GBT 12690.7-2021 稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法 第7部分：硅量的測(cè)定

代替GB/T12690.7—2003稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法第7部分：硅量的測(cè)定發(fā)布2022-05-01實(shí)施國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)I本文件按照GB/T1.1—2020《標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分：標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草。本文件是GB/T12690《稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法》的第7部分。GB/T12690已經(jīng)發(fā)布了以下部分：——第1部分：碳、硫量的測(cè)定高頻-紅外吸收法；——第2部分：稀土氧化物中灼減量的測(cè)定重量法；——第3部分：稀土氧化物中水分量的測(cè)定重量法；——第4部分：氧、氮量的測(cè)定脈沖-紅外吸收法和脈沖-熱導(dǎo)法；——第6部分：鐵量的測(cè)定硫氰酸鉀、1,10-二氮雜菲分光光度法；第7部分：硅量的測(cè)定：——第8部分：鈉量的測(cè)定；——第9部分：氯量的測(cè)定——第10部分：磷量的測(cè)定——第11部分：鎂量的測(cè)定——第12部分：釷量的測(cè)定硝酸銀比濁法；鉬藍(lán)分光光度法；火焰原子吸收光譜法；偶氮胂Ⅲ分光光度法和電感耦合等離子體質(zhì)譜法；——第13部分：鉬、鎢量的測(cè)定——第14部分：鈦量的測(cè)定；電感耦合等離子體發(fā)射光譜法和電感耦合等離子體質(zhì)譜法；——第15部分：鈣量的測(cè)定；——第16部分：氟量的測(cè)定離子選擇性電極法；——第17部分：稀土金屬中鈮、鉭量的測(cè)定；——第18部分：鋯量的測(cè)定；本文件代替GB/T12690.7—2003《稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法硅量的測(cè)定鉬藍(lán)分光光度法》,與GB/T12690.7—2003相比，除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯性改動(dòng)外，主要技術(shù)變化如下：a)更改了文件的適用范圍(見第1章，2003年版的第1章);b)增加了“規(guī)范性引用文件”“術(shù)語(yǔ)和定義”兩章(見第2章、第3章);c)更改了鉬藍(lán)分光光度法原理(見4.1,2003年版的第2章);d)更改了鉬藍(lán)分光光度法中水和二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液的要求(見4.2的引導(dǎo)語(yǔ)、4.2.10,2003e)刪除了鉬藍(lán)分光光度法中鹽酸的要求(見2003年版的3.3);f)更改了鉬藍(lán)分光光度法中儀器設(shè)備的要求(見4.3,2003年版的第4章);g)更改了鉬藍(lán)分光光度法中稀土氧化物樣品前處理的要求(見4.4.1,2003年版的5.1);h)增加了鉬藍(lán)分光光度法中試料的稱取、定容及分取要求(見表1、表2);i)更改了鉬藍(lán)分光光度法中試料溶解的要求(見4.5.4,2003年版的6.4.1、6.4.2、6.4.3、6.4.4);j)更改了鉬藍(lán)分光光度法中抗壞血酸溶液的濃度、用量及硅鉬雜多酸形成放置時(shí)間、顯色時(shí)間(見4.5.5,2003年版的6.4.5);k)更改了鉬藍(lán)分光光度法中顯色波長(zhǎng)(見4.5.6、4.5.7.2,2003年版的6.4.6、6.5.2);Ⅱ1)增加了鉬藍(lán)分光光度法中數(shù)值修約要求(見4.6);m)更改了鉬藍(lán)分光光度法中精密度的要求(見4.7,2003年版的第8章);n)增加了“電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法”一章(見第5章);o)刪除了“質(zhì)量保證和控制”一章(見2003年版的第9章)。請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任。本文件由全國(guó)稀土標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)(SAC/TC229)提出并歸口。