2022-2025年光刻膠市場分析及未來發(fā)展趨勢報告

2022-2025年光刻膠市場分析及未來發(fā)展趨勢報告日期：2022-10-22目錄1234行業(yè)概述行業(yè)現(xiàn)狀分析行業(yè)痛點及發(fā)展建議行業(yè)格局及前景趨勢CONTENTS1行業(yè)概述行業(yè)定義行業(yè)發(fā)展歷程行業(yè)政策、經(jīng)濟、社會環(huán)境光刻膠是由樹脂、感光劑、溶劑及各類添加劑等組成的對光敏感的混合液態(tài)感光材料。在圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等一系列流程環(huán)節(jié)后，光刻膠可將所需要的掩膜板圖形轉(zhuǎn)移至代加工襯底上。光刻膠是半導(dǎo)體、平板顯示器、PCB等微電子、光電子領(lǐng)域加工制造中使用的關(guān)鍵材料，其性能直接影響了下游應(yīng)用產(chǎn)品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻膠根據(jù)顯示效果的不同可分為正性光刻膠和負性光刻膠:（1）正性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應(yīng)，可溶于顯影液；未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同的圖形復(fù)制到襯底上。正性光刻膠響應(yīng)波長為330～430納米，膠膜厚為1～3微米，正性光刻膠的分辨率更高，無溶脹現(xiàn)象。因此，正性光刻膠的應(yīng)用比負性光刻膠更為普及。（2）負性光刻膠在紫外線等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用下，負性光刻膠曝光部分產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)而不溶于顯影液；未曝光部分溶于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復(fù)制到襯底上。負性光刻膠響應(yīng)波長為330～430納米，膠膜厚0.3～1微米，負性光刻膠的分辨率比正性光刻膠低。因此，負性光刻膠的普及率低。光刻膠行業(yè)定義行業(yè)定義01020304萌芽期（20世紀50年代～20世紀80年代初）全球光刻膠行業(yè)起步于1950年，國外研究人員開發(fā)出酚醛樹脂-重氮萘醌正性光刻膠，此類光刻膠用稀堿水顯影時不存在膠膜溶脹問題，制成的光刻膠分辨率較高，而且抗干法蝕刻性較強。正性光刻膠根據(jù)所用的曝光機不同，又可分為寬譜紫外正膠、g線正膠、i線正膠。三種類型的正性光刻膠均采用線型酚醛樹脂制造出膜樹脂，重氮萘醌型酯化物作為感光劑，但由于酚醛樹脂和感光劑微觀結(jié)構(gòu)的不同，因此三種正膠的分辨率和應(yīng)用場景不同。如g線紫外正性光刻膠采用g線曝光，適用于0.5～0.6微米集成電路的制作，可滿足當時大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的制作。1954年，美國柯達公司研發(fā)出聚乙烯醇肉桂酸酯及其衍生物類光刻膠體系，該類光刻膠是最先應(yīng)用在電子工業(yè)中的光刻膠，但由于該類光刻膠在硅片上的粘附性差，影響了它在電子工業(yè)的廣泛應(yīng)用。1958年，美國柯達公司成功研發(fā)出環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠，該類光刻膠在硅片上具有粘附性良好、感光速度快、抗?jié)穹涛g能力強等特點。20世紀八十年代初，環(huán)化橡膠-雙疊氮系光刻膠成為電子工業(yè)主要應(yīng)用的光刻膠，為后續(xù)的光刻膠應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。初步發(fā)展期（20世紀80年代中期～20世紀90年代）在全球集成電路行業(yè)發(fā)展的背景下，光刻膠技術(shù)工藝逐步提高。20世紀80年代中期，i線光刻技術(shù)進入開發(fā)期。20世紀90年代，i線光刻膠進入高速發(fā)展期，并取代了g線光刻膠。隨著i線光刻機的改進，i線光刻膠可制造線寬為0.25微米的集成電路，拓寬了i線光刻的應(yīng)用范圍。隨著KrF（248納米）、ArF（193納米）等稀有氣體鹵化物準分子激發(fā)態(tài)激光光源技術(shù)的發(fā)展，深紫外光刻膠得以應(yīng)用。20世紀90年代前后，國外研究人員投入到KrF準分子激光為曝光源的KrF光刻膠研究中，KrF光刻膠逐步開始發(fā)展。然而，由于酚醛樹脂-重氮萘醌光刻膠在KrF（248納米）處有很強的非光漂白性吸收，導(dǎo)致光敏性差，因此KrF光刻膠無法使用。為了解決這一難題，國外研究學者通過提高曝光機的NA值及改進配套光刻技術(shù)，以拓展KrF光刻膠應(yīng)用的界限，到20世紀90年代中后期，KrF光刻膠進入成熟階段。這一時期，KrF光刻膠逐步應(yīng)用于液晶平板顯示器件加工制造中，對液晶平板顯示器的高精細化和彩色化發(fā)展起到推動的作用。與此同時，在半導(dǎo)體集成度不斷提高的進程中，光刻膠成為了半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中重要的材料，推進半導(dǎo)體制造技術(shù)的進步?？焖侔l(fā)展期（21世紀至今）進入21世紀后，全球高科技行業(yè)發(fā)展迅速，光刻膠行業(yè)下游半導(dǎo)體、平板顯示器等新興行業(yè)得到較快的發(fā)展。光刻膠從g線、i線、KrF發(fā)展到ArF光刻膠。相比KrF光刻膠，ArF光刻膠具有更高的分辨率，可達到0.1微米。因此2005年，ArF光刻膠逐步應(yīng)用于90納米的制造工藝。在全球半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展的背景下，全球光刻膠相關(guān)企業(yè)加快在光刻膠領(lǐng)域的研發(fā)步伐。2004年Intel公司安裝了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一條EUV掩模試產(chǎn)線，表明EUV光刻膠從研發(fā)階段進入試用階段。隨著微電子制造業(yè)精密度不斷提升，光刻膠的曝光波長由寬譜紫外線向g線、i線、Krf、ArF發(fā)展到EUV光刻膠。作為新一代電子信息、新型顯示技術(shù)的重要基礎(chǔ)性化學材料，全球光刻膠需求得到增長。全球光刻膠市場規(guī)模從2010年的56億美元增長到2015年的71億美元，年復(fù)合增長率為7.9%，全球光刻膠行業(yè)進入快速發(fā)展階段。發(fā)展歷程行業(yè)PEST-政策分析《石化和化學工業(yè)發(fā)展規(guī)劃（2016-2020年）》國家鼓勵的集成電路線茲小于28納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第十年免征企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于65納米(含)，且經(jīng)營期在15年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅辛減半征收企業(yè)所得稅;國家鼓勵的集成電路線寬小于130納米(含)，且經(jīng)營期在10年以上的集成電路生產(chǎn)企業(yè)或項目，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅。