàn)證與工藝相關(guān)-需要工藝信息數(shù)據(jù)庫版圖驗(yàn)證輸入-版圖數(shù)據(jù)(GDSII格式);網(wǎng)表信息(用于LVS);工藝相關(guān)信息驗(yàn)證方式-IncrementalVSFullchipHierarchicalVSFlattenOnlineVSoffline版圖驗(yàn)證工具-DraculaDracula主要功能:
1.設(shè)計(jì)規(guī)則檢查-DRC*2.電氣規(guī)則檢查-ERC3.版圖&原理圖一致性檢查-LVS*4.版圖參數(shù)提?。璍PE5.寄生電阻提?。璓RE版圖驗(yàn)證工具-DraculaDracula的處理流程版圖驗(yàn)證工具-DraculaHowtoUseDraculaTool創(chuàng)建/獲取命令文件;填充設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)信息;編譯命令文件;提交執(zhí)行文件;查詢驗(yàn)證結(jié)果報(bào)表并修改錯(cuò)誤;版圖驗(yàn)證工具-Dracula版圖->GDSII格式轉(zhuǎn)換
WHY:Dracula處理對(duì)象是GDSII文件操作步驟:執(zhí)行:CIW->File->Export->Stream…彈出如下窗口:版圖驗(yàn)證工具-Dracula
運(yùn)行目錄輸出文件名Whatisthis?版圖驗(yàn)證工具-Dracula
Itisthis,thetwounitsshouldbeconsistent!Thesetwoitemsshouldbechangedaccordingtoyourd
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