本文件起草單位：包頭稀土研究院、贛州有色冶金研究所、淄博加華新材料資源有限公司、中國(guó)有色桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院有限公司、樂山有研稀土新材料有限公司、贛州湛海新材料科技有限公司、內(nèi)蒙古稀土產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)研究院、福建省長(zhǎng)汀金龍稀土有限公司、虔東稀土集團(tuán)股份有限公司、廣東省科學(xué)院工業(yè)分析檢測(cè)中心、鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司、江蘇金石稀土有限公司、中國(guó)科學(xué)院海西研究院廈門稀土材料研究所、國(guó)標(biāo)(北京)檢驗(yàn)認(rèn)證有限公司。本文件及其所代替文件的歷次版本發(fā)布情況為：——1988年首次發(fā)布為GB/T8762.3—1988,1990年第一次修訂為GB/T12690.22—1990;——2003年第二次修訂為GB/T12690.7—2003時(shí)，并入了GB/T12690.23—1990《稀土金屬及其氧化物化學(xué)分析方法鉬藍(lán)分光光度法測(cè)定酸溶硅量》的內(nèi)容(GB/T12690.23—1990的歷次版本發(fā)布情況為：GB/T11074.5—1989、GB/T12690.23—1990);——本次為第三次修訂。Ⅲ在稀土產(chǎn)品化學(xué)成分分析領(lǐng)域，我國(guó)已經(jīng)建立了針對(duì)稀土總量、非稀土雜質(zhì)、稀土雜質(zhì)等檢測(cè)的較為全面的標(biāo)準(zhǔn)體系。本標(biāo)準(zhǔn)系列GB/T12690《稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法》以原標(biāo)準(zhǔn)GB/T12690.12～.26—1990《稀土金屬及其氧化物化學(xué)分析方法》為基礎(chǔ)，合并了GB/T8762.3—1988《熒光級(jí)氧化釔中酸溶性二氧化硅量測(cè)定鉬藍(lán)分光光度法》、GB/T8762.4—1988《熒光級(jí)氧化釔中氧化鐵、氧化鉛、氧化鎳和氧化銅量測(cè)定發(fā)射光譜法》、GB/T8762.6—1988《熒光級(jí)氧化銪中氧化鉛、氧化鎳、氧化鐵和氧化銅量測(cè)定發(fā)射光譜法》、GB/T11074.3～.7—1989《氧化釤化學(xué)分析方法》等標(biāo)準(zhǔn)，最后形成對(duì)所有稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)的綜合分析方法標(biāo)準(zhǔn)。經(jīng)修訂的方法標(biāo)準(zhǔn)引用了先進(jìn)的檢測(cè)方法，并基本覆蓋了全部稀土金屬及其稀土氧化物基體。本系列方法標(biāo)準(zhǔn)的建立為稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)含量的測(cè)定提供了快捷、準(zhǔn)確的方法規(guī)范，具有良好的操作性。1稀土金屬及其氧化物中非稀土雜質(zhì)化學(xué)分析方法第7部分：硅量的測(cè)定本文件規(guī)定了稀土氧化物中全硅含量、稀土金屬及其氧化物中酸溶硅含量的測(cè)定方法。本文件適用于稀土金屬及其氧化物中硅量的測(cè)定，包含鉬藍(lán)分光光度法(方法1)和電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(方法2)。鉬藍(lán)分光光度法(方法1)適用于稀土氧化物中全硅含量及稀土金屬及其氧化物中酸溶硅含量的測(cè)定，測(cè)定范圍(質(zhì)量分?jǐn)?shù)):0.0010%～0.20%;電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(方法2)適用于稀土金屬及其氧化物中酸溶硅含量的測(cè)定，測(cè)定范圍(質(zhì)量分?jǐn)?shù)):0.010%~當(dāng)本文件2個(gè)方法的分析范圍出現(xiàn)重疊時(shí)，宜首選方法1作為仲裁方法。2規(guī)范性引用文件下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。GB/T8170數(shù)值修約規(guī)則與極限數(shù)值的表示和判定3術(shù)語(yǔ)和定義下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。全硅含量fullsiliconcontent稀土氧化物中硅元素含量。注：以二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)計(jì)。