光刻膠生產(chǎn)企業(yè)入圍“清單”，可享受稅收優(yōu)惠政策指出要發(fā)展集成電路用電子化學品，重點發(fā)展KrF（248納米）和ArF（193納米）光刻膠，推進中國電子化學品行業(yè)發(fā)展。《“十三五”先進制造技術(shù)領(lǐng)域科技創(chuàng)新專項規(guī)劃》明確將深紫外光刻膠列為極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝的關(guān)鍵材料，支撐關(guān)鍵材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新生態(tài)體系建設(shè)與發(fā)展，同年12月，中國發(fā)改委頒布《新材料關(guān)鍵技術(shù)產(chǎn)業(yè)化實施方案》，指出要發(fā)展高端專用化學品，包括KrF（248納米）光刻膠和ArF光刻膠(193納米)，為大型和超大型集成電路提供設(shè)備，且單套裝置規(guī)模達到10噸/年。綜上所述，中國已將光刻膠行業(yè)列為重點發(fā)展行業(yè)，積極推進光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級。相關(guān)利好政策有助于推動中國光刻膠行業(yè)技術(shù)水平的提升，從而促使中國光刻膠行業(yè)進步?！蛾P(guān)于儆好享受稅收優(yōu)惠政策的集成電路企業(yè)或項目、軟件企業(yè)清單制定工作有關(guān)要求的通知》《關(guān)于促進集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展企業(yè)所得稅政策的公告》行業(yè)PEST-》行業(yè)政策工信部國務(wù)院《電子基礎(chǔ)材料和關(guān)鍵元器件“十一五”專項規(guī)劃》指出要重點支持國內(nèi)6英寸及以上集成電路生產(chǎn)所有的248納米及以下光刻膠、引線框架等配套產(chǎn)品?！秶壹呻娐樊a(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》《國家重點支持的高新技術(shù)領(lǐng)域（2015）》提出要加強集成電路裝備、材料與工藝結(jié)合，開發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關(guān)鍵材料，加強集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協(xié)作，加快產(chǎn)業(yè)化進程，增強產(chǎn)業(yè)配套能力。明確將高分辨率光刻膠及配套化學品列入“精細化學品”大類的“電子化學品”項，光刻膠成為中國重點發(fā)展的新材料領(lǐng)域。科技部、財政部行業(yè)社會環(huán)境我國光刻膠的研究始于20世紀70年代，最初階段與國際水平相差無幾，但由于種種原因，差距愈來愈大。發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。為加快推進我國光刻膠產(chǎn)業(yè)發(fā)展，相關(guān)鼓勵性、支持性政策陸續(xù)發(fā)布。2019年，中國光刻膠銷售額達到人民幣84億元，若按美元兌人民幣匯率(1:6.5)計算，中國的市場規(guī)模幾乎占全球總量的15%。行業(yè)社會環(huán)境發(fā)展至今，我國中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地，但高端光刻膠基本全部依賴進口。2020年，在國內(nèi)市場中，面板顯示及半導(dǎo)體光刻膠國內(nèi)企業(yè)在市場中占比不足40%，但部分細分產(chǎn)品已逐步實現(xiàn)技術(shù)突破；此外，在PCB光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中，中國企業(yè)占比約61%，外資企業(yè)占比約39%近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的快速發(fā)展，光刻膠作為微電子技術(shù)中微細圖形加工的關(guān)鍵材料之一，也迎來了高速發(fā)展期。光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。光刻膠主要是由光引發(fā)劑、樹脂以及各類添加劑等化學品成份組成的對光敏感的感光性材料，光刻膠可以通過光化學反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓殘D形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上，因此光刻膠主要用于電子信息產(chǎn)業(yè)中印制電路板的線路加工、各類液晶顯示器的制作、半導(dǎo)體芯片及器件的微細圖形加工等領(lǐng)域。行業(yè)經(jīng)濟環(huán)境2光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀分析光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈光刻膠行業(yè)驅(qū)動因素光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀分析光刻膠行業(yè)市場規(guī)模產(chǎn)業(yè)鏈上游光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈上游概述中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游參與者為溶劑、樹脂、光敏劑等各類原材料供應(yīng)商和光刻機、顯影機、檢測與測試等設(shè)備供應(yīng)商。溶劑、樹脂、光敏劑是光刻膠生產(chǎn)的主要原材料，其中光敏劑在光刻膠生產(chǎn)總成本中占比達到60%。根據(jù)在光刻膠行業(yè)有多年市場運營經(jīng)驗的專家表示，在溶劑方面，中國僅有小部分企業(yè)從事研發(fā)和生產(chǎn)光刻膠溶劑，但溶劑生產(chǎn)量供不應(yīng)求，無法滿足中國光刻膠制造商的需求。在樹脂方面，中國處于起步發(fā)展階段，目前山東圣泉新材料股份有限公司具備樹脂生產(chǎn)能力，但生產(chǎn)的樹脂質(zhì)量不穩(wěn)定，符合光刻膠制造商要求的樹脂產(chǎn)量僅有30%左右。在光敏劑方面，以常州強力電子新材料股份有限公司（以下簡稱“強力新材”）為代表的光敏劑供應(yīng)商在光敏劑技術(shù)方面具有領(lǐng)先優(yōu)勢，但強力新材的光敏劑主要應(yīng)用在PCB領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)，無法應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠生產(chǎn)。