XX試點(diǎn)單位專利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班副本

XX試點(diǎn)單位專利管理實(shí)務(wù)培訓(xùn)班副本波士頓矩陣分析知識(shí)產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來什么？OR企業(yè)需要知識(shí)產(chǎn)權(quán)為其帶來什么？市場競爭優(yōu)勢(shì)政府獎(jiǎng)勵(lì)專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的作用知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元，占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號(hào)，AOL宣布與微軟達(dá)成協(xié)議，以10.56億美元向后者出售800件專利和專利申請(qǐng)，平均每件專利支付125美元。4月25日消息，微軟以5.5億美元的價(jià)格把收購的多數(shù)AOL的專利轉(zhuǎn)手賣給facebook知識(shí)產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價(jià)值財(cái)務(wù)資本知識(shí)資本財(cái)務(wù)資本貨幣資本人力資本關(guān)系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負(fù)債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶關(guān)系供應(yīng)商關(guān)系專利商標(biāo)權(quán)著作權(quán)工作流程商業(yè)秘密激勵(lì)和保護(hù)創(chuàng)新，降低經(jīng)營風(fēng)險(xiǎn)創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商和部分國外廠商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)的研制創(chuàng)新成果二：申請(qǐng)了一件雙模雙待相關(guān)的專利創(chuàng)新成果三：在運(yùn)營商重組之前，讓雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)入實(shí)用階段研發(fā)保護(hù)實(shí)施申請(qǐng)?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱：CDMA/GSM雙模式移動(dòng)

通信的方法及通信設(shè)備申請(qǐng)人：華立集團(tuán)有限公司e.g.2CD的展會(huì)五力模型BECDA和下游廠商的議價(jià)能力和供應(yīng)商的議價(jià)能力潛在競爭者的競爭能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對(duì)手的競爭較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競爭力同一IP管理大師的不同策略明確企業(yè)所需知識(shí)產(chǎn)權(quán)帶來的價(jià)值，這是企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理的魂魄！專利挖掘?qū)＠诰蚣夹g(shù)成果技術(shù)成果專利申請(qǐng)素材專利挖掘?qū)＠诰颍钦驹趯＠囊暯?，?duì)紛繁的技術(shù)成果進(jìn)行剖析、拆分、篩選以及合理推測，進(jìn)而得出各技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)和專利申請(qǐng)技術(shù)方案的過程。專利挖掘的意義挖掘思路對(duì)于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用，挖掘期間分析出來的所有可能存在專利申請(qǐng)素材的創(chuàng)新點(diǎn)都可以是進(jìn)一步研發(fā)的方向能夠從基礎(chǔ)專利出發(fā)梳理出所有的關(guān)聯(lián)技術(shù)點(diǎn)及其對(duì)應(yīng)的外圍專利，從而為基礎(chǔ)專利建立牢固的保護(hù)網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專利保護(hù)的漏洞，并且能以現(xiàn)有技術(shù)成果為基礎(chǔ)，將專利保護(hù)的范圍延伸到所有可能具有專利申請(qǐng)價(jià)值的技術(shù)點(diǎn)專利法所稱的技術(shù)方案：運(yùn)用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、生活中某一特定技術(shù)問題的具體構(gòu)思，是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案，是利用自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實(shí)驗(yàn)中各種問題的技術(shù)解決方案。方法專利挖掘的對(duì)象

技術(shù)方案

產(chǎn)品專利挖掘的對(duì)象

產(chǎn)品

方法

新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法

已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品改進(jìn)后的產(chǎn)品

結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品

材料發(fā)生改變的產(chǎn)品

組合而成的產(chǎn)品可申請(qǐng)專利研發(fā)成果的典型特點(diǎn)技術(shù)效果技術(shù)問題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術(shù)沒能解決的技術(shù)問題采用的技術(shù)實(shí)現(xiàn)過程與現(xiàn)有技術(shù)不同取得的技術(shù)效果比現(xiàn)有技術(shù)有進(jìn)步技術(shù)方案誤區(qū)一：專利的技術(shù)含量必須很高能夠獲得專利的依據(jù)是專利法對(duì)于

