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文檔簡(jiǎn)介
蒸鍍機(jī)基礎(chǔ)知識(shí)單選題100道及答案解析1.蒸鍍機(jī)主要用于()A.材料表面處理B.材料合成C.薄膜沉積D.材料分解答案:C解析:蒸鍍機(jī)的主要作用是實(shí)現(xiàn)薄膜沉積。2.蒸鍍機(jī)工作時(shí)的真空度通常在()A.大氣壓B.低真空C.高真空D.超高真空答案:C解析:為了保證蒸鍍的質(zhì)量和效果,蒸鍍機(jī)工作時(shí)通常需要處于高真空環(huán)境。3.蒸鍍機(jī)中常用的蒸發(fā)源有()A.電阻加熱B.電子束加熱C.激光加熱D.以上都是答案:D解析:電阻加熱、電子束加熱和激光加熱都是蒸鍍機(jī)中常見(jiàn)的蒸發(fā)源。4.蒸鍍機(jī)鍍膜的厚度主要取決于()A.蒸發(fā)速率B.蒸發(fā)時(shí)間C.真空度D.基板溫度答案:B解析:鍍膜的厚度與蒸發(fā)時(shí)間密切相關(guān),蒸發(fā)時(shí)間越長(zhǎng),鍍膜厚度越大。5.以下哪種材料不適合用蒸鍍機(jī)沉積()A.金屬B.有機(jī)物C.陶瓷D.氣體答案:D解析:氣體難以通過(guò)蒸鍍的方式進(jìn)行沉積。6.蒸鍍機(jī)的加熱方式對(duì)蒸發(fā)材料的純度()A.有影響B(tài).無(wú)影響C.不確定D.取決于真空度答案:A解析:不同的加熱方式可能導(dǎo)致蒸發(fā)材料的純度有所不同。7.蒸鍍機(jī)在半導(dǎo)體制造中常用于()A.制作電極B.生長(zhǎng)外延層C.沉積絕緣層D.以上都是答案:D解析:在半導(dǎo)體制造中,蒸鍍機(jī)可用于多個(gè)環(huán)節(jié),如制作電極、生長(zhǎng)外延層、沉積絕緣層等。8.提高蒸鍍機(jī)沉積速率的方法是()A.增加蒸發(fā)源溫度B.降低真空度C.減小蒸發(fā)面積D.降低基板溫度答案:A解析:增加蒸發(fā)源溫度可以提高蒸發(fā)速率,從而提高沉積速率。9.蒸鍍機(jī)的蒸發(fā)源與基板的距離對(duì)鍍膜質(zhì)量()A.有影響B(tài).無(wú)影響C.影響很小D.取決于材料答案:A解析:距離會(huì)影響蒸發(fā)物質(zhì)到達(dá)基板的分布和能量,從而對(duì)鍍膜質(zhì)量產(chǎn)生影響。10.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的控制參數(shù)()A.蒸發(fā)源溫度B.真空室壓力C.基板旋轉(zhuǎn)速度D.環(huán)境濕度答案:D解析:環(huán)境濕度通常不是蒸鍍機(jī)的直接控制參數(shù)。11.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜均勻性主要受()因素影響A.蒸發(fā)源形狀B.基板形狀C.真空室大小D.以上都是答案:D解析:蒸發(fā)源形狀、基板形狀和真空室大小等都會(huì)對(duì)薄膜的均勻性產(chǎn)生影響。12.蒸鍍機(jī)中的真空系統(tǒng)的作用是()A.排除氣體B.提高蒸發(fā)速率C.降低基板溫度D.增加膜層硬度答案:A解析:真空系統(tǒng)的主要作用是排除空氣和其他氣體,創(chuàng)造高真空環(huán)境。13.電子束蒸鍍機(jī)中,電子束的作用是()A.加熱蒸發(fā)源B.轟擊基板C.產(chǎn)生電場(chǎng)D.檢測(cè)真空度答案:A解析:在電子束蒸鍍機(jī)中,電子束用于加熱蒸發(fā)源。14.蒸鍍機(jī)中基板的加熱目的是()A.提高附著力B.增加膜層厚度C.降低蒸發(fā)速率D.提高真空度答案:A解析:加熱基板可以提高膜層與基板的附著力。15.以下哪種蒸鍍機(jī)適用于高熔點(diǎn)材料()A.電阻加熱蒸鍍機(jī)B.電子束蒸鍍機(jī)C.激光蒸鍍機(jī)D.熱蒸發(fā)蒸鍍機(jī)答案:B解析:電子束蒸鍍機(jī)能夠提供更高的能量,適用于高熔點(diǎn)材料的蒸發(fā)。16.蒸鍍機(jī)工作時(shí),真空室內(nèi)的殘余氣體主要是()A.氧氣B.氮?dú)釩.水蒸氣D.以上都可能答案:D解析:真空室內(nèi)的殘余氣體可能包括氧氣、氮?dú)?、水蒸氣等多種成分。17.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜硬度與()有關(guān)A.蒸發(fā)源溫度B.基板溫度C.