當前，應(yīng)用于半導(dǎo)體和平板顯示領(lǐng)域的光刻膠光敏劑主要依靠進口，市場主要被日本東京應(yīng)化工業(yè)株式會社（以下簡稱“東京應(yīng)化”）、韓國株式會社東進世美肯（以下簡稱“東進”）和美國羅門哈斯電子材料有限公司等廠商所占據(jù)。整體而言，中國從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少，中國光刻膠原材料市場主要被日本、韓國和美國廠商所占據(jù)。因此，中國光刻膠制造商對進口材料依賴性較大，在上游原材料環(huán)節(jié)的議價能力弱。在上游設(shè)備供應(yīng)商方面，光刻機、顯影機、檢測與測試設(shè)備是中國光刻膠制造的核心設(shè)備。由于中國在光刻機、顯影機、檢測與測試設(shè)備行業(yè)的起步時間較晚，且這些設(shè)備具備較高的制造工藝壁壘，導(dǎo)致中國在光刻膠、顯影機、檢測與測試設(shè)備的國產(chǎn)化程度均低于10%，此類設(shè)備主要依賴美國、日本、荷蘭等國。其中荷蘭ASML已壟斷了高端光刻機市場。由此可見，中國在行業(yè)上游設(shè)備市場方面不具備競爭優(yōu)勢，國外設(shè)備廠商的議價能力強。產(chǎn)業(yè)鏈中游光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈中游概述中國光刻膠行業(yè)的中游參與主體為光刻膠制造商，主要負責光刻膠的研發(fā)、制造和銷售。光刻膠從原材料到最終成品的制造過程中，需要經(jīng)過成品提純、金屬雜質(zhì)去除、蒸餾、抽濾、合成、分液、濃縮等一系列生產(chǎn)工藝，每道生產(chǎn)工藝均涉及曝光光源、加工圖形線路精度等方面的不同關(guān)鍵技術(shù)。光刻膠品類繁多，針對下游不同應(yīng)用需求，每種光刻膠產(chǎn)品的原材料配方和制備要求各不相同。因此，光刻膠制造商不僅需要具備研發(fā)能力和技術(shù)應(yīng)用能力，其研發(fā)人員還需具有較強的性能評價技術(shù)、微量分析技術(shù)能力以滿足下游電子信息產(chǎn)業(yè)的功能性需求。當前全球光刻膠生產(chǎn)制造主要被日本JSR株式會社（以下簡稱“JSR”）、東京應(yīng)化、信越化學工業(yè)株式會社（以下簡稱“信越化學”）、日本住友化學株式會社（以下簡稱“住友化學”）、美國陶氏化學有限公司（以下簡稱“陶氏化學”）和韓國東進等制造商所壟斷，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領(lǐng)域，其核心技術(shù)基本由美國和日本制造商所掌握。以半導(dǎo)體制造用的光刻膠市場為例，隨著半導(dǎo)體的集成度提升，因半導(dǎo)體制造用的光刻膠純度要求高，半導(dǎo)體對高性能半導(dǎo)體光刻膠提出了更高的要求。當前日本住友化學、東京應(yīng)化，美國陶氏化學等制造商掌握超過90%的半導(dǎo)體光刻膠市場，而在制造技術(shù)先進的KrF、ArF和EUV光刻膠領(lǐng)域占據(jù)50%以上的市場，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商仍存在差距。受益于中國政府頒布的利好政策，中國光刻膠制造商加大了光刻膠的研發(fā)力度?，F(xiàn)階段，中國蘇州瑞紅、科華微電子兩家企業(yè)加強在高端光刻膠領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)布局。蘇州瑞紅的KrF光刻膠已進入中試階段。科華微電子已建立年產(chǎn)能10噸的KrF光刻膠生產(chǎn)線。光刻膠行業(yè)存在嚴格的供應(yīng)商認證機制，憑借在KrF光刻膠的成熟制造工藝，科華微電子的KrF光刻膠已通過中國本土集成電路生產(chǎn)商中芯國際集成電路制造有限公司（以下簡稱“中芯國際”）認證。與此同時，科華微電子也正在積極研發(fā)ArF光刻膠，其參與的國家科技重大專項極紫外（EUV）光刻膠項目已通過驗收，該項目完成了關(guān)鍵材料設(shè)計、制備和合成工藝研究、配方組成的研究和光刻膠設(shè)備等研究?？梢姡袊K州瑞紅和科華微電子在光刻膠產(chǎn)業(yè)積極布局，且其光刻膠已取得下游廠商的認證，這兩家光刻膠制造商已在光刻膠領(lǐng)域取得較大進步，推動了光刻膠國產(chǎn)化進程。整體而言，中國光刻膠制造商與國外制造商相比，中國本土光刻膠制造商技術(shù)不高，市場競爭力不強。未來，在光刻膠國產(chǎn)化進程加快的趨勢下，光刻膠制造商發(fā)展空間將逐步增大。產(chǎn)業(yè)鏈下游光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈下游概述中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用終端領(lǐng)域主要包括半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB領(lǐng)域。在“互聯(lián)網(wǎng)+”和5G進程持續(xù)深化的背景下，各類涉及電氣化和自動化的場景都離不開以半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB為核心的應(yīng)用。伴隨著消費升級、應(yīng)用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，下游應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)對半導(dǎo)體、平板顯示和PCB制造提出了愈加精細化的要求。光刻膠是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性材料，其質(zhì)量直接影響到電子工業(yè)產(chǎn)品的集成度和成品率。因此，隨著行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域不斷趨向定制化、個性化，下游應(yīng)用領(lǐng)域?qū)庸饪棠z行業(yè)持續(xù)發(fā)展。可見，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z行業(yè)在產(chǎn)品設(shè)計、技術(shù)發(fā)展具有導(dǎo)向性，尤其是半導(dǎo)體、平板顯示器和PCB行業(yè)的發(fā)展對光刻膠行業(yè)的發(fā)展具有至關(guān)重要的作用，這三大行業(yè)應(yīng)用的終端用戶在光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈中具有強大的議價權(quán)。行業(yè)現(xiàn)狀在全球高新技術(shù)發(fā)展的背景下，中國政府高度重視半導(dǎo)體、平板顯示器及PCB行業(yè)發(fā)展。在國家一系列紅利政策帶動下，中國半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢頭良好。