光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）校準規(guī)范

光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）校準規(guī)范JB/T9341.2-2013計IEC/TS62622Nanotechnologies-Description,measurementanddimensionalqualityparametersofartificialgratings（納米技術規(guī)范-刻制光柵幾何質量參數及理可分為基于幾何影像莫爾條紋原理和基于衍射后6.1.3實驗室內環(huán)境應符合光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）保證其準確度等級所要表1光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）校準項目和校準用標準器序號校準項目標準器1柵線位值偏差激光干涉比長儀或線紋干涉儀2信號周期偏差激光干涉比長儀或線紋干涉儀2細分誤差激光干涉比長儀或激光干涉儀3回程誤差激光干涉比長儀或激光干涉儀4重復性激光干涉比長儀或激光干涉儀5穩(wěn)定度激光干涉比長儀或激光干涉儀6準確度激光干涉比長儀或激光干涉儀i-i×p（1）式中：p—光柵標稱柵距，Pi—光柵第i個刻線的實際位置，?Pi—第i個刻線位即以光柵尺起始一側起始的刻線為“0”刻線，正向面對激光干涉比“0”刻線分別置于激光干涉比長儀（線紋干涉儀）運動方向左右兩端分測量，取兩個方向測量結果的平均值為光柵刻線偏差結果。 ΔT式中：T—標稱信號周期，Ti—第i個信號周期位置，?Ti—第i個信號周期位置距P進行N倍分割（細分），細分方法一般采用光電結合的方法。光柵柵距P進行N倍細分獲得的長度間隔通常以脈沖形式輸出使用，則一個脈沖當量所對ΔLres=P/N（3）最大值max(δi)為該位置的細分誤差δDivj，取3個位置的最大值max(δDivj)為光與光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）在相同位置下的位移正行程ΔLqΔLhi結果之間差異絕對值δHc(li)=ΔLqi-ΔLhi為該位置的回程差，取全部測量間隔δHc(li)的最大值max(δHc)為光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）回程誤差。對光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）的以測量間隔?l（測量間隔參照表3）進行），涉比長儀（或干涉儀）結果Lsi與光柵結果Lgi的差異值為δRi=Lsi-Lgi，δRi的變化量（極差值）為光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）在Lgi位置的測量重復性，取全部測量位置δRi最大值max(δRi)為光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）重復性。據光柵測量系統(tǒng)工作時間進行選擇，若無特別或者以±A/2形式表示（A為光柵測量范圍內表2信號質量技術要求信號參數全行程變化信號失真度≤10%正交性90°±10°幅值變化率≤10%直流電平變化率≤10%注：幅值I變化ΔI=為光柵信號交流幅值的變化率表3校準時對溫度環(huán)境的要求一次測量中尺溫變動(℃)一次測量中氣溫變動(℃)表4推薦的測量間隔測量間隔（mm）>1000mmXi=Wi-Si（4）示值誤差曲線表示測量結果。測量結果也可以采用±A附錄A用激光干涉比長儀測量光柵柵線位值偏差測量不確定度評定儀）線距測長不確定度、光柵尺余弦誤差、阿貝誤差、A.1光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）光柵柵線位值偏差（或信號周期偏差）的測=Ls+ΔLi+α.(20-tm).Ls-δLcos-δLA(A.1)式中：Li—第i個光柵柵線位置值（或第i個光柵信）；）；tm—光柵尺材料溫度；δLcos—光柵尺安裝的余弦誤差；δLA—光柵尺安裝的阿貝誤差；m個誤差來源的的標準不確定度，因這6個量相互獨立，其合成方差u可以表示22A.2.1光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）干涉測長大數值引入的不確定度u1A.2.2光柵線位移測量裝置（系統(tǒng)）干涉測長測長小數值引入的不確定度u2A.2.3光柵尺溫度材料線膨脹系數引入的不確定度u3A.2.4光柵尺材料溫度引入標準不確定度u4材料溫度tm的標準不確定度可以從溯源證書并結合實際使用情況來mA.2.5光柵尺安裝余弦誤差引入的不確定度u5光柵尺裝調所致余弦誤差θ≤±0.4mm/m，設其為矩形分布，則A.2.6光柵尺安裝阿貝誤差引入的不確定度u6在激光干涉比長儀上，光柵尺安裝后的阿貝距離ξ≤1mm，導軌最大偏擺度u6表A.1不確定度分量一覽表標準不確定度分量不確定度來源標準不確定度值/μm0.0500.0350.0150.086度0.050度0.030取包含因子k=2，則擴展不確定度為：U=kuc=0.24μm5.測量結果不確定度：U=0.20---