聊城大學(xué)《聚合物合成工藝學(xué)》2023-2024學(xué)年第一學(xué)期期末試卷

自覺(jué)遵守考場(chǎng)紀(jì)律如考試作弊此答卷無(wú)效密自覺(jué)遵守考場(chǎng)紀(jì)律如考試作弊此答卷無(wú)效密封線第1頁(yè)，共3頁(yè)聊城大學(xué)《聚合物合成工藝學(xué)》

2023-2024學(xué)年第一學(xué)期期末試卷院(系)_______班級(jí)_______學(xué)號(hào)_______姓名_______題號(hào)一二三總分得分批閱人一、單選題（本大題共20個(gè)小題，每小題2分，共40分．在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是符合題目要求的．）1、對(duì)于半導(dǎo)體材料，其導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間。以下哪種半導(dǎo)體材料常用于集成電路制造？（）A.硅B.鍺C.砷化鎵D.磷化銦2、對(duì)于一種用于儲(chǔ)能飛輪的復(fù)合材料，要提高其能量存儲(chǔ)密度，以下哪種設(shè)計(jì)策略最為關(guān)鍵？（）A.提高轉(zhuǎn)速B.增加飛輪質(zhì)量C.優(yōu)化材料的強(qiáng)度和密度D.改進(jìn)制造工藝3、在研究材料的磨損性能時(shí)，發(fā)現(xiàn)一種材料在摩擦過(guò)程中磨損量較小，表面損傷輕微。以下哪種磨損機(jī)制在這種情況下可能起到了主要作用？（）A.粘著磨損B.磨粒磨損C.疲勞磨損D.氧化磨損4、對(duì)于一種光學(xué)玻璃材料，要降低其折射率，以下哪種成分的調(diào)整可能有效？（）A.增加堿金屬氧化物含量B.增加二氧化硅含量C.增加重金屬氧化物含量D.增加氟化物含量5、在考察一種用于光學(xué)纖維的玻璃材料時(shí)，發(fā)現(xiàn)其在傳輸光信號(hào)時(shí)存在較大的損耗。以下哪種因素最有可能是導(dǎo)致光損耗的主要原因？（）A.雜質(zhì)吸收B.瑞利散射C.非線性效應(yīng)D.以上都是6、高分子材料的阻燃性能可以通過(guò)添加阻燃劑來(lái)提高，那么常見(jiàn)的阻燃劑有哪些類型？（）A.鹵系阻燃劑、磷系阻燃劑、氮系阻燃劑B.無(wú)機(jī)阻燃劑、有機(jī)阻燃劑、膨脹型阻燃劑C.反應(yīng)型阻燃劑、添加型阻燃劑、復(fù)合型阻燃劑D.以上都是7、在研究材料的抗蠕變性能時(shí)，以下哪種材料通常具有較好的抗蠕變性能？（）A.金屬材料B.陶瓷材料C.高分子材料D.復(fù)合材料8、在研究材料的電磁性能時(shí)，發(fā)現(xiàn)一種材料具有良好的磁屏蔽性能。以下哪種微觀結(jié)構(gòu)特征對(duì)其磁屏蔽性能起關(guān)鍵作用？（）A.高磁導(dǎo)率B.低電導(dǎo)率C.均勻的微觀組織D.大量的缺陷9、一種高分子共混物在性能上優(yōu)于其組成的單一聚合物。以下哪種因素對(duì)共混物性能的改善起到了關(guān)鍵作用？（）A.相容性B.分子量C.分子鏈結(jié)構(gòu)D.結(jié)晶度10、在研究金屬材料的再結(jié)晶過(guò)程中，以下關(guān)于再結(jié)晶溫度和影響因素的描述，正確的是（）A.變形程度越大，再結(jié)晶溫度越高B.雜質(zhì)含量增加會(huì)提高再結(jié)晶溫度C.再結(jié)晶溫度與材料的原始晶粒尺寸無(wú)關(guān)D.加熱速度越快，再結(jié)晶溫度越低11、對(duì)于一種光學(xué)材料，需要其在特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有高透明度和低折射率。