作為半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)制造環(huán)節(jié)中關(guān)鍵的材料，光刻膠的市場需求得到快速釋放，尤其是平板顯示器用的光刻膠產(chǎn)量增長，中國光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢。根據(jù)研究院數(shù)據(jù)顯示，中國光刻膠產(chǎn)量從2014年的6.3萬噸增長到2018年的9.0萬噸，年復(fù)合增長率為9.3%。受益于中國紅利政策的扶持，中國本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進光刻膠國產(chǎn)化的進程。未來，中國有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動中國光刻膠產(chǎn)量進一步提升。與此同時，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、平板顯示器、PCB行業(yè)逐漸向中國轉(zhuǎn)移，帶動中國光刻膠的需求激增，中國光刻膠行業(yè)擁有較大發(fā)展空間。除此之外，在中國“工業(yè)0”、“互聯(lián)網(wǎng)+”和“中國制造2020”持續(xù)深化發(fā)展的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用終端領(lǐng)域?qū)饪棠z的需求有望持續(xù)增長，從而推動中國光刻膠產(chǎn)量提升，到2023年中國光刻膠產(chǎn)量有望達到28萬噸，市場發(fā)展空間廣闊。行業(yè)市場規(guī)模隨著PCB外資企業(yè)陸續(xù)在中國建廠，中國成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地，促使中國本土光刻膠制造商崛起，極大地推動了中國PCB光刻膠的發(fā)展。當前，中國光刻膠制造商在PCB領(lǐng)域制造用的光刻膠已逐步實現(xiàn)進口替代，打破了國外光刻膠制造商在該領(lǐng)域的壟斷，推進了中國光刻膠國產(chǎn)化進程的加快。然而，在技術(shù)要求較高的半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域，與國外光刻膠制造商相比，中國本土光刻膠制造商的生產(chǎn)配方工藝和制造技術(shù)仍存在差距。中國在半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域用的光刻膠主要集中在g線和i線光刻膠，而在中高端市場，半導(dǎo)體和平板顯示器領(lǐng)域制造用的KrF和ArF光刻膠則被日本和美國企業(yè)所占據(jù)，中國在中高端市場不具備市場競爭力，在光刻膠技術(shù)方面仍需進一步增強自身競爭力。半導(dǎo)體是光刻膠最重要的應(yīng)用領(lǐng)域。光刻和刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體芯片在精細線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的30%，耗時約占整個芯片工藝的40%~50%，是芯片制造中最核心的工藝。光刻膠及其配套化學品在芯片制造材料成本中的占比高達12%，是繼硅片、電子氣體的第三大IC制造材料。光刻膠市場需求快速增長。隨著半導(dǎo)體線路圖形越來越小，光刻工藝對光刻膠的需求量也越來越大。2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元，未來5年年均增速約8%~10%；中國半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約23億元人民幣，未來5年年均增速約10%。半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最高，國產(chǎn)化率極低PCB光刻膠主要品種有干膜光刻膠、濕膜光刻膠（又稱液態(tài)光致抗蝕劑、線路油墨）、光成像阻焊油墨等。濕膜性能優(yōu)于干膜，未來濕膜光刻膠有望逐步替代干膜光刻膠。濕膜相比干膜具有高精度、低成本的優(yōu)勢，容易得到高分辨率，滿足PCB高性能的要求。PCB行業(yè)成本中，光刻膠及油墨的占比約3~5%。全球PCB光刻膠市場規(guī)模在20億美元左右，中國市場規(guī)模占比達50%以上。隨著PCB光刻膠外企東移和內(nèi)資企業(yè)的不斷發(fā)展，中國已成為全球最大的PCB光刻膠生產(chǎn)基地。PCB光刻膠全球市場行業(yè)集中度較高。干膜光刻膠方面，臺灣長興化學、日本旭化成、日本日立化成三家公司就占據(jù)了全球80%以上的市場份額；光成像阻焊油墨方面，日本太陽油墨占據(jù)全球60%左右的市場份額，前十家公司合計占據(jù)全球80%以上的市場份額。PCB光刻膠技術(shù)含量較低，國產(chǎn)化率超過50%行業(yè)現(xiàn)狀光刻膠行業(yè)驅(qū)動因素行業(yè)驅(qū)動因素1近年來，中國發(fā)改委、國務(wù)院出臺了一系列紅利政策，鼓勵光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和技術(shù)升級，推動中國光刻膠行業(yè)國產(chǎn)化進程。政策支持半導(dǎo)體行業(yè)是電子信息高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心。在“中國制造2025”進程持續(xù)深化的背景下，人工智能、云計算、物聯(lián)網(wǎng)興起成為中國半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的主要動力。與此同時，中國作為全球最大的電子整機制造基地，對半導(dǎo)體產(chǎn)品需求不斷增長，推動中國半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。近年來，憑借著巨大的市場容量和消費群體，中國大陸半導(dǎo)體銷售額占全球半導(dǎo)體銷售額的30%左右，超過美國、歐洲、日本，成為全球最大的半導(dǎo)體銷售國，中國半導(dǎo)體市場發(fā)展勢頭良好，吸引了全球晶圓制造商在中國建廠，全球半導(dǎo)體制造產(chǎn)能逐步向中國轉(zhuǎn)移。根據(jù)國家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會數(shù)據(jù)顯示，2017年至2020年期間，中國大陸將新建27座晶圓廠，在全球新建晶圓廠數(shù)量中占比為4中國光刻膠技術(shù)逐步提高光刻膠行業(yè)驅(qū)動因素行業(yè)驅(qū)動因素2受益于國家“02專項”的支持，中國光刻膠行業(yè)從起步時期依靠進口發(fā)展到如今，已具備部分光刻膠產(chǎn)品研發(fā)和制造能力，中國光刻膠行業(yè)取得了一定的技術(shù)進步，推動光刻膠國產(chǎn)化程度的提升。現(xiàn)階段，中國在中高端光刻膠技術(shù)已得到突破。在i線光刻膠方面，科華微電子已建成年產(chǎn)500噸i線光刻膠生產(chǎn)線，打破了國外廠商在i線光刻膠的壟斷。與此同時，科華微電子已建立了KrF光刻膠生產(chǎn)線，并已通過中芯國際的認證，已實現(xiàn)小批量供貨。