酸溶硅含量acidsolublesiliconcontent稀土金屬及氧化物中可溶解于酸溶液中的硅元素含量。注：稀土金屬以硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)計(jì)；稀土氧化物以二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)計(jì)。4鉬藍(lán)分光光度法(方法1)4.1方法原理測(cè)定稀土氧化物中全硅含量時(shí)，試料用無(wú)水碳酸鈉-硼酸混合熔劑熔融，稀硝酸浸出；測(cè)定稀土金屬及其氧化物中酸溶硅含量時(shí)，試料用稀硝酸溶解。在0.12mol/L～0.25mol/L的酸性介質(zhì)中，硅與鉬酸銨生成硅鉬雜多酸，用草-硫混酸分解磷、砷雜多酸，用抗壞血酸還原硅鉬雜多酸為藍(lán)色低價(jià)絡(luò)合物，于分光光度計(jì)波長(zhǎng)830nm處測(cè)量其吸光度。2除非另有說(shuō)明，在分析中僅使用確認(rèn)為優(yōu)級(jí)純及以上試劑和蒸餾水或去離子水或相當(dāng)純度的水，液體試劑均保存于塑料瓶中。4.2.1過(guò)氧化氫(30%)。4.2.2硝酸溶液(1+2)。4.2.3硫酸溶液(1+5)。4.2.4氨水(1+3),MOS級(jí)。4.2.5抗壞血酸溶液(50g/L),用時(shí)配制。4.2.6草-硫混酸溶液：1.0g草酸溶于100mL硫酸溶液(4.2.3)中。4.2.7鉬酸銨溶液(50g/L)。4.2.8對(duì)硝基酚溶液(1g/L)。4.2.9混合熔劑：稱取2g無(wú)水碳酸鈉加1g硼酸，研勻。4.2.10二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液：稱取0.1000g二氧化硅(w>99.9%,120℃烘干2h),置于鉑坩堝中，加入5g無(wú)水碳酸鈉，于950℃~1000℃熔融至紅色透明。稍冷后用熱水浸出，冷卻。移入1000mL容量瓶中，用水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含100μg二氧化硅。4.2.11二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液：移取5.00mL二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液(4.2.10)于100mL容量瓶中，用水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含5μg二氧化硅?？梢姽夥止夤舛扔?jì)。在儀器最佳工作條件下，凡達(dá)到下列指標(biāo)者均可使用：——波長(zhǎng)830nm處光譜帶寬不大于10nm,波長(zhǎng)測(cè)量精確至士2nm;——精密度：用校準(zhǔn)曲線最高濃度溶液測(cè)量10次吸光度，相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差不大于0.3%。4.4樣品前處理4.4.1稀土氧化物樣品于105℃烘1h后，置于干燥器中，冷卻至室溫。4.4.2稀土金屬樣品需去掉表面氧化層。取樣后，立即稱量。4.5試驗(yàn)步驟按表1稱取稀土氧化物樣品(4.4.1),精確至0.0001g。按表2稱取稀土金屬樣品(4.4.2),精確至0.0001g。表1稀土氧化物稱樣量、定容體積及分取體積二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)%試料量g定容體積mL分取試液體積mL0.0010～0.0050>0.0050～0.0200.50>0.020～0.100.20>0.10～0.200.203表2稀土金屬稱樣量、定容體積、稀釋倍數(shù)及分取體積二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)%試料量g定容體積分取試液體—平行做兩份試驗(yàn)。隨同試料做空白試驗(yàn)，制得空白試液，所用試劑應(yīng)取自同一試劑瓶。4.5.4.1測(cè)定酸溶硅含量試料的溶解4.5.4.1.1當(dāng)試料(4.5.1)為氧化鈰時(shí)，將試料置于100mL聚四氟乙烯燒杯中，加入10mL硝酸溶液(4.2.2)及5mL過(guò)氧化氫(4.2.1),于室溫下放置5min,低溫(90℃~99℃)加熱至溶解完全并蒸至溶液呈黃色，不再有小氣泡出現(xiàn)，加入5mL硝酸溶液，冷卻。按表1移入相應(yīng)容量瓶中，用水稀釋至刻4.5.4.1.2當(dāng)試料(4.5.1)為稀土金屬或除氧化鈰外的稀土氧化物時(shí)，將試料置于100mL聚四氟乙烯燒杯中，加入10mL硝酸溶液(4.2.2),低溫(90℃~99℃)加熱至溶解完全，冷卻。