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文檔簡介
ICSXX.XXX.XX
CCSXXXX
團(tuán)體標(biāo)準(zhǔn)
T/CSTMXXXXX—202X
鋁制多層復(fù)合釬焊板氧化膜厚度的測試
方法俄歇電子能譜法
Aluminummultilayercompositebrazingplate-Thicknessmeasurementson
oxidationfilm-Augerelectronspectroscopy
202X-XX-XX發(fā)布202X-XX-XX實(shí)施
中關(guān)村材料試驗技術(shù)聯(lián)盟發(fā)布
T/CSTMXXXXX—2023
鋁制多層復(fù)合復(fù)合釬焊板氧化膜厚度測試方法俄歇電子能譜法
重要提示(危險或警告或注意):使用本文件的人員應(yīng)有正規(guī)實(shí)驗室工作的實(shí)踐經(jīng)驗。本文件并未
指出所有可能的安全問題。使用者有責(zé)任采取適當(dāng)?shù)陌踩徒】荡胧⒈WC符合國家有關(guān)法規(guī)規(guī)定的
條件。
1范圍
本文件規(guī)定了俄歇電子能譜法測定鋁制多層復(fù)合釬焊板氧化膜厚度的原理、試驗條件、儀器設(shè)備、
樣品、試驗步驟的方法。
本文件適用于鋁制多層復(fù)合釬焊板氧化膜厚度的測試,其他金屬氧化膜厚度的測定可參考執(zhí)行。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,僅
該日期對應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。
GB/T26533-2011俄歇電子能譜分析方法通則
GB/T35158-2017俄歇電子能譜儀檢定方法
GB/T30702-2014表面化學(xué)分析俄歇電子能譜和X射線光電子能譜實(shí)驗測定的相對靈敏因子在均
勻材料定量分析中的使用指南
3術(shù)語和定義
GB/T22461-2008表面化學(xué)分析詞匯界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。
俄歇電子能譜AugerelectronspectroscopyAES
用電子能譜儀測量自表面發(fā)射俄歇電子能量分布的一種方法。
[來源:GB/T22461—2008表面化學(xué)分析詞匯,4.1]
化學(xué)效應(yīng)chemicaleffects
<AES、EELS、EPMA、XPS>由于化學(xué)鍵合引起元素的譜圖形狀或峰能量的變化。
[來源:GB/T22461—2008,表面化學(xué)分析.詞匯,5.78]
深度剖析profiledepth
沿著與樣品表面垂直的方向測量化學(xué)或元素成分,信號強(qiáng)度或合適軟件處理的強(qiáng)度信息。
[來源:GB/T22461—2008,表面化學(xué)分析.詞匯,5.244]
4原理
利用俄歇電子能譜儀對樣品進(jìn)行深度剖析過程中,基于俄歇電子能量和俄歇線形的變化分析元素的
化學(xué)狀態(tài),通過線性最小二乘法(LLS)進(jìn)行化學(xué)態(tài)分峰擬合,用相對靈敏度因子進(jìn)行定量分析,從而獲
得鋁制多層復(fù)合釬焊板氧化膜的厚度。
3
T/CSTMXXXXX—2023
5儀器設(shè)備
俄歇電子能譜儀(AES)
6樣品制備
鋁制多層復(fù)合釬焊板,保持樣品表面平整和潔凈,切割或者剪裁后,樣品尺寸約為10mm×10mm。
7試驗步驟
7.1樣品安裝
用螺絲和墊片或者導(dǎo)電膠帶將樣品固定在樣品拖上,保證樣品與儀器良好的電接觸,保證樣品分析
面和樣品拖表面平行。
7.2采譜步驟
7.2.1分析位置確認(rèn)
按照儀器操作要求調(diào)節(jié)樣品臺,使樣品臺傾斜軸(Tilt)與水平方向夾角為30°,確認(rèn)最佳分析位
置,如圖1所示。
圖1樣品200倍電子像
7.2.2采集二次電子像
調(diào)整電子槍電壓為10kV,束流10nA,放大倍數(shù)200倍,轉(zhuǎn)動樣品臺使樣品輥壓條紋呈現(xiàn)豎直方
向,如圖1所示。
將圖像放大倍數(shù)提高到500倍,選取50微米×50微米的測試區(qū)域,如圖2所示。
4
T/CSTMXXXXX—2023
圖2500倍電子像和測試區(qū)域
7.2.3采集全譜
設(shè)定入射能量為10kV,設(shè)定分析能量范圍為20eV至1820eV,步長1.5eV,循環(huán)次數(shù)推薦
10次。對積分譜9點(diǎn)SavGol平滑,5點(diǎn)Derivat微分得到微分全譜,見圖3。