沉積速率D.以上都是答案:D解析:蒸發(fā)源溫度、基板溫度和沉積速率都會(huì)影響薄膜的硬度。18.蒸鍍機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)中,定期更換()很重要A.蒸發(fā)源B.真空油C.基板D.加熱絲答案:B解析:為保證真空系統(tǒng)的性能,定期更換真空油是重要的維護(hù)措施。19.蒸鍍機(jī)的操作需要()A.專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)B.簡(jiǎn)單閱讀說(shuō)明書(shū)C.無(wú)特殊要求D.有相關(guān)經(jīng)驗(yàn)即可答案:A解析:蒸鍍機(jī)的操作較為復(fù)雜,需要專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)。20.蒸鍍機(jī)在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用是()A.制作反射鏡B.制作透鏡C.制作濾光片D.以上都是答案:D解析:在光學(xué)領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)可用于制作反射鏡、透鏡、濾光片等。21.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜電阻率與()有關(guān)A.薄膜厚度B.蒸發(fā)源材料C.真空度D.以上都是答案:D解析:薄膜厚度、蒸發(fā)源材料和真空度都會(huì)對(duì)薄膜的電阻率產(chǎn)生影響。22.以下哪種蒸鍍機(jī)的蒸發(fā)效率較高()A.電阻加熱蒸鍍機(jī)B.電子束蒸鍍機(jī)C.激光蒸鍍機(jī)D.熱蒸發(fā)蒸鍍機(jī)答案:B解析:電子束蒸鍍機(jī)的蒸發(fā)效率相對(duì)較高。23.蒸鍍機(jī)的真空度檢測(cè)通常使用()A.真空計(jì)B.壓力計(jì)C.溫度計(jì)D.流量計(jì)答案:A解析:真空度的檢測(cè)通常使用專(zhuān)門(mén)的真空計(jì)。24.蒸鍍機(jī)中蒸發(fā)源的材料選擇依據(jù)是()A.要沉積的薄膜材料B.蒸發(fā)溫度C.成本D.以上都是答案:D解析:蒸發(fā)源材料的選擇需要綜合考慮要沉積的薄膜材料、蒸發(fā)溫度和成本等因素。25.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜表面粗糙度與()有關(guān)A.蒸發(fā)速率B.基板表面粗糙度C.真空度D.以上都是答案:D解析:蒸發(fā)速率、基板表面粗糙度和真空度都會(huì)影響薄膜的表面粗糙度。26.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的優(yōu)點(diǎn)()A.沉積速率高B.膜層純度高C.設(shè)備成本低D.可精確控制膜厚答案:C解析:蒸鍍機(jī)的設(shè)備成本通常較高。27.蒸鍍機(jī)在顯示技術(shù)中的應(yīng)用是()A.制作OLED顯示屏B.制作LCD顯示屏C.制作電子紙D.以上都是答案:D解析:在顯示技術(shù)中,蒸鍍機(jī)可用于多種顯示屏的制造。28.蒸鍍機(jī)的蒸發(fā)源加熱不均勻會(huì)導(dǎo)致()A.薄膜厚度不均B.薄膜成分不均C.薄膜附著力下降D.以上都是答案:D解析:加熱不均勻會(huì)引起多種問(wèn)題,如薄膜厚度不均、成分不均和附著力下降等。29.提高蒸鍍機(jī)薄膜質(zhì)量的方法有()A.優(yōu)化真空系統(tǒng)B.精確控制參數(shù)C.選擇合適的蒸發(fā)源D.以上都是答案:D解析:通過(guò)優(yōu)化真空系統(tǒng)、精確控制參數(shù)和選擇合適的蒸發(fā)源等方法可以提高薄膜質(zhì)量。30.蒸鍍機(jī)在太陽(yáng)能電池制造中的作用是()A.沉積電極B.沉積吸收層C.沉積鈍化層D.以上都是答案:D解析:在太陽(yáng)能電池制造中,蒸鍍機(jī)可用于多個(gè)膜層的沉積。31.以下哪種蒸鍍機(jī)適用于大面積鍍膜()A.小型蒸鍍機(jī)B.中型蒸鍍機(jī)C.大型蒸鍍機(jī)D.以上都可以答案:C解析:大型蒸鍍機(jī)通常適用于大面積鍍膜。32.蒸鍍機(jī)鍍膜過(guò)程中,基板的移動(dòng)方式可以是()A.旋轉(zhuǎn)B.平移C.振動(dòng)D.