水處理總復(fù)習(xí)題及參考答案

水處理總復(fù)習(xí)題及參考答案第一章鍋爐補(bǔ)給水的預(yù)處理一、選擇題根據(jù)題意，將正確答案的填入括號內(nèi)。.為了保證良好的反洗效果，濾料的膨脹度和沖洗強(qiáng)度應(yīng)保持適當(dāng)，沖洗強(qiáng)度過小時，下部濾層浮不起來；沖洗強(qiáng)度過大時，濾料之間碰撞機(jī)率減小，細(xì)小濾料也易流失。一般來講，石英砂的反洗強(qiáng)度為（C）L/（m2S）A、5~10B、10~15C、15~20D、20-25.超濾膜是分離膜技術(shù)中的一部分，它是介于微濾和納濾之間的一種膜過程，籠統(tǒng)地講，超濾膜孔徑在（A）之間。A、lnm~0.IEnbB、0.1nm?0.1HlC、Inm?l□nD、O.lnm~0.IEnb.常用中空纖維超濾膜材料有聚偏氟乙烯、聚睽碉、聚碉等，其中聚睽碉英文代號（D）A、PSB、PVDFC、PSAD、PES.部分回流加壓溶氣氣浮澄清池，設(shè)計回流比控制在（C）之間。A、5%~10%B、10%~20%C、20%~30%D、30%~40%.活性炭用作吸附處理時，表征其理化性能的主要技術(shù)指標(biāo)一碘吸附值的含義是指在濃度為0.1mmol/L的碘溶液50mL中，加入活性炭（B）g左右，震蕩5min,測定剩余碘，計量單位為mg∕g,即每克活性炭吸附碘的毫克數(shù)。A、0.1B、0.5C、1.0D、2.0.當(dāng)澄清池分離室泥渣層逐漸上升、出水水質(zhì)變壞、反應(yīng)室泥渣濃度增高、泥渣沉降比達(dá)到（C）以上時，應(yīng)縮短排泥周期，加大排泥量。A、5%B、10%C、25%D、50%.（A）適用于處理有機(jī)物含量較高的原水或有機(jī)廢水的處理，pH適用范圍4.A10?A、聚合硫酸鐵（PFS）B、堿式氯化鋁（PAC）C、硫酸鋁D、三氯化鐵.在電廠水處理中，為了提高混凝處理效果，常常采用生水加熱器對來水進(jìn)行加熱，也可增加投藥量來改善混凝處理效果。采用鋁鹽混凝劑時，水溫（C）（比較適宜。A、0B、10C、20D、40.當(dāng)原水濁度小于（A）FTU時，為了保證混凝效果，通常采用加入粘土增濁、泥渣循環(huán)、加入絮凝劑助凝等方法。A、20B、40C、60D、80.為使澄清池泥渣保持最佳活性，一般控制第二反應(yīng)室泥渣沉降比在5min內(nèi)控#對于定對較低，溶:率）、（旁路處理）以及內(nèi)冷卻水的處理方式有關(guān)。冷卻水系統(tǒng)，在溶解氧濃度小于30^/L的范圍內(nèi)，銅的腐蝕速率相氧濃度在（O.2-0.3mg∕L）的范圍內(nèi)，銅的腐蝕速率最高。所以應(yīng)對于定對較低，溶:率）、（旁路處理）以及內(nèi)冷卻水的處理方式有關(guān)。.DL/T801-2002規(guī)定，發(fā)電機(jī)內(nèi)冷卻水的PH值上限為9.Q這時所對應(yīng)的氨濃度約為300^∕L,這是規(guī)定內(nèi)冷卻水含氨量小于300^/L的依據(jù)。.定子中空導(dǎo)線比轉(zhuǎn)子中空導(dǎo)線容易發(fā)生堵塞，主要是定子中空導(dǎo)線的（通水面積）比較小。.在火電廠中只有發(fā)電機(jī)內(nèi)冷卻水標(biāo)準(zhǔn)要求檢測純水的PH值。影響PH值準(zhǔn)確性的因素有A、水的（電阻率）的影響B(tài)、測量池（材質(zhì)）C、電極布置（方向）D、水樣（流量）E、參比電極（內(nèi)充液）液位F、水樣（溫度）的影響三、問答題簡述發(fā)電機(jī)中空導(dǎo)線堵塞的主要原因（1油于內(nèi)冷卻水的銅離子超過了它的溶解度，而產(chǎn)生氧化銅或氫氧化銅的沉淀。（2x化銅脫落重新溶解。如果內(nèi)冷卻水的溶解氧含量由高降低后，部分高價氧化銅會轉(zhuǎn)換成為低價氧化銅。由于低價氧化銅的溶解度很低，很容易形成過飽和而產(chǎn)生沉淀。（3險屬銅的沉積。根據(jù)國外報道和對我國海南某電廠中空導(dǎo)線堵塞物的分析，采用水-氫-氫冷卻方式的發(fā)電機(jī)，在中空導(dǎo)線的堵塞物中發(fā)現(xiàn)有大量金屬銅。這很可能與漏氫氣，將氧化銅還原成金屬銅有關(guān)。簡述如何提高發(fā)電機(jī)內(nèi)冷卻的PH值準(zhǔn)確性（1膜用高阻抗的測量儀表。（2?則量池材質(zhì)選用不銹鋼材料制作，測量池可靠接地，防止在電極上會產(chǎn)生靜電干擾信號。（3）電極布置方向?yàn)椴⒙?lián)布置。（4）?制水樣流量為IOOmL/min?20OmL/min。水樣流量過大，會造成流動電勢增加。水樣流量過小，測量又存在滯后現(xiàn)象。（5）W參比電極內(nèi)充液的液位灌注至最高，使參比電極內(nèi)充液和水保