光掩膜前11大企業(yè)占據(jù)全球55%的市場(chǎng)份額

全球市場(chǎng)研究報(bào)告全球市場(chǎng)研究報(bào)告Copyright?QYResearch|market@|光掩膜市場(chǎng)是半導(dǎo)體行業(yè)的一個(gè)重要細(xì)分市場(chǎng)，因?yàn)楣庋谀?duì)于用于制造集成電路（IC）的光刻工藝至關(guān)重要。光掩膜又稱(chēng)網(wǎng)罩，是一種含有微觀圖案的石英板，用于將電路設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)移到硅晶片上。據(jù)調(diào)研團(tuán)隊(duì)最新報(bào)告“全球光掩膜市場(chǎng)報(bào)告2024-2030”顯示，預(yù)計(jì)2030年全球光掩膜市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到82.3億美元，未來(lái)幾年年復(fù)合增長(zhǎng)率CAGR為4.3%。光掩膜，全球市場(chǎng)總體規(guī)模來(lái)源：QYResearch半導(dǎo)體研究中心光掩膜技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)與半導(dǎo)體制造，特別是光刻工藝的整體進(jìn)步密切相關(guān)。以下是當(dāng)前光掩膜市場(chǎng)的一些趨勢(shì)：極紫外（EUV）光刻技術(shù)：隨著半導(dǎo)體器件縮小到納米級(jí)，傳統(tǒng)的光刻方法已達(dá)到物理極限。超紫外光刻被視為下一個(gè)重大進(jìn)步，它使用極短的波長(zhǎng)，可以在硅晶片上制作更小的特征。超紫外掩膜（也稱(chēng)為超紫外網(wǎng)罩）的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用是一大趨勢(shì)，因?yàn)樗鼈冃枰碌牟牧虾椭圃旒夹g(shù)來(lái)承受高能量的超紫外光。多種圖案化技術(shù)：隨著行業(yè)發(fā)展超越28納米節(jié)點(diǎn)，雙圖案化、三圖案化甚至四圖案化等多重圖案化技術(shù)變得越來(lái)越普遍。這些技術(shù)包括使用多個(gè)光掩膜在晶片上打印復(fù)雜的圖案，從而實(shí)現(xiàn)更小、更復(fù)雜的特征。先進(jìn)的掩膜材料：為了支持向更小的節(jié)點(diǎn)發(fā)展，光掩膜制造商正在開(kāi)發(fā)能夠承受先進(jìn)光刻工藝中更苛刻條件的新材料。這包括能承受更高的溫度、耐化學(xué)腐蝕工藝的材料，以及能減少光散射的材料，如相移掩膜。改進(jìn)掩膜檢測(cè)技術(shù)：隨著光掩膜特征的縮小，缺陷變得更加關(guān)鍵和難以檢測(cè)。目前的趨勢(shì)是開(kāi)發(fā)能識(shí)別納米級(jí)缺陷的更先進(jìn)的掩膜檢測(cè)工具。3DNAND內(nèi)存的增長(zhǎng)：3DNAND內(nèi)存的興起帶來(lái)了一系列不同的光掩膜要求。雖然這種存儲(chǔ)器類(lèi)型的3D特性降低了對(duì)最先進(jìn)光掩膜功能的需求，但制造所需的大量掩膜可推動(dòng)市場(chǎng)增長(zhǎng)。自動(dòng)化和軟件：光掩膜生產(chǎn)和檢測(cè)的復(fù)雜性推動(dòng)了自動(dòng)化流程和先進(jìn)軟件在設(shè)計(jì)、模擬和提高產(chǎn)量方面的應(yīng)用。這些工具有助于優(yōu)化掩膜制造流程，縮短新半導(dǎo)體產(chǎn)品的上市時(shí)間。供應(yīng)鏈彈性：受貿(mào)易緊張局勢(shì)和需求增加等各種因素的影響，全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈一直處于緊張狀態(tài)。目前的趨勢(shì)是加強(qiáng)光掩膜供應(yīng)鏈，以確保穩(wěn)定性并降低供應(yīng)中斷的風(fēng)險(xiǎn)。合作與整合：為了應(yīng)對(duì)市場(chǎng)需求和先進(jìn)掩膜開(kāi)發(fā)的高成本，光掩膜制造商、半導(dǎo)體公司和設(shè)備供應(yīng)商之間出現(xiàn)了合作趨勢(shì)。此外，還可能通過(guò)并購(gòu)進(jìn)行行業(yè)整合，以實(shí)現(xiàn)規(guī)模經(jīng)濟(jì)并提高競(jìng)爭(zhēng)定位。這些趨勢(shì)反映了光掩膜技術(shù)的不斷發(fā)展，以滿足先進(jìn)半導(dǎo)體制造工藝的需求，并支持更小、功能更強(qiáng)大的電子設(shè)備的開(kāi)發(fā)。全球光掩膜市場(chǎng)前11強(qiáng)生產(chǎn)商排名及市場(chǎng)占有率（基于2023年調(diào)研數(shù)據(jù)；目前最新數(shù)據(jù)以本公司最新調(diào)研數(shù)據(jù)為準(zhǔn)）來(lái)源：QYResearch半導(dǎo)體研究中心。行業(yè)處于不斷變動(dòng)之中，最新數(shù)據(jù)請(qǐng)聯(lián)系QYResearch咨詢(xún)。全球范圍內(nèi)光掩膜生產(chǎn)商主要包括Photronics、Toppan、DNP、Hoya、SK-Electronics、LGInnotek、清溢光電、臺(tái)灣光罩、NipponFilcon、Compugraphics等。2023年，全球前十強(qiáng)廠商占有大約52.0%的市場(chǎng)份額。光掩膜，全球市場(chǎng)規(guī)模，按產(chǎn)品類(lèi)型細(xì)分，石英掩膜版處于主導(dǎo)地位來(lái)源：QYResearch半導(dǎo)體研究中心就產(chǎn)品類(lèi)型而言，目前石英掩膜版是最主要的細(xì)分產(chǎn)品，占據(jù)大約94.4%的份額。光掩膜，全球市場(chǎng)規(guī)模，按應(yīng)用細(xì)分，半導(dǎo)體芯片是最大的下游市場(chǎng)，占有72.6%份額。來(lái)源：QYResearch半導(dǎo)體研究中心就產(chǎn)品