以上都是答案:D解析:為了提高鍍膜的均勻性,基板可以采用旋轉(zhuǎn)、平移、振動(dòng)等移動(dòng)方式。33.蒸鍍機(jī)中防止蒸發(fā)物質(zhì)污染的措施是()A.定期清洗B.安裝屏蔽裝置C.控制真空度D.以上都是答案:D解析:通過(guò)定期清洗、安裝屏蔽裝置和控制真空度等措施可以防止蒸發(fā)物質(zhì)的污染。34.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜光學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜材料B.薄膜厚度C.沉積速率D.以上都是答案:D解析:薄膜的光學(xué)性能受薄膜材料、厚度和沉積速率等多種因素的影響。35.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的發(fā)展趨勢(shì)()A.更高的真空度B.更低的成本C.更復(fù)雜的結(jié)構(gòu)D.更大的尺寸答案:C解析:蒸鍍機(jī)的發(fā)展趨勢(shì)通常是追求更高的真空度、更低的成本和更大的尺寸,而不是更復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。36.蒸鍍機(jī)在納米技術(shù)中的應(yīng)用是()A.制備納米薄膜B.合成納米材料C.研究納米結(jié)構(gòu)D.以上都是答案:D解析:在納米技術(shù)領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)可用于多種方面。37.蒸鍍機(jī)的自動(dòng)化程度取決于()A.控制系統(tǒng)B.傳感器C.執(zhí)行機(jī)構(gòu)D.以上都是答案:D解析:蒸鍍機(jī)的自動(dòng)化程度由控制系統(tǒng)、傳感器和執(zhí)行機(jī)構(gòu)等共同決定。38.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜結(jié)構(gòu)與()有關(guān)A.蒸發(fā)源溫度B.基板溫度C.真空度D.以上都是答案:D解析:薄膜的結(jié)構(gòu)受蒸發(fā)源溫度、基板溫度和真空度等多種因素的綜合影響。39.以下哪種不是影響蒸鍍機(jī)穩(wěn)定性的因素()A.電源波動(dòng)B.環(huán)境溫度C.操作人員技術(shù)D.基板材料答案:D解析:基板材料通常不是影響蒸鍍機(jī)穩(wěn)定性的直接因素。40.蒸鍍機(jī)在航空航天領(lǐng)域的應(yīng)用是()A.表面防護(hù)涂層B.光學(xué)元件鍍膜C.熱控涂層D.以上都是答案:D解析:在航空航天領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)可用于多個(gè)方面的鍍膜和涂層制備。41.蒸鍍機(jī)中控制蒸發(fā)速率的方法是()A.改變蒸發(fā)源溫度B.改變真空度C.改變基板距離D.以上都是答案:A解析:改變蒸發(fā)源溫度是控制蒸發(fā)速率的主要方法。42.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜化學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜材料B.沉積環(huán)境C.基板處理D.以上都是答案:D解析:薄膜的化學(xué)性能受薄膜材料、沉積環(huán)境和基板處理等多種因素的影響。43.以下哪種蒸鍍機(jī)適用于多種材料的共蒸鍍()A.單一蒸發(fā)源蒸鍍機(jī)B.多蒸發(fā)源蒸鍍機(jī)C.連續(xù)蒸發(fā)源蒸鍍機(jī)D.脈沖蒸發(fā)源蒸鍍機(jī)答案:B解析:多蒸發(fā)源蒸鍍機(jī)適用于多種材料的共蒸鍍。44.蒸鍍機(jī)在醫(yī)療器械制造中的應(yīng)用是()A.生物涂層B.抗菌涂層C.耐磨涂層D.以上都是答案:D解析:在醫(yī)療器械制造中,蒸鍍機(jī)可用于多種涂層的制備。45.蒸鍍機(jī)的冷卻系統(tǒng)的作用是()A.降低蒸發(fā)源溫度B.降低基板溫度C.保護(hù)設(shè)備D.以上都是答案:D解析:冷卻系統(tǒng)可以起到降低蒸發(fā)源和基板溫度、保護(hù)設(shè)備的作用。46.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜電學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜厚度B.