專利的審查標(biāo)準(zhǔn)（新穎性和創(chuàng)造性

等），不是該專利能否符合國家的

技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)要求，也不是技術(shù)含量

的高低。專利挖掘常見的誤區(qū)案例一：用于干燥長條形面食的桿技術(shù)問題：面條掛在桿上送入干燥室，面條容易粘在桿的表面，桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。

專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)二：簡單的結(jié)構(gòu)不能專利專利挖掘常見的誤區(qū)專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴技術(shù)問題：現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴，噴射低壓條件下的粘稠液體時(shí)容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象，維護(hù)麻煩。專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲(chǔ)器通用串行總線

快閃存儲(chǔ)器的外存儲(chǔ)使用方式簡單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該利用專利保護(hù)，防

止競爭對(duì)手仿制專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請(qǐng)專利專利挖掘常見的誤區(qū)發(fā)明、實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)保護(hù)的是什么？對(duì)于機(jī)械、機(jī)電、電子類產(chǎn)品而言，技術(shù)內(nèi)涵可通過構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來表達(dá)樣機(jī)、樣品制作耗時(shí)專利申報(bào)的原則專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個(gè)專利專利挖掘常見的誤區(qū)手機(jī)外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋果三星專利布局專利布局的戰(zhàn)略：AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比，定義了細(xì)長的幾何權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求下位產(chǎn)品權(quán)利要求專利組合戰(zhàn)略專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求專利布局的戰(zhàn)略：ALEDCHIPABCDABCHLEDPACKAGEPOWERLEDPACKAGEABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市BACKLIHTDEVICESCANNINGDEVICEILLUMINATEDEVICE專利布局的戰(zhàn)略：B權(quán)利要求同時(shí)布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高專利布局的戰(zhàn)略：C權(quán)利要求同時(shí)從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高模塊設(shè)備LG’sUS5835139傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但是造成外板太厚……上框套在下框內(nèi)把4個(gè)螺絲改從側(cè)邊通過下框鎖住上框。easy解決方案專利主題：液晶顯示器螺絲在這由7件專利構(gòu)成專利布局

-Filedfrom3JUL1997to28DEC200135個(gè)權(quán)利要求獨(dú)立項(xiàng)

-ALCD-AmethodofmakingaLCDdevice-Aportablecomputer-Amethodofmakingaportablecomputer-Akitforassemblingadisplaymodule-housingassemblyforaLCDmodule專利布局目的