在高端的KrF光刻膠方面，蘇州瑞紅已建成了KrF光刻膠中試生產(chǎn)線，KrF光刻膠分辨率達到0.25～0.13微米的技術(shù)要求。中國光刻膠技術(shù)逐步提高2017年，中國國務(wù)院在《關(guān)于進一步擴大和升級信息消費持續(xù)釋放內(nèi)需潛力的指導(dǎo)意見》中提出加快第五代移動通信（5G）標準研究、技術(shù)試驗和產(chǎn)業(yè)推進，力爭2020年啟動商用。當前，中國已具備5G商用部署條件，并已逐步啟動5G通信的措施。2019年6月，中國工信部正式向中國電信、中國移動、中國聯(lián)通、中國廣電發(fā)放5G商用牌照。中國移動、中國聯(lián)通、中國電信三大運營均已公布5G部署。而高頻PCB是實現(xiàn)5G應(yīng)用的電子部件之一。因此，5G的商用成為光刻膠行業(yè)發(fā)展的動力，帶動光刻膠的需求增長。5G通信系統(tǒng)在3,000MHz～5,000MHz的頻率使用，與4G通信系統(tǒng)相比，5G數(shù)據(jù)傳輸速度提高10倍以上。為實現(xiàn)無線傳輸、增加傳輸速率，大規(guī)模的天線陣列和超密集組網(wǎng)是發(fā)展5G的關(guān)鍵技術(shù)，而高頻PCB是5G通信基材，具有低損耗、高可靠性、高頻特性等特點。在5G技術(shù)的發(fā)展下，5G新建的通信基站數(shù)量將會達到4G時代的2倍以上，超密集小基站建設(shè)擴大了高頻PCB需求。作為PCB制造環(huán)節(jié)的必備材料，中國光刻膠市場需求相應(yīng)地將快速釋放。全球半導(dǎo)體制造基地向中國轉(zhuǎn)移3行業(yè)痛點及發(fā)展建議行業(yè)痛點行業(yè)發(fā)展建議行業(yè)痛點光刻膠是技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，是集基礎(chǔ)化學、物理學和電子工程等多學科結(jié)合的綜合學科領(lǐng)域，對多學科交叉的復(fù)合型人才需求較大。雖然目前中國高校設(shè)置了相關(guān)光刻膠領(lǐng)域的課程，但是受教學配套設(shè)施資源有限的影響，中國大部分高校的課程設(shè)置仍然滯后，難以形成實際操作應(yīng)用。而光刻膠的實際生產(chǎn)要求光刻膠技術(shù)人員具有很強專業(yè)性:不僅要求技術(shù)人員具備較強的技術(shù)理論水平，技術(shù)綜合運用能力和實際操作經(jīng)驗，還需要技術(shù)人員對行業(yè)發(fā)展趨勢有深入的了解，才能把握市場機遇，進行產(chǎn)品開發(fā)以達到行業(yè)領(lǐng)先水平。但由于培養(yǎng)一位光刻膠人才需要3-5年，培養(yǎng)經(jīng)驗豐富的專業(yè)人才需要至少10年，導(dǎo)致目前中國光刻膠相關(guān)企業(yè)的專業(yè)人才儲備不足。專業(yè)人才儲備不足光刻膠品種種類繁多、專業(yè)跨度大，其行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)企業(yè)對光刻膠純度和性能要求嚴格。因此，光刻膠行業(yè)存在較為嚴格的供應(yīng)商認證機制，下游應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域企業(yè)與光刻膠制造商合作前會對光刻膠制造商的研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、產(chǎn)品質(zhì)量及性能等方面進行充分考核。光刻膠制造商成為合格供應(yīng)商之前，必須經(jīng)過產(chǎn)品送樣測試、樣品認證、樣品中試、工廠現(xiàn)場審核、小批試做、大批量供貨等嚴格的篩選流程，認證流程多、周期長。光刻膠供應(yīng)商一旦通過下游應(yīng)用廠商的認證，將會成為光刻膠的合格供應(yīng)商，并形成相對穩(wěn)定的合作關(guān)系且不輕易更換。穩(wěn)定的合作關(guān)系使得行業(yè)中知名企業(yè)具有一定的客戶壁壘，而這一穩(wěn)定的合作模式也使得光刻膠生產(chǎn)商的市場份額較為穩(wěn)定，市場新進入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭，簽約新客戶的難度高，同時也導(dǎo)致中小光刻膠制造商的產(chǎn)品難以進行測試與改進。由于光刻膠行業(yè)技術(shù)門檻較高，主要的光刻膠市場被國外制造商所占據(jù)，中國光刻膠制造商在行業(yè)的市場份額低。因此，在國外光刻膠制造商占據(jù)主要市場份額的形勢下，嚴格的供應(yīng)商認證機制會使中國光刻膠制造商尤其是中小規(guī)模的光刻膠制造商難以發(fā)展壯大，阻礙了中國光刻膠行業(yè)的發(fā)展。行業(yè)進入壁壘高光刻膠品種種類繁多、專業(yè)跨度大，其行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域相關(guān)企業(yè)對光刻膠純度和性能要求嚴格。因此，光刻膠行業(yè)存在較為嚴格的供應(yīng)商認證機制，下游應(yīng)用相關(guān)領(lǐng)域企業(yè)與光刻膠制造商合作前會對光刻膠制造商的研發(fā)能力、生產(chǎn)能力、產(chǎn)品質(zhì)量及性能等方面進行充分考核。光刻膠制造商成為合格供應(yīng)商之前，必須經(jīng)過產(chǎn)品送樣測試、樣品認證、樣品中試、工廠現(xiàn)場審核、小批試做、大批量供貨等嚴格的篩選流程，認證流程多、周期長。光刻膠供應(yīng)商一旦通過下游應(yīng)用廠商的認證，將會成為光刻膠的合格供應(yīng)商，并形成相對穩(wěn)定的合作關(guān)系且不輕易更換。穩(wěn)定的合作關(guān)系使得行業(yè)中知名企業(yè)具有一定的客戶壁壘，而這一穩(wěn)定的合作模式也使得光刻膠生產(chǎn)商的市場份額較為穩(wěn)定，市場新進入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭，簽約新客戶的難度高，同時也導(dǎo)致中小光刻膠制造商的產(chǎn)品難以進行測試與改進。由于光刻膠行業(yè)技術(shù)門檻較高，主要的光刻膠市場被國外制造商所占據(jù)，中國光刻膠制造商在行業(yè)的市場份額低。因此，在國外光刻膠制造商占據(jù)主要市場份額的形勢下，嚴格的供應(yīng)商認證機制會使中國光刻膠制造商尤其是中小規(guī)模的光刻膠制造商難以發(fā)展壯大，阻礙了中國光刻膠行業(yè)的發(fā)展。光刻機的配套需求復(fù)合型人才稀缺光刻膠行業(yè)深陷人才困境。行業(yè)發(fā)展缺乏人才支撐，團隊模式的培育機制弊端明顯導(dǎo)致光刻膠行業(yè)企業(yè)專業(yè)人才留存難度加大，制約光刻膠行業(yè)企業(yè)擴張。光刻膠行業(yè)對從業(yè)人員的業(yè)務(wù)素質(zhì)要求高，主要表現(xiàn)在以下三方面從業(yè)人員需要具備行業(yè)基礎(chǔ)知識和法律知識，為企業(yè)客戶提供全面、可靠、專業(yè)、多樣的解決方案。