稀土氧化物試料按表1、稀土金屬試料按表2分別移入相應(yīng)容量瓶中，用水稀釋至刻度，混勻。4.5.4.2測(cè)定全硅含量試料的溶解4.5.4.2.1當(dāng)試料(4.5.1)為氧化鈰時(shí)，將試料置于盛有3.00g混合熔劑(4.2.9)的鉑坩堝中，攪勻，以1.00g混合熔劑覆蓋，蓋上鉑蓋，于950℃~1000℃熔融15min后(中間取出搖動(dòng)一次),取出冷卻，將鉑坩堝及鉑蓋置于聚四氟乙烯燒杯中，加10mL水，20mL硝酸溶液(4.2.2),3滴～5滴過(guò)氧化氫(4.2.1),低溫(90℃~99℃)加熱浸取，洗凈鉑坩堝，取出。加1mL～2mL過(guò)氧化氫助溶，低溫(90℃~99℃)至溶解完全并蒸至溶液呈黃色，不再有小氣泡出現(xiàn)，加入5mL硝酸溶液，按表1移入4.5.4.2.2當(dāng)試料(4.5.1)為稀土金屬或除氧化鈰外的稀土氧化物時(shí)，將試料置于盛有3.00g混合熔劑(4.2.9)的鉑坩堝中，攪勻，以1.00g混合熔劑覆蓋，蓋上鉑蓋，于950℃~1000℃熔融15min后(中間取出搖動(dòng)一次),取出冷卻，將鉑坩堝及鉑蓋置于聚四氟乙烯燒杯中，加10mL水，20mL硝酸溶液(4.2.2),低溫(90℃~99℃)加熱浸取，洗凈坩堝，取出，低溫(90℃~99℃)加熱至溶解完全，冷卻。稀土氧化物試料按表1、稀土金屬試料按表2分別移入相應(yīng)容量瓶中，用水稀釋至刻度，混勻。顯色液：根據(jù)試料中二氧化硅含量范圍，經(jīng)4.5.4制取的稀土氧化物試料按表1、經(jīng)4.5.4制取的稀4GB/T12690.7—2021土金屬試料按表2對(duì)應(yīng)稀釋并分取試液于25mL比色管中，加入1滴對(duì)硝基酚溶液(4.2.8),用氨水(4.2.4)調(diào)溶液至黃色，加入0.4mL硫酸溶液(4.2.3),混勻。加入2.5mL鉬酸銨溶液(4.2.7),混勻，在不低于20℃的室溫下放置15min。加入5mL草-硫混酸溶液(4.2.6),混勻，加入0.5mL抗壞血酸溶液(4.2.5),用水稀釋至刻度，混勻，放置15min。移取4.5.5制取的部分顯色液于3cm比色皿中，以水為參比，于分光光度計(jì)波長(zhǎng)830nm處測(cè)量其吸光度。從顯色液的吸光度中減去隨同試料空白試液的吸光度(如果試料溶液有顏色，還需減去與被測(cè)溶液同等濃度的有顏色稀土試料溶液的吸光度),獲得凈吸光度，再以凈吸光度從工作曲線上查出相應(yīng)的二氧化硅含量。4.5.7工作曲線的繪制與測(cè)定4.5.7.1依次移取0mL、0.40mL、0.80mL、1.20mL、2.00mL、3.00mL、4.00mL二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液(4.2.11),置于一組25mL比色管中，用水稀釋至10mL,加入1滴對(duì)硝基酚溶液(4.2.8),用氨水(4.2.4)調(diào)溶液至黃色，加入0.4mL硫酸溶液(4.2.3),混勻。加入2.5mL鉬酸銨溶液(4.2.7),混勻，在不低于20℃的室溫下放置15min。加入5mL草-硫混酸溶液(4.2.6),混勻，加入0.5mL抗壞血酸溶液(4.2.5),用水稀釋至刻度，混勻，放置15min。4.5.7.2分別移取4.5.7.1制取的部分溶液于3cm比色皿中，以水為參比，于分光光度計(jì)波長(zhǎng)830nm處測(cè)量其吸光度，并減去試劑空白的吸光度。以二氧化硅含量為橫坐標(biāo)，吸光度為縱坐標(biāo)繪制工作曲線。4.6試驗(yàn)數(shù)據(jù)處理硅的含量以質(zhì)量分?jǐn)?shù)w?計(jì)，按公式(1)計(jì)算：w?——硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)；k換算系數(shù)，當(dāng)計(jì)算二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)時(shí)k=1,當(dāng)計(jì)算硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)時(shí)k=0.4675;m?——自工作曲線上查得的二氧化硅含量，單位為微克(μg);V——試料溶液總體積，單位為毫升(mL);n——試料溶液的稀釋倍數(shù)；m——試料的質(zhì)量，單位為克(g);V?——分取試料溶液體積，單位為毫升(mL)。計(jì)算結(jié)果保留2位有效數(shù)字。數(shù)值修約按照GB/T8170的規(guī)定執(zhí)行。4.7精密度4.7.1重復(fù)性在重復(fù)性條件下獲得的兩次獨(dú)立測(cè)試結(jié)果的絕對(duì)差值不大于重復(fù)性限(r),以大于重復(fù)性限的情況不超過(guò)5%為前提，重復(fù)性限按表3數(shù)據(jù)采用線性內(nèi)插法或外延法求得。