-簡單的創(chuàng)意，獨(dú)特的發(fā)明，強(qiáng)大的專利布局

-擴(kuò)大訴訟之求償基礎(chǔ)與許可談判之能力

-獲取的權(quán)利金遠(yuǎn)超過專利申請(qǐng)費(fèi)用專利布局LPLvs

中華映管VSLPL于2002年8月在美國加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專利（US6002457,US5926237，US6373537,US6020942）,與二件方法專利（US4624737,US5825449）TOP10PATENTAWARDIN2006尋找訴訟對(duì)象他山之石可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)，并非LCD相關(guān)的核心技術(shù)，而是周邊的應(yīng)用技術(shù)；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)只是周邊的應(yīng)用技術(shù)，但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段；側(cè)邊鎖固“slidemount”技術(shù)并非LCD相關(guān)產(chǎn)品的核心技術(shù)，但卻可以拿到專利權(quán)，并經(jīng)過良好的撰寫，使得可以得到很大的專利范圍；經(jīng)過不斷的回避設(shè)計(jì)，可以形成完整的專利組合，阻卻別人使用或者進(jìn)入。專利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時(shí)從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組件應(yīng)用產(chǎn)品侵權(quán)舉證容易對(duì)應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對(duì)應(yīng)之金額較高成品從一件專利看專利布局全球?qū)＠季謱＠季值牡貐^(qū)（國家）從法律所給予專利的權(quán)利進(jìn)行思考-中國專利法第十一條發(fā)明和實(shí)用新型專利權(quán)被授予后，除本法另有規(guī)定的以外，任何單位或個(gè)人未經(jīng)專利權(quán)人許可，都不得實(shí)施其專利，即不得為生產(chǎn)經(jīng)營目的制造、使用、銷售、許諾銷售、進(jìn)口其專利產(chǎn)品，或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售、進(jìn)口依照該專利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷售地區(qū)、出口地區(qū)等，都應(yīng)該進(jìn)行專利布局。專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-賠償金較高-和解金、許可費(fèi)、權(quán)利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-賠償金較高再次由訴訟費(fèi)用高、賠償金額大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費(fèi)信息利用世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻(xiàn)中都有記載如果能夠有效利用專利信息，可以縮短60%的研發(fā)周期，節(jié)省40%的研發(fā)費(fèi)用。比亞迪的經(jīng)驗(yàn)-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上，在繼承的基礎(chǔ)上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專利，突破西方企業(yè)的專利封鎖是極為關(guān)鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開發(fā)，60%來自公開文獻(xiàn)，30%來自現(xiàn)成樣品，自身的研究實(shí)際上只有5%左右。我們大量使用非專利的技術(shù)，把專利技術(shù)剔除掉，非專利技術(shù)的組合就是我們的創(chuàng)新。專利需要尊重，但可以回避。借鑒競爭對(duì)手經(jīng)驗(yàn)并繞開競爭對(duì)手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)了解該領(lǐng)域?qū)＠季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過程中研發(fā)立項(xiàng)前研究競爭對(duì)手是否落入自己的專利權(quán)利范圍，通過專利分析指導(dǎo)研發(fā)人員進(jìn)行后續(xù)的技術(shù)升級(jí)專利信息利用對(duì)于研發(fā)立項(xiàng)和產(chǎn)品上市的各個(gè)環(huán)節(jié)都非常重要！反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)本領(lǐng)域的申請(qǐng)主要來自職務(wù)發(fā)明，說明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高，非職務(wù)發(fā)明人的技術(shù)力量難于參與到本領(lǐng)域的研發(fā)工作中來。職務(wù)發(fā)明比例高，使專利申請(qǐng)的技術(shù)水平得到了保證，也有利于專利技術(shù)的轉(zhuǎn)化實(shí)施和保護(hù)。職務(wù)發(fā)明比例某技術(shù)領(lǐng)域中國專利申請(qǐng)人的申請(qǐng)國家分布我國38%的專利申請(qǐng)是由國外申請(qǐng)人提出的，國外申請(qǐng)人中美國、日本、德國的比例最高，說明這幾個(gè)國家較為重視中國市場。國內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。國外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的申請(qǐng)量排名。這樣的統(tǒng)計(jì)有助于我們找到研發(fā)實(shí)力突出的申請(qǐng)人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實(shí)力優(yōu)勢(shì)。國內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請(qǐng)人的技術(shù)構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領(lǐng)域的主要申請(qǐng)人的研究范圍，覆蓋的技術(shù)點(diǎn)，以及各個(gè)申請(qǐng)人的重點(diǎn)側(cè)重的技術(shù)研究點(diǎn)。利用IPC分類的年度變化來分析重點(diǎn)技術(shù)及變化趨勢(shì)國外某技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)構(gòu)成年度申請(qǐng)量。國外的專利申請(qǐng)?jiān)趫D中所示五個(gè)IPC小組下的申請(qǐng)量的變化趨勢(shì)，以5年為一個(gè)周期波動(dòng)，總體呈上升趨勢(shì)，沒有出現(xiàn)明顯技術(shù)熱點(diǎn)轉(zhuǎn)移。