薄膜結(jié)構(gòu)C.雜質(zhì)含量D.以上都是答案:D解析:薄膜的電學(xué)性能受厚度、結(jié)構(gòu)和雜質(zhì)含量等多種因素的影響。47.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的安全防護(hù)措施()A.真空聯(lián)鎖B.溫度報(bào)警C.壓力保護(hù)D.顏色標(biāo)識(shí)答案:D解析:顏色標(biāo)識(shí)通常不是蒸鍍機(jī)的主要安全防護(hù)措施。48.蒸鍍機(jī)在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用是()A.集成電路制造B.芯片封裝C.微機(jī)電系統(tǒng)制造D.以上都是答案:D解析:在微電子領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)有廣泛的應(yīng)用。49.蒸鍍機(jī)的故障診斷通常依靠()A.經(jīng)驗(yàn)判斷B.儀器檢測(cè)C.數(shù)據(jù)分析D.以上都是答案:D解析:蒸鍍機(jī)的故障診斷需要綜合運(yùn)用經(jīng)驗(yàn)判斷、儀器檢測(cè)和數(shù)據(jù)分析等方法。50.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜磁學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜成分B.薄膜厚度C.沉積溫度D.以上都是答案:D解析:薄膜的磁學(xué)性能受成分、厚度和沉積溫度等多種因素的影響。51.以下哪種蒸鍍機(jī)適用于高活性材料的蒸發(fā)()A.密封式蒸鍍機(jī)B.開(kāi)放式蒸鍍機(jī)C.半開(kāi)放式蒸鍍機(jī)D.以上都不是答案:A解析:密封式蒸鍍機(jī)適用于高活性材料的蒸發(fā),以防止材料與外界反應(yīng)。52.蒸鍍機(jī)在裝飾鍍膜中的應(yīng)用是()A.首飾鍍膜B.汽車(chē)零部件鍍膜C.手機(jī)外殼鍍膜D.以上都是答案:D解析:在裝飾領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)可用于多種物品的鍍膜。53.蒸鍍機(jī)的真空獲得設(shè)備通常包括()A.真空泵B.真空閥C.真空管道D.以上都是答案:D解析:真空泵(真空泵)、真空閥和真空管道等都是真空獲得設(shè)備的組成部分。54.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜熱學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜結(jié)構(gòu)B.薄膜成分C.沉積速率D.以上都是答案:D解析:薄膜的熱學(xué)性能受結(jié)構(gòu)、成分和沉積速率等多種因素的影響。55.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域()A.食品加工B.光學(xué)C.電子D.材料科學(xué)答案:A解析:蒸鍍機(jī)一般不應(yīng)用于食品加工領(lǐng)域。56.蒸鍍機(jī)在能源領(lǐng)域的應(yīng)用是()A.燃料電池制造B.儲(chǔ)能器件制造C.太陽(yáng)能電池制造D.以上都是答案:D解析:在能源領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)可用于多種器件的制造。57.蒸鍍機(jī)的控制系統(tǒng)通常采用()A.PLC控制B.計(jì)算機(jī)控制C.手動(dòng)控制D.以上都是答案:D解析:蒸鍍機(jī)的控制系統(tǒng)可以采用PLC控制、計(jì)算機(jī)控制或手動(dòng)控制等方式。58.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜力學(xué)性能與()有關(guān)A.薄膜厚度B.薄膜結(jié)構(gòu)C.沉積溫度D.以上都是答案:D解析:薄膜的力學(xué)性能受厚度、結(jié)構(gòu)和沉積溫度等多種因素的影響。59.以下哪種不是蒸鍍機(jī)中常用的真空泵()A.機(jī)械泵B.分子泵C.水泵D.擴(kuò)散泵答案:C解析:水泵一般不是蒸鍍機(jī)中常用的真空泵。