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文檔簡介
倒易點(diǎn)陣主講:張希清11/22/20241為了研究衍射波的特性,1921年德國物理學(xué)家厄瓦爾德(P.P.Ewald)引入了倒易點(diǎn)陣的概念。倒易點(diǎn)陣是相對于正空間中的晶體點(diǎn)陣而言的,它是衍射波的方向與強(qiáng)度在空間的分布。由于衍射波是由正空間中的晶體點(diǎn)陣與入射波作用形成的,正空間中的一組平行晶面就可以用倒空間中的一個(gè)矢量或陣點(diǎn)來表示。用倒易點(diǎn)陣處理衍射問題時(shí),能使幾何概念更清楚,數(shù)學(xué)推理簡化??梢院唵蔚叵胂螅恳环鶈尉У难苌浠泳褪堑挂c(diǎn)陣在該花樣平面上的投影。五、倒易點(diǎn)陣2倒易點(diǎn)陣定義假定晶體點(diǎn)陣基矢為a1、a2、a3,倒易點(diǎn)陣基矢為a1*、a2*、a3*,a1*、a2*、a3*
由下式定義:abcc*a*b*a*1=(a2×a3)/[a1·(a2×a3)]=(a2×a3)/V
a*2=(a3×a1)/[a2·(a3×a1)]=(a3×a1)/V
a*3=(a1×a2)/[a3·(a1×a2)]=(a1×a2)/V式中:V——陣胞(a1、a2、a3構(gòu)成之平行六面體)體積,按矢量混合積幾何意義,V=a1
(a2×a3)。
3
倒易點(diǎn)陣參數(shù)及
*(a*2與a*3夾角)、
*(a*3與a*1夾角)和
*(a*1與a*2夾角)由正點(diǎn)陣參數(shù)表達(dá)為
a*1=(a2a3sin
)/V
a*2=(a3a1sin
)/V
a*3=(a1a2sin
)/V
cos
*[=(a*2·a*3)/a*2a*3]=(cos
cos
-cos
)/sin
sin
cos
*[=(a*3·a*1)/a*3a*1]=(cos
cos
-cos
)/sin
sin
cos
*[=(a*1·a*2)/a*1a*2]=(cos
cos
-cos
)/sin
sin
4以立方晶系為例:立方晶系有a=b=c,
=
=
,V=a3;將其代入上式,則有
*=90
同理可得b*、c*、
*、
*,即a*=b*=c*=1/a
*=
*=
*=90
5正點(diǎn)陣和倒易點(diǎn)陣中基本平移矢量之間的關(guān)系正點(diǎn)陣基本平移矢量:倒易點(diǎn)陣基本平移矢量:晶胞體積倒易點(diǎn)陣任一基矢和晶體點(diǎn)陣中的兩基矢正交。體積互為倒數(shù).·········6倒易基矢垂直于晶面bc*a*b*100001010ac倒易基矢的方向a*
(100)b*
(010)c*
(001)7與正點(diǎn)陣相同,由倒易點(diǎn)陣基矢可以定義倒易點(diǎn)陣矢量(為整數(shù)),具有以上形式的矢量稱為倒易點(diǎn)陣矢量,同晶體點(diǎn)陣類似,倒易點(diǎn)陣就是由倒易點(diǎn)陣矢量所聯(lián)系的諸點(diǎn)的列陣。倒易矢量:由倒易點(diǎn)陣的原點(diǎn)O至任一倒易點(diǎn)hkl的矢量為G*由倒格子組成的空間,也叫狀態(tài)空間.倒格子是(晶體結(jié)構(gòu))晶格在狀態(tài)空間的化身.倒易矢量*8(1)G*的方向與實(shí)際點(diǎn)陣面(hkl)相垂直,或G
*的方向是實(shí)際點(diǎn)陣面(hkl)的法線方向。(2)G
*的大小等于實(shí)際點(diǎn)陣面(hkl)面間距的倒數(shù),即倒易矢量的兩個(gè)重要性質(zhì)G*幾何意義:
正點(diǎn)陣中的每一組平行晶面(hkl)對應(yīng)于倒易點(diǎn)陣中的一個(gè)點(diǎn),此點(diǎn)處于這組晶面的公共法線上,即倒易矢量方向上;它至原點(diǎn)的距離為該晶面間距的倒數(shù)。9只需證明,則肯定垂直于平面。若離原點(diǎn)最近的晶面,在、、三個(gè)晶軸上的截距為:∵
而
∴