從業(yè)人員需要懂行業(yè)的專業(yè)知識，包括：光刻膠行業(yè)產(chǎn)品得用途與優(yōu)缺點，行業(yè)特征、市場環(huán)境和產(chǎn)業(yè)戰(zhàn)略規(guī)劃等。從業(yè)人員需要具有優(yōu)秀的營銷談判能力、風控反控能力及報告溝通能力。目前該行業(yè)在人才招聘時能夠匹配上述要求的人才寥寥無幾，限制行業(yè)發(fā)展。由于復(fù)合型人才稀缺，光刻膠行業(yè)企業(yè)通常采用團隊培育的方式進行專業(yè)能力建設(shè)，而該模式亦存在一定的弊端，企業(yè)的中高端人才若大量流失，初級員工的業(yè)務(wù)技能培訓(xùn)將面臨能力傳承的斷層，導(dǎo)致企業(yè)人才培養(yǎng)難度加大，制約光刻膠行業(yè)企業(yè)發(fā)展。質(zhì)量提升在資本的加持下，光刻膠的跑馬圈地仍在持續(xù)，預(yù)計2021年將會更加殘酷和激烈。同時，在線教育也面臨著更嚴格的監(jiān)管，合規(guī)成本提升。光刻膠行業(yè)產(chǎn)品品種多、批量小、附加值高，產(chǎn)品質(zhì)量要求也較為嚴格。光刻膠行業(yè)市場產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊，假冒偽劣等亂象仍普遍存在，嚴重阻礙光刻膠行業(yè)發(fā)展進步。未來，提升光刻膠行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量是發(fā)展光刻膠行業(yè)的核心任務(wù)，具體措施可分為以下兩大部分：（1）政府方面：政府應(yīng)當制定行業(yè)生產(chǎn)標準，規(guī)范光刻膠行業(yè)生產(chǎn)流程，并成立相關(guān)部門，對科研用光刻膠行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等各個環(huán)節(jié)進行監(jiān)督，形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理體系，完善試劑流通環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)，重點加強冷鏈運輸環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施升級，保證光刻膠行業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量，促進行業(yè)長期穩(wěn)定的發(fā)展；（2）生產(chǎn)企業(yè)方面：光刻膠行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)嚴格遵守行業(yè)生產(chǎn)規(guī)范，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。目前市場上已有多個本土光刻膠行業(yè)企業(yè)加強生產(chǎn)質(zhì)量的把控，對標優(yōu)質(zhì)、高端的進口產(chǎn)品，并憑借價格優(yōu)勢逐步替代進口。此外，光刻膠行業(yè)企業(yè)緊跟行業(yè)研發(fā)潮流，加大創(chuàng)新研發(fā)力度，不斷推出新產(chǎn)品，進一步擴大市場占有率，也是未來行業(yè)發(fā)展的重要趨勢提升產(chǎn)品質(zhì)量生產(chǎn)企業(yè)方面政府方面新鮮有趣的玩法與促銷節(jié)日的緊密融合將有效增加用戶黏性，隨著網(wǎng)民的社交、娛樂需求在電商場景不斷得到釋放，電商平臺應(yīng)推出更多貼合用戶口味的創(chuàng)意玩法，從而推動促銷節(jié)日的高效傳播與轉(zhuǎn)化。促銷節(jié)日的實惠程度關(guān)系用戶消費意愿，未來促銷節(jié)日應(yīng)回歸促銷的本質(zhì)，避免過多噱頭和復(fù)雜規(guī)則影響消費體驗，努力實現(xiàn)讓用戶獲益、廠家增收的共贏效果。2019年中國電商促銷節(jié)日用戶消費意愿影響因素占比全面增值服務(wù)1199增值服務(wù)提高產(chǎn)品定制服務(wù)需求日益多樣化行業(yè)同質(zhì)化競爭嚴重光刻膠行業(yè)企業(yè)服務(wù)模式單一。面對各級消費群體日益多樣的服務(wù)需求，光刻膠行業(yè)企業(yè)提供全面增值服務(wù)，構(gòu)建綜合服務(wù)體系，形成核心競爭力，是當前光刻膠行業(yè)發(fā)展的必然趨勢。光刻膠行業(yè)企業(yè)的轉(zhuǎn)型壓力主要源于以下三大方面：單一的資金提供方角色僅能為光刻膠行業(yè)企業(yè)提供“凈利差”的盈利模式，光刻膠行業(yè)同質(zhì)化競爭日趨嚴重，利潤空間不斷被壓縮，企業(yè)業(yè)務(wù)收入因此受影響，商業(yè)模式亟待轉(zhuǎn)型除傳統(tǒng)的光刻膠行業(yè)需求外，設(shè)備管理、服務(wù)解決方案、貸款解決方案、結(jié)構(gòu)化融資方案、專業(yè)咨詢服務(wù)等方面多方位綜合性的增值服務(wù)需求也逐步增強中國本土光刻膠行業(yè)龍頭企業(yè)開始在定制型服務(wù)領(lǐng)域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位多元化融資渠道豐富企業(yè)的債券種類關(guān)鍵詞一深化與核心銀行的合作關(guān)系關(guān)鍵詞二拓展銀行關(guān)系渠道關(guān)鍵詞三光刻膠行業(yè)企業(yè)在保證間接融資渠道通暢的同時，能夠綜合運用發(fā)債和資產(chǎn)證券化等方式促進自身融資渠道的多元化，降低對單一產(chǎn)品和市場的依賴程度，實現(xiàn)融資地域的分散化，從而降低資金成本，提升企業(yè)負債端的市場競爭力。以遠東宏信為例，公司依據(jù)自身戰(zhàn)略發(fā)展需求，堅持“資源全球化”戰(zhàn)略，結(jié)合實時國內(nèi)外金融環(huán)境，有效調(diào)整公司直接融資和間接融資的分布結(jié)構(gòu)，在融資成本方面與同業(yè)相比優(yōu)勢突出企業(yè)獲取各業(yè)態(tài)銀行如國有銀行、政策性銀行、外資銀行以及其他中資行的授信額度，確保了銀行貸款資金來源的穩(wěn)定性可持續(xù)公司債等創(chuàng)新產(chǎn)品，擴大非公開定向債務(wù)融資工具（PPN）、公司債等額度獲取，形成了公司債、PPN、中期票據(jù)、短融、超短融資等多產(chǎn)品、多市場交替發(fā)行的新局面；光刻膠行業(yè)需要通過杠桿推動業(yè)務(wù)運轉(zhuǎn)，從負債端看，光刻膠行業(yè)企業(yè)的融資能力對資金成本和資金流動性具有決定性作用，因此，光刻膠行業(yè)企業(yè)打通多元化融資渠道，提高資金周轉(zhuǎn)率，將是促進光刻膠行業(yè)業(yè)務(wù)發(fā)展的重要舉措。融資渠道拓展的主要方式主要包括以下三點：