國外該技術(shù)領(lǐng)域的國別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請(qǐng)為主，這與亞洲國家的研究熱點(diǎn)有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00，與中國情況有相似之處。韓國以B21D7/00為主。臺(tái)灣的情況更為特殊，超過一半的申請(qǐng)量都集中在B21D11/12小組下本領(lǐng)域中國專利授權(quán)比例不高，授權(quán)專利僅占27%，實(shí)審中占38%，公開占3%，視撤專利高達(dá)19%，終止占10%，駁回占3%。截至目前有效專利占27%，失效專利占35%，審查中占38%。授權(quán)專利的比例較低，說明本領(lǐng)域的專利技術(shù)含量不高或撰寫水平較差，很多專利申請(qǐng)達(dá)不到專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析技術(shù)路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)在各技術(shù)分支上的專利申請(qǐng)量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合效率的因素較多，因此業(yè)界對(duì)聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)的研究相對(duì)比較分散。鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電池技術(shù)領(lǐng)域關(guān)注的焦點(diǎn)。在三個(gè)主要技術(shù)需求方面的專利申請(qǐng)量幾乎持平，明顯高于其余幾個(gè)方面，且保持穩(wěn)步增長。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低，業(yè)界對(duì)這些技術(shù)方向保持著較高的研究熱情。專利布局情況三星株式會(huì)社的專利布局較為廣泛表明三星株式會(huì)社的目標(biāo)不僅僅是國內(nèi)而是廣闊的全球市場在本國的申請(qǐng)量最大，在美國和日本與其本國接近2000年后開始關(guān)注中國市場，對(duì)歐洲市場的關(guān)注度較低——專利訴訟在被告專利侵權(quán)時(shí)積極應(yīng)訴，檢索該專利申請(qǐng)日之前公布的可破壞其專利性的專利文獻(xiàn)，并作為證據(jù)通過訴訟程序無效該專利，保護(hù)企業(yè)合法權(quán)益。企業(yè)利用專利信息的需求應(yīng)用實(shí)例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上，瑞士公司向主辦發(fā)投訴，稱海鷗公司侵權(quán)，要求海鷗公司立刻將有關(guān)產(chǎn)品撤下展臺(tái)并接受處罰。兩天后，巴塞爾國際鐘表珠寶展知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布，中國天津海鷗手表集團(tuán)公司對(duì)瑞士企業(yè)的侵權(quán)投訴提出反訴并勝訴。這是中國企業(yè)首次在世界規(guī)模的國際鐘表珠寶展上成功維權(quán)。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國第一只手表在天津誕生。他叫海鷗2012年的展會(huì)，自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國際水平的同軸陀飛輪女士腕表9日，瑞士歐米茄公司向巴塞爾國際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)投訴，稱海鷗表在對(duì)同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞，對(duì)歐米茄商標(biāo)構(gòu)成侵權(quán)。

海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會(huì)標(biāo)識(shí)牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機(jī)芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞，是對(duì)產(chǎn)品的描述，與商標(biāo)侵權(quán)無關(guān)。10日，巴塞爾國際鐘表展組委會(huì)知識(shí)產(chǎn)權(quán)委員會(huì)宣布裁決結(jié)果，海鷗表2012年巴塞爾展會(huì)使用的標(biāo)識(shí)牌未對(duì)歐米茄注冊(cè)商標(biāo)構(gòu)成任何侵害，駁回歐米茄公司的投訴。專利質(zhì)量高質(zhì)量專利申請(qǐng)文件1、技術(shù)領(lǐng)域、主題把握準(zhǔn)確2、說明書滿足充分公開的最低標(biāo)準(zhǔn)3、說明書清楚、完整4、實(shí)施例數(shù)量能夠足夠支持權(quán)利要求5、權(quán)利要求撰寫層次分明、概括范圍適當(dāng)6、能夠有針對(duì)性地保護(hù)技術(shù)，防止侵權(quán)規(guī)避7、充分保護(hù)最佳方案，同時(shí)競爭對(duì)手做選擇性發(fā)明清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請(qǐng)文件A26.3說明書應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f明