同理∴證明:10面間距d就是或在法線方向的投影,法線方向就是的方向,此時(shí)原點(diǎn)也在晶面族的某一個(gè)平面上,因此只要求出原點(diǎn)與晶面之間的距離即可。1111、每個(gè)倒易矢量(每個(gè)倒易點(diǎn))代表一組晶面,該矢量的方向垂直于所代表的晶面。該矢量的長度為晶面間距的倒數(shù)。倒易點(diǎn)陣的本質(zhì)Oa1a3b3001002003004005006100101102103104105106200201202203204205206300301302303304305306a2b1空間點(diǎn)陣中的(hkl)面在倒易點(diǎn)陣中用一個(gè)結(jié)點(diǎn)表示12電子衍射圖2、實(shí)驗(yàn)中:照相底片上的點(diǎn)是倒易點(diǎn)陣的投影。 照片上的點(diǎn)+投影形式
倒易點(diǎn)陣
實(shí)點(diǎn)陣13晶面間距的計(jì)算晶面間距(面網(wǎng)間距)指兩個(gè)相鄰晶面間的垂直距離。對晶面(hkl),一般用dhkl來表示其晶面間距。一般的規(guī)律是,在空間點(diǎn)陣中,晶面的晶面指數(shù)越小,其晶面間距越大,晶面的結(jié)點(diǎn)密度越大,它的X射線衍射強(qiáng)度越大,它的重要性越大。晶面間距在X射線分析中是十分重要的。14晶面間距的計(jì)算將的定義式代入上式,經(jīng)適當(dāng)運(yùn)算后,即可得各晶系的晶面間距表達(dá)式。15立方晶系:四方晶系:六方晶系:16正交(斜方)單斜三斜17例1某斜方晶體的a=7.417?,b=4.945?,c=2.547?,計(jì)算d110和d200。d110=4.11?,d200=3.71?18干涉指數(shù)若僅考慮晶面的空間方位,則A1,B1,A2,B2,…與A1,A2,A3,…一樣,均以晶面指數(shù)(010)標(biāo)識,但若進(jìn)一步考慮二者晶面間距之不同,則可分別用(010)和(020)標(biāo)識,此即為干涉指數(shù)。
(010)與(020)面(干涉指數(shù)引例)19干涉指數(shù)是對晶面空間方位與晶面間距的標(biāo)識。(晶面指數(shù)只標(biāo)識晶面的空間方位。)
干涉指數(shù)與晶面指數(shù)的關(guān)系:若將(hkl)晶面間距記為dhkl,則晶面間距為dhkl/n(n為正整數(shù))的晶面干涉指數(shù)為(nh
nk
nl),記為(HKL),dhkl/n則記為dHKL。例如晶面間距分別為d110/2,d110/3的晶面,其干涉指數(shù)分別為(220)和(330)。干涉指數(shù)表示的晶面并不一定是晶體中的真實(shí)原子面,即干涉指數(shù)表示的晶面上不一定有原子分布。20(100)a/2a/4(200)(400)原點(diǎn)110220440原點(diǎn)21晶面夾角(其法線間的夾角)的計(jì)算很復(fù)雜,根據(jù)各晶系的特點(diǎn),將倒點(diǎn)陣參數(shù)與正點(diǎn)陣參數(shù)換算,即可得到不同晶系各自的晶面夾角關(guān)系式。22對于等軸(立方)晶體,有:cosΦ=(H1H2+K1K2+L1L2)/[(H12+K12+L12)(H22+K22+L22)]1/2對于四方晶體,有:cosΦ=c2(H1H2+H1H2)+a2L1L2/[[c2(H12+K12)+a2L12]c2(H22+K22)+a2L22]]1/223晶帶晶帶方程:由于同一[uvw]晶帶各(HKL)晶面中法線與晶帶軸垂直,也即各(HKL)面對應(yīng)的倒易矢量r*HKL與晶帶軸垂直,r*HKL?ruvw=0故有
得
Hu+Kv+Lw=0此式稱為晶帶方程(晶帶定理)24同一[uvw]晶帶中各(HKL)面對應(yīng)的倒易(陣)點(diǎn)(及相應(yīng)的倒易矢量)位于過倒易原點(diǎn)O*的一個(gè)倒易(陣點(diǎn))平面內(nèi)。反之,也可以說過O*的每一個(gè)倒易(陣點(diǎn))平面上各倒易點(diǎn)(或倒易矢量
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