以下哪種材料最有可能滿足這些要求？（）A.玻璃B.晶體C.塑料D.陶瓷12、在研究材料的輻射損傷時(shí)，發(fā)現(xiàn)一種材料在高能粒子輻照下性能下降。以下哪種微觀缺陷的產(chǎn)生是導(dǎo)致性能下降的主要原因？（）A.空位B.位錯(cuò)環(huán)C.間隙原子D.空洞13、在分析材料的耐磨涂層性能時(shí)，發(fā)現(xiàn)涂層與基體之間的結(jié)合強(qiáng)度對(duì)其耐磨性有重要影響。以下哪種方法可以提高涂層與基體的結(jié)合強(qiáng)度？（）A.增加涂層厚度B.對(duì)基體進(jìn)行預(yù)處理C.降低涂層的硬度D.改變涂層的成分14、在金屬材料的強(qiáng)化機(jī)制中，細(xì)晶強(qiáng)化的主要原理是（）A.增加位錯(cuò)密度B.阻礙位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)C.減小晶粒尺寸D.以上都是15、在研究一種用于芯片制造的光刻膠材料時(shí)，發(fā)現(xiàn)其分辨率難以滿足先進(jìn)制程的要求。以下哪種改進(jìn)途徑可能最為有效？（）A.開(kāi)發(fā)新型光刻技術(shù)B.優(yōu)化光刻膠的化學(xué)配方C.改進(jìn)光刻設(shè)備D.以上都是16、在研究金屬的腐蝕行為時(shí)，發(fā)現(xiàn)一種金屬在特定環(huán)境中表面形成了一層致密的氧化膜，從而有效地阻止了進(jìn)一步的腐蝕。以下哪種金屬的氧化膜具有這種良好的保護(hù)作用？（）A.鋁B.鐵C.銅D.鋅17、在材料的硬度測(cè)試方法中，洛氏硬度測(cè)試通常用于測(cè)量（）A.較硬材料B.較軟材料C.脆性材料D.韌性材料18、對(duì)于一種光學(xué)晶體材料，要提高其光學(xué)均勻性，以下哪種方法可能有效？（）A.優(yōu)化生長(zhǎng)工藝B.進(jìn)行退火處理C.控制雜質(zhì)含量D.以上都有可能19、對(duì)于一種高溫合金，需要在高溫下保持良好的強(qiáng)度和抗氧化性能。以下哪種合金元素的添加最有助于實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)？（）A.鉻B.鎳C.鎢D.鉬20、在分析一種用于電磁波屏蔽的材料時(shí)，發(fā)現(xiàn)其屏蔽效能不足。以下哪種改進(jìn)方法可能有助于提高屏蔽效能？（）A.增加導(dǎo)電填料含量B.構(gòu)建多層結(jié)構(gòu)C.提高材料的磁導(dǎo)率D.以上都是二、簡(jiǎn)答題（本大題共4個(gè)小題，共40分)1、（本題10分）解釋什么是超導(dǎo)磁懸浮，論述其原理和特點(diǎn)，分析超導(dǎo)磁懸浮技術(shù)在交通和能源領(lǐng)域的應(yīng)用前景和面臨的挑戰(zhàn)。2、（本題10分）解釋材料的介電性能和鐵電性能的概念。分析介電材料和鐵電材料的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和性能關(guān)系，并舉例說(shuō)明在電容器和存儲(chǔ)器中的應(yīng)用。3、（本題10分）闡述材料的形狀記憶聚合物的原理和性能特點(diǎn)。分析形狀記憶聚合物的應(yīng)用領(lǐng)域（如自修復(fù)材料和智能紡織品）和發(fā)展趨勢(shì)，并探討其性能優(yōu)化的途徑。4、（本題10分）闡述復(fù)合材料的疲勞性能特點(diǎn)和影響因素，分析與單一材料疲勞性能的差異，并討論如何提高復(fù)合材料的疲勞壽命。三、論述題（本大題共2個(gè)小題，共20分)1、（本題10分）深入探討納米復(fù)合材料