5表3重復(fù)性限(方法1)二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)%重復(fù)性限(r)%0.00180.00040.0130.0030.100.010.200.02在再現(xiàn)性條件下獲得的兩次獨(dú)立測(cè)試結(jié)果的絕對(duì)差值不大于再現(xiàn)性限(R),以大于再現(xiàn)性限的情況不超過(guò)5%為前提，再現(xiàn)性限按表4數(shù)據(jù)采用線性內(nèi)插法或外延法求得。表4再現(xiàn)性限(方法1)二氧化硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)%再現(xiàn)性限(R)%0.00180.00050.0130.0040.100.020.200.035電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法(ICP-OES,方法2)5.1方法原理試料用稀硝酸溶解，在稀酸介質(zhì)中，于電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀選定波長(zhǎng)處測(cè)定硅的發(fā)射強(qiáng)度，通過(guò)工作曲線計(jì)算硅的含量。以基體匹配法校正基體對(duì)測(cè)定的影響。5.2試劑除非另有說(shuō)明，在分析中僅使用確認(rèn)為優(yōu)級(jí)純及以上試劑和蒸餾水或去離子水或相當(dāng)純度的水，液體試劑均保存于塑料瓶中。5.2.1過(guò)氧化氫(30%)。5.2.2硝酸溶液(1+1)。5.2.3二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液：準(zhǔn)確稱取0.5000g經(jīng)120℃烘至恒重的二氧化硅[w(SiO?)≥99.9%],置于鉑坩堝中，加入5.0g優(yōu)級(jí)純無(wú)水碳酸鈉，于950℃~1000℃熔融至紅色透明。稍冷后于200mL聚四氟乙烯燒杯中用熱水浸取，加熱至溶液澄清，冷卻后移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含1mg二氧化硅。5.2.4二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液：移取10.00mL硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液(5.2.3)于100mL容量瓶中，用水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含100μg二氧化硅。5.2.5氧化鑭基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鑭[w(La?O?/REO)≥99.99%,6w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鑭。5.2.6氧化鈰基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鈰[w(CeO?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2),滴加過(guò)氧化氫(5.2.1)助溶。加熱至溶解完全，并趕盡氣泡，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鈰。5.2.7氧化鐠基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鐠[w(Pr?O?/REO)≥99.99%,e(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鐠。5.2.8氧化釹基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化釹[w(Nd?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化釹。5.2.9氧化釤基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化釤[w(Sm?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化釤。5.2.10氧化銪基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化銪[w(Eu?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化銪。