目前存在的清楚性、完整性問題p1、由于申請(qǐng)人未理解專利申請(qǐng)文件清楚、完整的重要性，怠于為代理人提供足夠的技術(shù)資料

p2、申請(qǐng)人出于保密的考慮，將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來，僅提供一個(gè)大致的想法p3、由于申請(qǐng)人對(duì)自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜ぃ瑢⒓夹g(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù)，認(rèn)為不需要進(jìn)行詳細(xì)介紹針對(duì)上述問題的對(duì)策P2缺少申請(qǐng)人欲保密內(nèi)容能滿足專利性嗎?是否繼續(xù)申請(qǐng)?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾?qǐng)一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn):工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能問題:申請(qǐng)人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類氣體實(shí)現(xiàn)如果能,（雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)），則可以在申請(qǐng)文件中僅提出該類氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進(jìn)行保密）風(fēng)險(xiǎn):競爭對(duì)手受啟發(fā)研制出最佳氣體并申請(qǐng)專利,會(huì)讓自己陷入被動(dòng)如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn)，則必須在申請(qǐng)文件中指出該特定氣體,否則就只能放棄專利申請(qǐng).注:對(duì)可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述；但是，對(duì)于與技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實(shí)現(xiàn)的內(nèi)容，則可以略寫。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù)，僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。適度描述原則發(fā)明點(diǎn):對(duì)沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn)，以得到

更為均勻的薄膜需要詳述的內(nèi)容:圍繞該沉積工藝;如，說明本技術(shù)方案中所用的沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理等，沉積薄膜時(shí)所用的各種反應(yīng)氣體、載氣體等；列出沉積時(shí)所選用的各工藝條件（如溫度、氣壓、功率等）及原因，沉積過程中各工藝條件的改變對(duì)薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。不需要詳述的內(nèi)容:對(duì)于襯底的相關(guān)描述.如，如何利用拉晶等方式形成襯底，其的結(jié)構(gòu)有什么特點(diǎn)（如其晶向等），它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。適度描述舉例說明書公開充分

說明書對(duì)技術(shù)內(nèi)容的公開所需達(dá)到的程度，即需達(dá)到所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員按照說明書記載的內(nèi)容，不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)就能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，解決其技術(shù)問題，并且產(chǎn)生預(yù)期的技術(shù)效果的程度。說明書未公開充分情形及舉例

1.說明書只描述了任務(wù)或目標(biāo)，并描述了實(shí)現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)之后所取得的效果和功能，但是沒有給出任何實(shí)現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)的具體技術(shù)手段。說明書未公開充分情形及舉例

例1.一種有關(guān)飛行器（飛碟）的發(fā)明專利申請(qǐng)，僅僅描述了其實(shí)現(xiàn)的功能是可以垂直起降、瞬間達(dá)到10倍音速的飛行速度，可以急停急轉(zhuǎn)；并且描述了借助該飛行器人類可以實(shí)現(xiàn)自由來往于星球之間的夢(mèng)想。但是說明書并沒有公開該飛行器的具體結(jié)構(gòu)和如何實(shí)現(xiàn)上述超級(jí)功能的具體技術(shù)手段。說明書未公開充分情形及舉例

2.說明書給出了含糊不清的技術(shù)手段，本領(lǐng)域技術(shù)人員無法根據(jù)說明書的描述實(shí)施該技術(shù)手段。說明書未公開充分情形及舉例

例2.在一件涉及金屬材料處理方法的專利申請(qǐng)中，申請(qǐng)人公開了在一定的溫度下對(duì)某材料進(jìn)行回火處理的步驟，但是沒有公開具體的溫度范圍。也就是說，說明書給出了技術(shù)手段（回火），但是該技術(shù)手段是含糊不清的，即本技術(shù)領(lǐng)域的人員并不能得知在多高的溫度下進(jìn)行回火處理會(huì)達(dá)到本發(fā)明的技術(shù)效果。說明書未公開充分情形及舉例

3.說明書給