60.蒸鍍機(jī)在傳感器制造中的應(yīng)用是()A.敏感膜沉積B.電極制備C.封裝D.以上都是答案:D解析:在傳感器制造中,蒸鍍機(jī)可用于敏感膜沉積、電極制備和封裝等環(huán)節(jié)。61.蒸鍍機(jī)的蒸發(fā)源更換頻率取決于()A.蒸發(fā)源材料消耗B.蒸發(fā)源的損壞程度C.鍍膜工藝要求D.以上都是答案:D解析:蒸發(fā)源的更換頻率受材料消耗、損壞程度和鍍膜工藝要求等多種因素影響。62.蒸鍍機(jī)在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域可用于()A.藥物涂層B.醫(yī)療器械表面改性C.生物傳感器制備D.以上都是答案:D解析:在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)有上述多種應(yīng)用。63.蒸鍍機(jī)的真空室材質(zhì)通常為()A.不銹鋼B.鋁合金C.塑料D.玻璃答案:A解析:不銹鋼具有良好的耐腐蝕性和真空密封性,常被用作蒸鍍機(jī)真空室的材質(zhì)。64.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜孔隙率與()有關(guān)A.真空度B.蒸發(fā)速率C.基板溫度D.以上都是答案:D解析:真空度、蒸發(fā)速率和基板溫度等都會(huì)影響薄膜的孔隙率。65.以下哪種不是提高蒸鍍機(jī)薄膜附著力的方法()A.增加薄膜厚度B.對(duì)基板進(jìn)行預(yù)處理C.優(yōu)化沉積工藝參數(shù)D.選擇合適的蒸發(fā)源答案:A解析:增加薄膜厚度不一定能提高附著力,其他選項(xiàng)則有助于提高附著力。66.蒸鍍機(jī)在軍工領(lǐng)域的應(yīng)用包括()A.武器表面涂層B.光學(xué)儀器鍍膜C.電子器件制造D.以上都是答案:D解析:在軍工領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)在多個(gè)方面都有應(yīng)用。67.蒸鍍機(jī)的電源系統(tǒng)要求()A.穩(wěn)定性高B.精度高C.功率可調(diào)D.以上都是答案:D解析:蒸鍍機(jī)的電源系統(tǒng)需要具備穩(wěn)定性高、精度高和功率可調(diào)等特點(diǎn)。68.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜結(jié)晶度與()有關(guān)A.蒸發(fā)源溫度B.基板溫度C.真空度D.以上都是答案:D解析:這些因素都會(huì)對(duì)薄膜的結(jié)晶度產(chǎn)生影響。69.以下哪種不是蒸鍍機(jī)中常見(jiàn)的基板材料()A.硅B.玻璃C.木材D.陶瓷答案:C解析:木材一般不作為蒸鍍機(jī)中的基板材料。70.蒸鍍機(jī)的安裝環(huán)境要求()A.無(wú)塵B.恒溫C.無(wú)振動(dòng)D.以上都是答案:D解析:為保證蒸鍍機(jī)的正常運(yùn)行和鍍膜質(zhì)量,安裝環(huán)境需要滿足上述條件。71.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜應(yīng)力與()有關(guān)A.薄膜與基板的熱膨脹系數(shù)差異B.沉積速率C.真空度D.以上都是答案:D解析:這些因素都會(huì)導(dǎo)致薄膜產(chǎn)生應(yīng)力。72.以下哪種不是蒸鍍機(jī)的性能指標(biāo)()A.最大鍍膜面積B.設(shè)備重量C.鍍膜均勻性D.沉積速率答案:B解析:設(shè)備重量通常不是衡量蒸鍍機(jī)性能的主要指標(biāo)。73.蒸鍍機(jī)在環(huán)保領(lǐng)域的應(yīng)用可以是()A.廢水處理膜制備B.廢氣處理催化劑制備C.環(huán)保材料表面改性D.以上都是答案:D解析:在環(huán)保領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)有這些潛在的應(yīng)用。74.蒸鍍機(jī)的維護(hù)工作包括()A.清潔真空室B.檢查電氣系統(tǒng)C.校準(zhǔn)儀器儀表D.以上都是答案:D解析:這些都是蒸鍍機(jī)維護(hù)工作的重要內(nèi)容。75.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜粗糙度與()有關(guān)A.