YS/T 1160-2016工業(yè)硅粉定量相分析二氧化硅含量的測(cè)定X射線衍射K值法

ICS29045

H12.

中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

YS/T1160—2016

工業(yè)硅粉定量相分析

二氧化硅含量的測(cè)定

X射線衍射K值法

Siliconpowder-quantitativephaseanalysis—

Determinationofsilicondioxidecontent—

ValueKmethodofX-raydiffraction

2016-07-11發(fā)布2017-01-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T1160—2016

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位昆明冶金研究院廣州有色金屬研究院國(guó)家有色金屬及電子材料分析測(cè)試中心

:、、、

云南永昌硅業(yè)股份有限公司通標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司

、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李和平胡耀東袁威金自欽高珺楊林張晶王書明李揚(yáng)王鐘穎王建波

:、、、、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T1160—2016

工業(yè)硅粉定量相分析

二氧化硅含量的測(cè)定

X射線衍射K值法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了工業(yè)硅粉中二氧化硅含量的測(cè)定方法

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于工業(yè)硅粉中二氧化硅含量的測(cè)定測(cè)定范圍為

,≥1%。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

數(shù)值修約規(guī)則與極限數(shù)值的表示和判定

GB/T8170

3方法原理

當(dāng)射線照射晶體物質(zhì)時(shí)將產(chǎn)生衍射每種晶體物質(zhì)都有其特定的衍射特征在一定的條件下

X,,。,

混合物質(zhì)中某物質(zhì)所產(chǎn)生的衍射強(qiáng)度與含量成正比測(cè)量衍射線強(qiáng)度當(dāng)被測(cè)物質(zhì)與已知含量的參考

。,

物質(zhì)的衍射線強(qiáng)度確定后可對(duì)被測(cè)物質(zhì)進(jìn)行定量分析

,。

4試劑與材料

41無水乙醇分析純

.,。

42參考物質(zhì)分析純

.α-Al2O3,。

43分析純

.SiO2,。

44毛玻璃毛面厚度面積不小于

.,0.1mm,8cm×8cm。

5儀器與設(shè)備

51射線衍射儀

.X。

52分析天平感量為

.,0.1mg。

53瑪瑙研缽

.。

54樣品框架

.。

6樣品制取

與試樣應(yīng)能通過