5.2.11氧化釓基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化釓[w(Gd?O?/REO)≥99.99%,e(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化釓。5.2.12氧化鋱基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鋱[w(Tb?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2),滴加過(guò)氧化氫(5.2.1)助溶。加熱至溶解完全，并趕盡氣泡，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鋱。5.2.13氧化鏑基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鏑[w(Dy?O?/REO)≥99.99%,e(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鏑。5.2.14氧化鈥基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鈥[w(Ho?O?/REO)≥99.99%,e(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鈥。5.2.15氧化鉺基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鉺[w(Er?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鉺。75.2.16氧化銩基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化銩[w(Tm?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化銩。5.2.17氧化鐿基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化鐿[w(Yb?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化鐿。5.2.18氧化镥基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化镥[w(Lu?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2),滴加過(guò)氧化氫(5.2.1)助溶。加熱至溶解完全，并趕盡氣泡，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化镥。5.2.19氧化釔基體溶液：稱取25.000g經(jīng)950℃灼燒1h的氧化釔[w(Y?O?/REO)≥99.99%,w(REO)≥99.5%,w(SiO?)<0.0020%],置于500mL聚四氟乙烯燒杯中，加入100mL水，緩慢加入100mL硝酸溶液(5.2.2)加熱至溶解完全，取下冷卻至室溫。溶液移入500mL容量瓶中，以水稀釋至刻度，混勻。此溶液1mL含50mg氧化釔。5.2.20氬氣(體積分?jǐn)?shù)不小于99.99%)。5.3儀器設(shè)備電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀。在儀器最佳工作條件下，凡達(dá)到下列指標(biāo)者均可使用：——分辨率小于0.006nm(200nm處),波長(zhǎng)范圍200nm～800nm;的銅標(biāo)準(zhǔn)溶液測(cè)量發(fā)射強(qiáng)度10次，其相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差不超過(guò)2.0%。5.4樣品前處理5.4.1稀土氧化物樣品于105℃烘1h后，置于干燥器中，冷卻至室溫。5.4.2稀土金屬樣品需去掉表面氧化層。取樣后，立即稱量。5.5試驗(yàn)步驟稀土氧化物樣品(5.4.1)稱取0.50g,精確至0.0001g。稀土金屬樣品(5.4.2)稱取0.50f(f為換算系數(shù)，不同元素?fù)Q算系數(shù)見表5)g,精確至0.0001g。表5換算系數(shù)表元素元素鑭鈰鐠釹釤銪釓鋱鏑鈥鉺銩鐿镥釔8平行做兩份試驗(yàn)。隨同試料做空白試驗(yàn)，制得空白試液，所用試劑應(yīng)取自同一試劑瓶。5.5.4分析試液的制備將試料(5.5.1)置于150mL聚四氟乙烯燒杯中，加水潤(rùn)濕，加入10mL硝酸溶液(5.2.2)及數(shù)滴過(guò)氧化氫(5.2.1),低溫(90℃~99℃)加熱至試樣溶解完全。冷卻至室溫后移入100mL容量瓶中