蒸發(fā)源的顆粒大小B.真空室內(nèi)的氣流C.基板的平整度D.以上都是答案:D解析:上述因素都會(huì)對(duì)薄膜的粗糙度產(chǎn)生影響。76.以下哪種不是蒸鍍機(jī)中控制真空度的部件()A.真空計(jì)B.真空泵C.真空閥D.加熱絲答案:D解析:加熱絲主要用于加熱蒸發(fā)源,不是控制真空度的部件。77.蒸鍍機(jī)在科研領(lǐng)域的重要性在于()A.制備新型材料B.研究材料性能C.探索新的鍍膜工藝D.以上都是答案:D解析:在科研領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)在多個(gè)方面發(fā)揮著重要作用。78.蒸鍍機(jī)的自動(dòng)化控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)()A.無(wú)人值守操作B.精確控制工藝參數(shù)C.實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)設(shè)備狀態(tài)D.以上都是答案:D解析:自動(dòng)化控制系統(tǒng)具備這些功能。79.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜光學(xué)透過(guò)率與()有關(guān)A.薄膜厚度B.薄膜材料C.薄膜表面粗糙度D.以上都是答案:D解析:這些因素都會(huì)影響薄膜的光學(xué)透過(guò)率。80.以下哪種不是影響蒸鍍機(jī)鍍膜均勻性的因素()A.蒸發(fā)源的分布B.基板的形狀C.真空室的大小D.設(shè)備的顏色答案:D解析:設(shè)備的顏色與鍍膜均勻性無(wú)關(guān)。81.蒸鍍機(jī)在汽車(chē)制造中的應(yīng)用有()A.車(chē)燈鍍膜B.車(chē)身裝飾鍍膜C.零部件耐磨涂層D.以上都是答案:D解析:在汽車(chē)制造中,蒸鍍機(jī)有多種應(yīng)用。82.蒸鍍機(jī)的真空泵定期維護(hù)的內(nèi)容包括()A.更換潤(rùn)滑油B.清洗泵腔C.檢查密封件D.以上都是答案:D解析:這些都是真空泵定期維護(hù)的常見(jiàn)工作。83.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜電學(xué)導(dǎo)率與()有關(guān)A.薄膜的晶體結(jié)構(gòu)B.雜質(zhì)含量C.沉積溫度D.以上都是答案:D解析:這些因素都會(huì)對(duì)薄膜的電學(xué)導(dǎo)率產(chǎn)生影響。84.以下哪種不是蒸鍍機(jī)中常見(jiàn)的蒸發(fā)源加熱方式()A.微波加熱B.電阻加熱C.電子束加熱D.激光加熱答案:A解析:微波加熱在蒸鍍機(jī)中不常見(jiàn),其他幾種加熱方式較為常見(jiàn)。85.蒸鍍機(jī)在航空發(fā)動(dòng)機(jī)制造中的作用可以是()A.葉片涂層B.零件耐磨處理C.熱障涂層制備D.以上都是答案:D解析:在航空發(fā)動(dòng)機(jī)制造中,蒸鍍機(jī)有這些方面的作用。86.蒸鍍機(jī)的真空室漏氣可能導(dǎo)致()A.鍍膜質(zhì)量下降B.真空度無(wú)法達(dá)到要求C.設(shè)備損壞D.以上都是答案:D解析:真空室漏氣會(huì)帶來(lái)一系列不良后果。87.蒸鍍機(jī)沉積的薄膜硬度與()有關(guān)A.薄膜的化學(xué)成分B.薄膜的微觀結(jié)構(gòu)C.沉積過(guò)程中的離子轟擊D.以上都是答案:D解析:這些因素都會(huì)影響薄膜的硬度。88.以下哪種不是檢測(cè)蒸鍍機(jī)薄膜性能的儀器()A.顯微鏡B.硬度計(jì)C.示波器D.分光光度計(jì)答案:C解析:示波器主要用于電子電路的測(cè)量,不是檢測(cè)薄膜性能的常用儀器。89.蒸鍍機(jī)在新能源汽車(chē)中的應(yīng)用包括()A.電池電極制備B.充電樁表面防護(hù)C.車(chē)載顯示屏鍍膜D.以上都是答案:D解析:在新能源汽車(chē)領(lǐng)域,蒸鍍機(jī)有上述多種應(yīng)用。90.蒸鍍機(jī)的操作安全注意事項(xiàng)包括()A.防止?fàn)C傷B.避免真空傷害C.注意電氣安全D.以上都是答案:D解析:操作蒸鍍機(jī)時(shí)需要注意這些安全事項(xiàng)。
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