拓展技術(shù)服務(wù)領(lǐng)域光刻膠行業(yè)屬于領(lǐng)域中發(fā)展最快的細分領(lǐng)域之一，隨著光刻膠的市場環(huán)境日趨成熟，行業(yè)競爭日趨激烈，多家光刻膠企業(yè)開始擴張產(chǎn)品相關(guān)服務(wù)領(lǐng)域，提升企業(yè)的行業(yè)競爭力，主要舉措包括：提高產(chǎn)品定制服務(wù)能力提升技術(shù)服務(wù)能力供科研咨詢服務(wù)光刻膠行業(yè)企業(yè)開始在定制型服務(wù)領(lǐng)域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位光刻膠行業(yè)企業(yè)面向多元化的科研實驗需求，建立多種技術(shù)服務(wù)平臺，向客戶提供除了所需的原材料以外的提取、分析等技術(shù)服務(wù)，形成企業(yè)特有競爭力通過進行細化分工，為客戶制定科研問題解決方案，使客戶能更加專注于其擅長的領(lǐng)域，提高科研效率，且?guī)椭袠I(yè)大幅節(jié)省醫(yī)學科研投入聚焦投資業(yè)務(wù)行業(yè)資源優(yōu)勢金融資源優(yōu)勢服務(wù)優(yōu)勢光刻膠行業(yè)廠商長期參與采購與評估，積累了較為豐富的上游廠商資源儲備，且與多家廠商建立長期合作關(guān)系光刻膠行業(yè)商依托本身提供的資金服務(wù)，具備融資渠道暢通的資金優(yōu)勢，可為行業(yè)建設(shè)提供初期資金支持，且可通過杠桿提升資金效率光刻膠行業(yè)企業(yè)憑借多年的客戶服務(wù)經(jīng)驗，服務(wù)體系日趨完備，信息化服務(wù)于一身的綜合服務(wù)體系，能夠進行有效遷移，為投資業(yè)務(wù)的長期健康發(fā)展提供有力支持光刻膠行業(yè)頭部企業(yè)已形成完善的的服務(wù)體系，在中國政府逐步放寬企業(yè)的準入條件，鼓勵并支持的政策背景下，光刻膠行業(yè)企業(yè)開拓投資業(yè)務(wù)，通過產(chǎn)融結(jié)合向?qū)崢I(yè)運營縱深發(fā)展，光刻膠行業(yè)未來的重要發(fā)展趨勢。&&&

頁巖氣革命后，乙烷價格持續(xù)走低。美國是世界上最大的乙烷生產(chǎn)國，也是唯一的乙烷出口國。美國乙烷主要來自濕天然氣經(jīng)過天然氣廠分離后得到的天然氣液（NGL,Naturalgasliquids）和原油開采副產(chǎn)的凝析油經(jīng)過煉廠處理后得到的液化煉廠氣（LRG,Liquefiedrefinerygases），其中前者貢獻了絕大部分。自2010年以來，美國NGL產(chǎn)量幾乎翻了一番，超過了天然氣產(chǎn)量增長率，并創(chuàng)下了2017年370萬桶/天的年度記錄。由于頁巖氣產(chǎn)量不斷增加，同時受管道運輸中乙烷比例不能超過12%的限制，美國乙烷產(chǎn)量也持續(xù)提升。并且乙烷相對較低的熱值及沸點使其作為液化燃料無法與丙烷和丁烷競爭，分離費用也降低了其作為管道氣的吸引力，乙烷自身產(chǎn)量又高于其它NGL組分，其供給過剩的情況日益凸顯。這導(dǎo)致美國乙烷價格在2011年底開始下降，并且在2013年至2015年由于乙烷產(chǎn)量超過消費量，乙烷價格一度低于天然氣價格，直到隨后乙烷需求增加價格才逐漸回升至2016年平均150美元/噸和2017年平均184美元/噸。2018年6月份開始乙烷價格受供需影響迎來一波大漲，目前處于高位回落階段。

競爭趨勢隨著科技不斷發(fā)展，光刻膠企業(yè)對光刻膠行業(yè)產(chǎn)品的研發(fā)投入不斷加大，企業(yè)形成自己的技術(shù)堡壘是在未來市場中取得市場份額的重要收到，因此技術(shù)競爭也是未來行業(yè)競爭的重要方向之一。光刻膠行業(yè)的競爭促進了產(chǎn)品質(zhì)量與服務(wù)的持續(xù)優(yōu)化與創(chuàng)新，在滿足客戶需求的同時也給行業(yè)服務(wù)帶來不斷的新體驗。優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是光刻膠行業(yè)競爭的重要焦點與未來趨勢?？蛻羰巧系郏瑵M足客戶的需求是光刻膠行業(yè)企業(yè)的價值實現(xiàn)，光刻膠行業(yè)競爭趨勢首先在需求的分析與客戶痛點的把握。小眾運動場景日益崛起，帶動了新的光刻膠行業(yè)產(chǎn)品需求。隨著行業(yè)的競爭不斷加劇，企業(yè)競爭的本質(zhì)是人才的競爭，光刻膠行業(yè)企業(yè)都在不斷提升專業(yè)員工的技術(shù)水平。通過專項培訓(xùn)、高薪招聘吸引高端優(yōu)質(zhì)人才加入。人才競爭是未來光刻膠行業(yè)競爭的核心點之一。

服務(wù)技術(shù)需求人才投資機會專家服務(wù)模式更側(cè)重借助專家的實際從業(yè)經(jīng)驗與洞察，針對企業(yè)遇到的實際問題給出一針見血的建議。全方位賦能，尤其是在服務(wù)能力的提升上，以更加完善的服務(wù)體系建設(shè)，為消費者帶來更好的產(chǎn)品體驗。010203投資機會投資機會投資機會光刻膠行業(yè)資源整合光刻膠行業(yè)咨詢管理光刻膠行業(yè)產(chǎn)品服務(wù)根據(jù)企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略和市場需求對有關(guān)的資源進行重新配置，以突顯企業(yè)的核心競爭力，并尋求資源配置與客戶需求的最佳結(jié)合點。目的是要通過組織制度安排和管理運作協(xié)調(diào)來增強企業(yè)的競爭優(yōu)勢，提高客戶服務(wù)水平。行業(yè)發(fā)展建議ABC發(fā)展建議1發(fā)展建議2發(fā)展建議3提升產(chǎn)品質(zhì)量（1）政府方面：政府應(yīng)當制定行業(yè)生產(chǎn)標準，規(guī)范光刻膠行業(yè)生產(chǎn)流程，并成立相關(guān)部門，對科研用光刻膠行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售等各個環(huán)節(jié)進行監(jiān)督，形成統(tǒng)一的監(jiān)督管理體系，完善試劑流通環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)，重點加強冷鏈運輸環(huán)節(jié)的基礎(chǔ)設(shè)施升級，保證光刻膠行業(yè)產(chǎn)品的質(zhì)量，促進行業(yè)長期穩(wěn)定的發(fā)展；（2）生產(chǎn)企業(yè)方面：光刻膠行業(yè)生產(chǎn)企業(yè)應(yīng)嚴格遵守行業(yè)生產(chǎn)規(guī)范，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。目前市場上已有多個本土光刻膠行業(yè)企業(yè)加強生產(chǎn)質(zhì)量的把控，對標優(yōu)質(zhì)、高端的進口產(chǎn)品，并憑借價格優(yōu)勢逐步替代進口。此外，光刻膠行業(yè)企業(yè)緊跟行業(yè)研發(fā)潮流，加大創(chuàng)新研發(fā)力度，不斷推出新產(chǎn)品，進一步擴大市場占有率，也是未來行業(yè)發(fā)展的重要趨勢。全面增值服務(wù)單一的資金提供方角色僅能為光刻膠行業(yè)企業(yè)提供“凈利差”的盈利模式，光刻膠行業(yè)同質(zhì)化競爭日趨嚴重，利潤空間不斷被壓縮，企業(yè)業(yè)務(wù)收入因此受影響，商業(yè)模式亟待轉(zhuǎn)型除傳統(tǒng)的光刻膠行業(yè)需求外，設(shè)備管理、服務(wù)解決方案、貸款解決方案、結(jié)構(gòu)化融資方案、專業(yè)咨詢服務(wù)等方面多方位綜合性的增值服務(wù)需求也逐步增強。