圖3微分全譜
7.2.4采集窄譜
窄譜能量范圍按照元素俄歇峰能量范圍選取,建議步長0.1eV。循環(huán)次數(shù)推薦10次。圖4中AlKLL
分析能量范圍為1350eV至1420eV。
5
T/CSTMXXXXX—2023
AlKLL
金屬鋁
強(qiáng)度/(c/s)氧化鋁
13501360137013801390140014101420
動能/eV
圖4AlKLL窄譜能量范圍
8試驗數(shù)據(jù)處理
8.1計算測量化合物得到的元素相對靈敏度因子
按照GB/T30702-2014中A.3.2.3的要求計算測量化合物得到的元素相對靈敏度因子,見式
(1)。
Iref
Eci()
SSirefkey......................................................................1
XIikey
式中:
SEc
i指定化合物中元素i的元素相對靈敏度因子
Iref
i參考樣品中元素i的測量強(qiáng)度
Xref
i參考樣品中元素i的原子分?jǐn)?shù)
Ikey關(guān)鍵材料中的測量強(qiáng)度
關(guān)聯(lián)材料中的元素相對靈敏度因子
選擇Ag為參考物質(zhì)采集俄歇譜圖。選取電子槍發(fā)射電壓10kV、束流10nA,相對靈敏度因子
為0.364。利用式(1)計算鋁制復(fù)合釬焊板中金屬鋁(Al2)和氧化鋁(Al4)的測量化合物得到的元素
相對靈敏度因子。
為了降低表面污染對氧化膜厚度測量結(jié)果的影響,建議使用10kV電子槍入射能量。
表1給出了入射能量為10kV,筒鏡型分析器(CMA)測得的鋁制復(fù)合釬焊板中金屬鋁價態(tài)(Al2)
和氧化鋁價態(tài)(Al4)的元素相對靈敏度因子計算值,其他類型分析器按照式(1)計算。
6
T/CSTMXXXXX—2023
表1金屬鋁價態(tài)(Al2)和氧化鋁價態(tài)(Al4)的元素相對靈敏度因子計算值
化合物價態(tài)名稱化合物元素相對靈敏度因子
金屬鋁Al20.082
氧化鋁Al40.078
8.2氧化層厚度計算
深度剖析過程中,采集AlKLL窄譜,對積分窄譜9點(diǎn)SavGol平滑,5點(diǎn)Derivat微分得到微分窄譜。
用LSS法,對AlKLL進(jìn)行金屬鋁價態(tài)和氧化鋁價態(tài)的分峰擬合,擬合后使用表1中計算得到的金屬鋁Al
2和氧化鋁Al4的相對靈敏度因子進(jìn)行定量分析,求出原子百分含量隨相對深度的剖析譜,譜圖中
Al2.1st和Al4.1st交叉的位置對應(yīng)相對深度就是氧化層的厚度,見圖5。
100
90C1.1st
O1.1st
氧化層厚度≈4.3nm
80Al2.1st
Al4.1st
70Mg4.1st
/ac%
60
50
40MetalAl
原子百分含量30
OxideAl
20
10
0
0246810
濺射深度/nm
圖5氧化層厚度
9精密度
本文件的精密度已通過試驗驗證,精密度原始數(shù)據(jù)見附錄B
氧化膜厚度重復(fù)性限再現(xiàn)性限
rR
10試驗報告
試驗報告應(yīng)當(dāng)包括下列內(nèi)容:
a)儀器校準(zhǔn)日期。
b)離子槍濺射速率和濺射面積。
c)全譜以微分譜形式輸出,在譜圖上標(biāo)出元素,還應(yīng)標(biāo)出俄歇躍遷類型。
d)窄譜以積分譜形式輸出。
7
T/CSTMXXXXX—2023
e)深度譜圖,在譜圖上標(biāo)出氧化層厚度。
f)環(huán)境溫度、環(huán)境濕度、分析日期、檢驗人、聯(lián)系方式、樣品信息和儀器參數(shù)信息。
8
T/CSTMXXXXX—2023
附錄B
(資料性)
精密度原始數(shù)據(jù)
為了選擇合適的試驗條件,本試驗設(shè)定3種入射能量的參數(shù),考察入射能量對鋁制多層復(fù)合釬焊板
氧化膜厚度測量穩(wěn)定性的影響。每種入射能量的樣品重復(fù)測試5次,以膜厚的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD值為考
察對象。
入射能量膜氧化膜厚度(nm)RSD
(kV)
12345
104.404.424.314.544.540.10
54.854.545.234.564.450.32
34.484.734.274.684.690.19
9
T/CSTMXXXXX—2023
附錄C
(資料性)
起草單位和主要起草人
本文件起草單位:清華大學(xué),大連大學(xué),西安交通大學(xué)
本文件主要起草人:楊立平,段建霞,姚文清,王艦,高星星,陳玉
10
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