中國本土光刻膠行業(yè)龍頭企業(yè)開始在定制型服務(wù)領(lǐng)域發(fā)力，鞏固行業(yè)地位多元化融資渠道可持續(xù)公司債等創(chuàng)新產(chǎn)品，擴大非公開定向債務(wù)融資工具（PPN）、公司債等額度獲取，形成了公司債、PPN、中期票據(jù)、短融、超短融資等多產(chǎn)品、多市場交替發(fā)行的新局面；企業(yè)獲取各業(yè)態(tài)銀行如國有銀行、政策性銀行、外資銀行以及其他中資行的授信額度，確保了銀行貸款資金來源的穩(wěn)定性。光刻膠行業(yè)企業(yè)在保證間接融資渠道通暢的同時，能夠綜合運用發(fā)債和資產(chǎn)證券化等方式促進自身融資渠道的多元化，降低對單一產(chǎn)品和市場的依賴程度，實現(xiàn)融資地域的分散化，從而降低資金成本，提升企業(yè)負債端的市場競爭力。以遠東宏信為例，公司依據(jù)自身戰(zhàn)略發(fā)展需求，堅持“資源全球化”戰(zhàn)略，結(jié)合實時國內(nèi)外金融環(huán)境，有效調(diào)整公司直接融資和間接融資的分布結(jié)構(gòu)，在融資成本方面與同業(yè)相比優(yōu)勢突出。4行業(yè)格局及前景趨勢行業(yè)格局行業(yè)發(fā)展趨勢行業(yè)代表企業(yè)行業(yè)趨勢EUV光刻膠將成為主流光刻膠產(chǎn)品定制化需求增長光刻膠產(chǎn)品國產(chǎn)化程度提升當前，中國光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)技術(shù)仍主要依賴進口，尤其是生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠主要設(shè)備和材料主要依賴進口，對外依存度達到90%以上，導(dǎo)致中國在光刻膠生產(chǎn)和加工上缺少市場話語權(quán)。在“中國制造2025”的背景下，中國本土光刻膠企業(yè)正積極對標國外光刻膠技術(shù)，同時對新的核心技術(shù)有著較大的發(fā)展需求，這促使中國本土光刻膠企業(yè)研發(fā)動力不斷增強，中國有望在5年內(nèi)實現(xiàn)中高端光刻膠產(chǎn)品替代。與此同時，由于光刻膠行業(yè)的技術(shù)壁壘較高，一旦企業(yè)缺少核心技術(shù)，將在光刻膠市場不具備競爭優(yōu)勢，這樣的形勢促使中國本土領(lǐng)先光刻膠企業(yè)通過加強技術(shù)研發(fā)，以減少與國外企業(yè)的技術(shù)差距，推出自主研發(fā)的國產(chǎn)光刻膠以替代進口。目前中國蘇州瑞紅和科華微電子已掌握了自主研發(fā)的i線、KrF和EUV光刻膠技術(shù)，其中蘇州瑞紅和科華微電子在i線和KrF光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了自主加工制造。隨著中國光刻膠技術(shù)不斷進步和行業(yè)下游需求持續(xù)增長，未來中國光刻膠將逐步完成國產(chǎn)化進口，光刻膠的國產(chǎn)化趨勢明顯。本土企業(yè)也在面板光刻膠細分領(lǐng)域積極想辦法迅速突破技術(shù)瓶頸，目前晶瑞股份和北京科華微已經(jīng)在觸控屏光刻膠實現(xiàn)量產(chǎn)；北京科華微和飛凱新材在TFT-LCD正性光刻膠實現(xiàn)量產(chǎn)；晶瑞股份在TFT-LCD正性光刻膠進行產(chǎn)能建設(shè)。而雅克科技則希望通過參股及兼并收購的方式迅速實現(xiàn)技術(shù)與產(chǎn)能突破。2018年7月，雅克科技通過參股江蘇科特美新材料有限公司10%股權(quán)布局TFT-LCD正性光刻膠，該公司的主要運營實體是韓國CotemCo。，Ltd。公司，COTEM位于韓國京能道坡州市，主要產(chǎn)品是IFT-PR及光刻膠輔助材料(顯影液、清洗液等)、B以樹脂、碳納米管等。2020年8月，雅克科技再次參股雅克科技45%股權(quán)，雅克科技目前占據(jù)江蘇科特美新材料有限公司55%的股權(quán)。此外，2020年2月，雅克科技通過香港斯洋國際有限公司收購韓國LG化學下屬的彩色光刻膠事業(yè)部的部分經(jīng)營性資產(chǎn)，并將在標的資產(chǎn)交割完成后的18個月時間內(nèi)，在韓國投資建設(shè)彩色光刻膠生產(chǎn)工廠。部分企業(yè)通過參股與收購方式加速實現(xiàn)技術(shù)突破在全球化技術(shù)浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革正加快升級步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品趨向定制化和多樣化需求增長。光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢，對光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術(shù)工藝和光刻膠產(chǎn)品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個性化方向發(fā)展。為滿足行業(yè)下游個性化的需求，光刻膠制造商需要根據(jù)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域企業(yè)提出的整體生產(chǎn)工藝和定制化設(shè)計需求，設(shè)計和制造出符合客戶產(chǎn)品的技術(shù)和生產(chǎn)工藝，同時還需提供一體化技術(shù)綜合服務(wù)和產(chǎn)品升級服務(wù)等解決方案。因此，在全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)升級的背景下，行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域市場將趨向非標準化，推動定制化光刻膠需求的增長。光刻膠的波長由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（15納米）的方向轉(zhuǎn)移。隨著光刻膠的曝光波長縮短，光刻膠所能達到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進集成電路芯片向更小的制程節(jié)點發(fā)展。近年來，隨著芯片技術(shù)的提高，集成電路芯片從14納米、10納米、7納米、逐步發(fā)展到5納米。受技術(shù)工藝和成本的影響，7納米及7納米以下芯片還未形成大規(guī)?；懂a(chǎn)使用。但隨著7納米芯片制程工藝生產(chǎn)技術(shù)的成熟，芯片將從10納米向7納米及7納米以下發(fā)展。雖然現(xiàn)階段已成功利用ArF浸沒式光刻工藝和多重曝光技術(shù)突破ArF光刻膠的極限分辨率，使得可加工的微細線路尺寸縮小到10納米和7納米工藝節(jié)點，但ArF光刻膠未能實現(xiàn)特定圖形線路圖制造，而EUV通過縮短光線的波長來提高曝光時的分辨率，從而滿足微細圖形線路的加工制造需求。因此，EUV是實現(xiàn)14納米節(jié)點以下的最可行方案。當前，三星電子和臺積電已具備EUV制程。如臺積電采用EUV制程，量產(chǎn)7納米芯片產(chǎn)品，在